JPH05143956A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH05143956A JPH05143956A JP3303255A JP30325591A JPH05143956A JP H05143956 A JPH05143956 A JP H05143956A JP 3303255 A JP3303255 A JP 3303255A JP 30325591 A JP30325591 A JP 30325591A JP H05143956 A JPH05143956 A JP H05143956A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- magnetic recording
- shield layer
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 非磁性支持体上に磁気層及び磁気シールド層
を有する磁気記録媒体において、前記磁気シールド層の
塗膜密度が２．０〜６．０g／cm3の範囲にあることを特
徴とする磁気記録媒体。 【効果】 本発明の磁気記録媒体は、従来の磁気記録媒
体に対して高磁気シールド化と高分解能化を実現しうる
ものである。その結果、偽造防止に優れ、また、多層構
造化にも対応可能となるため、磁気記録媒体としての利
用範囲が拡大する。
を有する磁気記録媒体において、前記磁気シールド層の
塗膜密度が２．０〜６．０g／cm3の範囲にあることを特
徴とする磁気記録媒体。 【効果】 本発明の磁気記録媒体は、従来の磁気記録媒
体に対して高磁気シールド化と高分解能化を実現しうる
ものである。その結果、偽造防止に優れ、また、多層構
造化にも対応可能となるため、磁気記録媒体としての利
用範囲が拡大する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関し、更に詳しくは、偽造防止機能を有する
磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
製造方法に関し、更に詳しくは、偽造防止機能を有する
磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気カードは、通常カード支持体上に磁
性層を設けて構成され、銀行のＣＤカード、クレジット
カード等として広く使用されている。一方、これらの磁
気カードの普及につれて、カードに記録された信号を読
み取る技術も発達し、カードの偽造、変造も容易となっ
てきており、社会問題化している。
性層を設けて構成され、銀行のＣＤカード、クレジット
カード等として広く使用されている。一方、これらの磁
気カードの普及につれて、カードに記録された信号を読
み取る技術も発達し、カードの偽造、変造も容易となっ
てきており、社会問題化している。
【０００３】磁気カードの偽造又は変造を防止する技術
としては、例えば、特公昭５８−４７５３１号公報、特
公昭５８−５０４９４号公報に開示された技術もその一
つである。これらの技術は、磁気カード基板上の磁気記
録再生用の磁性膜の上部もしくは上下に低保磁力の軟磁
性材料から成る合金を金属膜化し上記磁気膜に積層する
ことにより、もしくは、粉末化した低保磁力の軟磁性材
料から成る合金を溶剤により溶解された結合剤中に分散
させてなる塗布液を上記磁性膜に塗布することにより、
磁気的に保護し一般のヘッドでは上記磁気膜への記録再
生が不可能となるものである。しかし、一般的には特公
昭５８−４７５３１号公報に開示されているように、信
頼性、生産性の観点より低保磁力の軟磁性材料から成る
合金粉末を溶剤により溶解された結合剤中に分散させて
なる塗布液を塗布することにより、磁気膜を磁気的に保
護する方法を行なっている。
としては、例えば、特公昭５８−４７５３１号公報、特
公昭５８−５０４９４号公報に開示された技術もその一
つである。これらの技術は、磁気カード基板上の磁気記
録再生用の磁性膜の上部もしくは上下に低保磁力の軟磁
性材料から成る合金を金属膜化し上記磁気膜に積層する
ことにより、もしくは、粉末化した低保磁力の軟磁性材
料から成る合金を溶剤により溶解された結合剤中に分散
させてなる塗布液を上記磁性膜に塗布することにより、
磁気的に保護し一般のヘッドでは上記磁気膜への記録再
生が不可能となるものである。しかし、一般的には特公
昭５８−４７５３１号公報に開示されているように、信
頼性、生産性の観点より低保磁力の軟磁性材料から成る
合金粉末を溶剤により溶解された結合剤中に分散させて
なる塗布液を塗布することにより、磁気膜を磁気的に保
護する方法を行なっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例に記載の磁
気記録媒体は、磁気記録再生用の磁気膜を、低保磁力の
軟磁性材料から成る合金を結合剤中に分散させて成る磁
気シールド層により磁気的に保護する必要性から、磁気
シールド層内の低保磁力の軟磁性材料から成る合金粉末
を所定量必要とする為、磁気シールド層を２０μｍ前後
塗布する必要があった。
気記録媒体は、磁気記録再生用の磁気膜を、低保磁力の
軟磁性材料から成る合金を結合剤中に分散させて成る磁
気シールド層により磁気的に保護する必要性から、磁気
シールド層内の低保磁力の軟磁性材料から成る合金粉末
を所定量必要とする為、磁気シールド層を２０μｍ前後
塗布する必要があった。
【０００５】しかしながら、磁気的に十分保護する為磁
気シールド層を厚くしていくと、低保磁力の軟磁性材料
から成る合金粉末以外の成分（例えば、結合剤等）が増
