JPH05148694A - 配線基板用電気めつき装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 被めっき配線基板の主面などに、容易に均一
な厚さのめっき層を被着形成し得る電気めっき装置。 【構成】 めっき槽本体１と、このめっき槽本体１内に
配置されたアノード５と、このアノード５に対向して被
めっき基板２をめっき槽本体１内のめっき液３内に浸漬
支持する支持体（めっき治具）４と、この支持体４によ
り浸漬支持される被めっき基板２に対面する側に複数の
開放部８を有し、かつアノード５を囲繞して配設された
遮蔽ユニット９と、この遮蔽ユニット９を被めっき基板
２に対してほぼ平行に往復動させる可動手段10,11,12
と、前記被めっき基板２に所要のめっき電流を供給する
電気回路14とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は配線基板用電気めっき装
置に係り、特に基板の主面にパネル銅めっきやパターン
銅めっきを施すのに適した配線基板用電気めっき装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえばプリント配線板（配線基板）の
製造工程において、絶縁基板の主面に所要の導体層ない
し回路パタ―ンを形成する一手段として、電気めっき法
が知られている。すなわち、絶縁基板たとえばフェノ―
ル樹脂系などの積層板の表面に、予め張り合せられた薄
い銅箔層や化学めっき層上、あるいはスルホール内壁面
を含む回路パタ―ン上に、電気銅めっき層を被着形成
し、所要厚の導体層または回路パタ―ンを構成する手段
が知られている。

【０００３】そして、このような電気めっき処理を施す
ために、図４に概略構成を断面的に示すような電気めっ
き装置が使用されている。すなわち、電気めっき槽本体
１と、被めっき基板２を支持してめっき槽本体１に収容
されためっき液３中に浸漬するめっき治具４とを備えた
電気めっき装置が使用されている。なお、前記めっき治
具４は、整流器を介して電源に連結され、支持する被め
っき基板２をカソード（陰極）として機能させる。また
図４において、５はプラス側電源に連結されたアノード
（陽極）であり、ネット状のアノードケース６に収納さ
れてめっき槽本体１内に配置されている。

【０００４】このように構成されている電気めっき装置
による配線基板に対する電気めっきは、次のようにして
行われる。すなわち、サイズや回路パタ―ン面積ないし
密度が同じ被めっき基板２ごとに対応しためっき治具４
を用意し、まためっき電流を調整して金属陽イオンのカ
ソード（被めっき基板２）への移動量をコントロール
し、これにより所要のめっき層の被着形成を図ってい
る。また、周りから被めっき基板２への電流、すなわち
金属陽イオンの回り込みを防止するために、アノード５
とカソード（被めっき基板２）との間のめっき槽本体１
底部および側部に、遮蔽板７を固定配置している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た電気めっき装置の場合には、次のような問題があっ
た。すなわち、遮蔽板７の配置によって、めっき槽本体
１の底部および側部からの金属陽イオンの回り込みを防
止し得るが、図５に銅めっきの場合を例に採って分布状
態を模式的に示すごとく、アノード５とカソード（被め
っき基板２）との極間距離が、被めっき基板２の各部で
異なるため、銅イオンが集中する箇所が生じる。そのた
め、析出するめっき層の厚さに±5μm 程度のばらつき
を生じ、信頼性の高い配線基板が得られないという問題
があった。

【０００６】本発明は上記問題を解決するためになされ
たもので、金属陽イオンの移動によって生じる電流の方
向をコントロールすることにより、基板の表面などに容
易に均一な厚さのめっき層を被着形成し得る配線基板用
電気めっき装置の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る配線基板用
電気めっき装置は、めっき槽本体と、前記めっき槽本体
内に配置されたアノードと、前記前記アノードに対向し
て被めっき基板をめっき槽本体内のめっき液中に浸漬支
持する支持体と、前記支持体により浸漬支持される被め
っき基板に対面する側に複数の開放部を有し、かつアノ
ードを囲繞して配設された遮蔽ユニットと、前記遮蔽ユ
ニットを被めっき基板に対してほぼ平行に往復動させる
可動手段と、前記被めっき基板に所要のめっき電流を供
給する電気回路とを具備してなることを特徴とする。

【０００８】

【作用】本発明に係る配線基板用電気めっき装置によれ
ば、アノードの周りにそれを囲繞するように遮蔽ユニッ
トが配設されており、かつその遮蔽ユニットの被めっき
基板と対面する側に複数の開放部が設けられているの
で、アノードから放出された金属陽イオンのうちで遮蔽
ユニットの開放部を通り抜けたイオンだけが、カソード
である被めっき基板に到達する。つまり、金属陽イオン
の放出方向、換言するとめっき電流の流れる方向が、遮
蔽ユニットの開放部の位置方向に限定される。そして、
このような遮蔽ユニットが可動手段により被めっき基板
に平行な方向に往復動され、開放部の位置も同じ方向に
移動するので、それにともなってめっき電流の方向が周
期的に変化する。その結果、被めっき基板の主面などに
均一な厚さのめっき層が被着形成されることになる。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。

【００１０】図１および図２は、それぞれ本発明に係る
配線基板用電気めっき装置の要部構成例を示したもの
で、図１は正面図、図２は上面図である。なお図１で
は、わかりやすいように被めっき基板とそれを支持する
めっき治具を省略して示した。

【００１１】これらの図において、１は電気めっき槽本
体、２は被めっき基板、３は前記電気めっき槽本体１内
に収容されためっき液、４は前記被めっき基板２を支持
し、後述するアノードに対向するようにめっき液３中に
浸漬するめっき治具（支持体）を示す。また５は、銅ボ
ールなどのアノードであり、ネット状のアノードケース
６に収納されてめっき槽本体１内に配置されている。さ
らに、前記アノード５全体は、めっき支持体（治具）４
に支持されて電気めっき槽本体１内に浸漬配置される被
めっき基板２と対面する側の面に、一定の間隔で複数の
縦スリット状の開放部８が設けられた箱形の遮蔽ユニッ
ト９により囲繞されている。そして、この遮蔽ユニット
９の上部フランジ部は、めっき槽本体１の上端部に横架
配置されたレール１０に、ローラ１１を介して係止され
ており、かつ片端にはエアーシリンダ１２が連結されて
いる。ここで、前記エアーシリンダ１２はエアー切替え
弁１３によって、その動作が制御される構成を成してい
る。つまり、遮蔽ユニット９は、エアーシリンダ１２に
よって、レール１０に沿った左右の方向に往復移動可能
に構成されている。

【００１２】さらに、１４は被めっき基板２にカソード
給電部を介して所要のめっき電流を供給する一方、アノ
ード５にアノード給電部を介して所要のめっき電流を供
給する電気回路を、１５は遮蔽ユニット９内などにめっ
き液３の一定方向の流れを生じさせる循環手段であり、
めっき液注入用配管１６とめっき液吸出用配管１７、お
よび循環ポンプ１８を具備している。

【００１３】次に、上記構成の配線基板用電気めっき装
置の動作ないし使用例について説明する。まず、めっき
支持体（治具）４に所要の被めっき基板２を装着し、電
気めっき槽本体１内に収容されているめっき液３に浸漬
させる。そして、この状態で循環ポンプ１８を作動さ
せ、電気めっき槽本体１内のめっき液３を循環させる一
方、エアーシリンダ１２を作動させ、遮蔽ユニット９を
レール１０に沿って移動させる。このとき、左または右
の方向に所要の限度まで移動したら、エアー切替え弁１
３の切り替えによりエアーシリンダ１２の動作方向を反
対方向とし、この動作を適宜繰り返すことにより、遮蔽
ユニット９を連続的に往復運動させる。このように、め
っき液３の循環および遮蔽ユニット９の移動を行いなが
ら、めっき電流を供給する電気回路１４を駆動し、所要
の電気めっき処理を進行させる。

【００１４】そして、このようなめっき処理工程におい
ては、図３(a) 、(b) に銅めっきの場合を例に採って模
式的に示すごとく、アノード５から放出された銅イオン
のうちで、遮蔽ユニット９の開放部８を通り抜けたもの
だけが、カソードである被めっき基板２に到達するの
で、遮蔽ユニット９の開放部８の位置方向にだけめっき
電流が流れることになる。また、このような開放部８を
有する遮蔽ユニット９が、エアーシリンダ１２により被
めっき基板２の主面にほぼ平行な方向に往復運動させら
れ、この往復運動に伴い開放部８も追従して連続的に移
動するので、めっき電流の方向が周期的に変化する。し
たがって、被めっき基板２の主面において、アノード５
との位置や距離などに影響されず、全体的にばらつきが
なく均一な厚さのめっき層が被着形成される。具体的に
は、めっき層の厚さのばらつきを±2 μm まで低下させ
ることができる。

【００１５】なお、上記構成例では、被めっき基板２の
主面にほぼ平行な方向に遮蔽ユニット９を往復運動させ
る手段として、エアーシリンダ１２をエアー切替え弁１
３により切り替え、かつレール１０に沿わせ往復運動さ
せたが、この遮蔽ユニット９の連続的な往復運動（開放
部８の移動）手段は、勿論前記例示の手段に限定されな
い。

【００１６】

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
係る配線板用電気めっき装置によれば、アノードからカ
ソードへの金属陽イオンの移動により生じるめっき電流
の方向が、一方向に偏らずに分散されるため、配線基板
の主面などに所望の厚さの均一なめっき層を容易に被着
形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る配線基板用電気めっき装置の要部
構成例を示す正面図。

【図２】本発明に係る配線基板用電気めっき装置の要部
構成例を示す上面図。

【図３】本発明に係る配線基板用電気めっき装置におけ
るめっき電流の分布を模式的に示すもので、ａは遮蔽ユ
ニットがある位置にあるときの電流の分布状態を示す平
面図、ｂは遮蔽ユニットが前記ａの位置から開放部を移
動させたときの電流分布を示す平面図。

【図４】従来の配線基板用電気めっき装置の要部構成を
示す正面図。

【図５】従来の配線基板用電気めっき装置におけるめっ
き電流の分布状態を模式的に示す平面図。

【符号の説明】

１…電気めっき槽本体 ２…被めっき基板 ３…め
っき液 ４…被めっき基板支持体（めっき治具） ５
…アノード ６…アノードケース ７…遮蔽板
８…開放部 ９…遮蔽ユニット １０…レール
１１…ローラ１２…エアーシリンダ １３…エアー切
替え弁 １４…めっき電流供給電気回路１５…めっき
液循環手段 １６…めっき液注入用配管 １７…め
っき液吸出用配管 １８…循環ポンプ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 めっき槽本体と、前記めっき槽本体内に
   配置されたアノード（陽極）と、前記アノードに対向さ
   せて被めっき基板をめっき槽本体内のめっき液に浸漬支
   持する支持体と、前記支持体によりめっき液に浸漬支持
   される被めっき基板に対面する側に複数の開放部を有
   し、かつアノードを囲繞して配設された遮蔽ユニット
   と、前記遮蔽ユニットを被めっき基板に対してほぼ平行
   に往復動させる可動手段と、前記被めっき基板に所要の
   めっき電流を供給する電気回路とを具備してなることを
   特徴とする配線基板用電気めっき装置。