していく為、スペーシングロスが増加し、再生時の再生
出力が指数関数的に低下し、また、分解能も低くなる傾
向が見受けられる。
気シールド層を厚くしていくと、低保磁力の軟磁性材料
から成る合金粉末以外の成分（例えば、結合剤等）が増
していく為、スペーシングロスが増加し、再生時の再生
出力が指数関数的に低下し、また、分解能も低くなる傾
向が見受けられる。
【０００６】これは、上記記載の特公昭５８−４７５３
１号公報に開示された技術の問題点である。
１号公報に開示された技術の問題点である。
【０００７】一方、最近の磁気カードは、磁気記録層の
上部に印刷層や印字層を設ける傾向があり、今まで以上
に分解能に優れた磁気カードを求められている。
上部に印刷層や印字層を設ける傾向があり、今まで以上
に分解能に優れた磁気カードを求められている。
【０００８】以上のことから、上記従来の磁気記録媒体
では、磁気カードとしての利用範囲が非常に限られてし
まい、汎用性がないという問題点を有していた。
では、磁気カードとしての利用範囲が非常に限られてし
まい、汎用性がないという問題点を有していた。
【０００９】本発明が解決しようとする課題は、高磁気
シールド性で、かつ高出力、高分解能の磁気記録媒体を
提供することにある。
シールド性で、かつ高出力、高分解能の磁気記録媒体を
提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、磁気シールド層
の塗膜密度を所定の範囲に限定することにより、所定の
磁気シールド性及び再生出力、分解能が得られることを
見い出し、本発明を解決するに至った。
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、磁気シールド層
の塗膜密度を所定の範囲に限定することにより、所定の
磁気シールド性及び再生出力、分解能が得られることを
見い出し、本発明を解決するに至った。
【００１１】即ち、本発明は、非磁性支持体上に磁気層
及び磁気シールド層を有する磁気記録媒体において、前
記磁気シールド層の塗膜密度が２．０〜６．０g／cm3の
範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
及び磁気シールド層を有する磁気記録媒体において、前
記磁気シールド層の塗膜密度が２．０〜６．０g／cm3の
範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
【００１２】以下、図面を用いて、本発明について詳し
く説明する。
く説明する。
【００１３】図１及び図２に本発明の磁気記録媒体の代
表的な構成を記載した。
表的な構成を記載した。
【００１４】図中、１は非磁性体から成る基材、１ａは
カード表面、１ｂはカード裏面、２は磁気層、３、３ａ
及び３ｂは磁気シールド層を夫々表わす。
カード表面、１ｂはカード裏面、２は磁気層、３、３ａ
及び３ｂは磁気シールド層を夫々表わす。
【００１５】図１に記載の磁気シールド層３、３ａ及び
３ｂは、磁気層２の全面あるいは部分的に設けられてい
る。
３ｂは、磁気層２の全面あるいは部分的に設けられてい
る。
【００１６】非磁性体から成る基材１は、シート状ある
いは板状を呈しており、この基材の材料としては、例え
ば、塩化ビニル、ナイロン、セルロースジアセテート、
セルローストリアセテート、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ
カーボネート等のプラスチック類もしくは、；銅、アル
ミニウム等の金属；紙、含浸紙；及びこれらの材料の複
合体が挙げられ、これら以外であっても、磁気カードに
必要な強度、剛性、隠蔽性、光透過性を有するものであ
れば、特に制限なく使用できる。
いは板状を呈しており、この基材の材料としては、例え
ば、塩化ビニル、ナイロン、セルロースジアセテート、
セルローストリアセテート、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ
カーボネート等のプラスチック類もしくは、；銅、アル
ミニウム等の金属；紙、含浸紙；及びこれらの材料の複
合体が挙げられ、これら以外であっても、磁気カードに
必要な強度、剛性、隠蔽性、光透過性を有するものであ
れば、特に制限なく使用できる。
【００１７】磁気層２は、例えば、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ
被着γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ2、 Ｆｅ、Ｆｅ−
Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＭｎＡ
ｌ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の従来公知の磁
性粉を溶剤により溶解された結合剤中に分散させてなる
塗布液をグラビア方式、リバース方式、ナイフエッジ方
式等の公知の方法によって塗布した後、乾燥前あるいは
乾燥中に磁場配向処理を施すことによって、非磁性体か
ら成る基材上に形成することができる。磁気層は、一層
でも良いが、このようにして形成されたものを重層した
ものでも良い。
被着γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ2、 Ｆｅ、Ｆｅ−
Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＭｎＡ
ｌ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の従来公知の磁
性粉を溶剤により溶解された結合剤中に分散させてなる
塗布液をグラビア方式、リバース方式、ナイフエッジ方
式等の公知の方法によって塗布した後、乾燥前あるいは
乾燥中に磁場配向処理を施すことによって、非磁性体か
ら成る基材上に形成することができる。磁気層は、一層
でも良いが、このようにして形成されたものを重層した
ものでも良い。
【００１８】磁気シールド層３、３ａ、３ｂは、例え
ば、Ｎｉ−Ｆｅ−α（αはＭｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｎｂ、Ｔ
ａの少なくとも１種類を含んでいる系）の如きＮｉ−Ｆ
ｅ系；Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ−α（αはＣｒ、Ｔｉ、Ｃｕの
少なくとも１種類を含んでいる系）の如きＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系；Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−α（αはＮｂ、Ｃｒ、Ｎｉ、
Ｃｕ、Ｚｎの少なくとも１種類を含んでいる系）の如き
Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系；ＣｏＦｅＳｉＢ系、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎ
ｂ系、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ系の如きアモルファス合金系；
ＦｅＣｏ系、ＦｅＣｏＳｉＡｌ系、Ｆｅ−（Ａｌ，Ｇ
ａ）−（Ｓｉ，Ｇｅ）系、ＦｅＧａＳｉＲｕ系の如きＦ
ｅ系等の従来公知の低保磁力の軟磁性材料から成る合金
粉末を、溶剤により溶解された結合剤中に分散させてな
る塗布液を調製し、この塗布液をグラビア方式、リバー
ス方式、ナイフエッジ方式等の公知の方法によって磁気
層の上部に塗布した後、乾燥前あるいは乾燥中に磁場配
向処理を施すことによって、非磁性体から成る基材上に
形成することができる。このようにして得られた磁気シ
ールド層に対して、更に後行程として、磁気シールド層
に加熱加圧処理を施すこともできる。
ば、Ｎｉ−Ｆｅ−α（αはＭｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｎｂ、Ｔ
ａの少なくとも１種類を含んでいる系）の如きＮｉ−Ｆ
ｅ系；Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ−α（αはＣｒ、Ｔｉ、Ｃｕの
少なくとも１種類を含んでいる系）の如きＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系；Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−α（αはＮｂ、Ｃｒ、Ｎｉ、
Ｃｕ、Ｚｎの少なくとも１種類を含んでいる系）の如き
Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系；ＣｏＦｅＳｉＢ系、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎ
ｂ系、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ系の如きアモルファス合金系；
ＦｅＣｏ系、ＦｅＣｏＳｉＡｌ系、Ｆｅ−（Ａｌ，Ｇ
ａ）−（Ｓｉ，Ｇｅ）系、ＦｅＧａＳｉＲｕ系の如きＦ
ｅ系等の従来公知の低保磁力の軟磁性材料から成る合金
粉末を、溶剤により溶解された結合剤中に分散させてな
る塗布液を調製し、この塗布液をグラビア方式、リバー
ス方式、ナイフエッジ方式等の公知の方法によって磁気
層の上部に塗布した後、乾燥前あるいは乾燥中に磁場配
向処理を施すことによって、非磁性体から成る基材上に
形成することができる。このようにして得られた磁気シ
ールド層に対して、更に後行程として、磁気シールド層
に加熱加圧処理を施すこともできる。
【００１９】また、磁気シールド層３、３ａ、３ｂは、
非磁性体から成る基材上に直接塗布した後、磁気層を形
成させ、その後、上記処置を施すこともできる。
非磁性体から成る基材上に直接塗布した後、磁気層を形
成させ、その後、上記処置を施すこともできる。
【００２０】Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系等の低保磁力の軟磁性
材料から成る合金粉末を分散させる結合剤としては、例
えば、ブチラール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース系
樹脂、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合樹脂
等が挙げられ、これら樹脂に、必要に応じて、ニトリル
ゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等を
添加することもできる。また、低保磁力の軟磁性材料か
ら成る合金粉末が上記樹脂中に分散されて成る塗布液中
に、必要に応じて、界面活性剤、各種カップリング剤、
可塑剤、ワックスシリコンオイル、カーボンその他の顔
料を添加することもできる。
材料から成る合金粉末を分散させる結合剤としては、例
えば、ブチラール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース系
樹脂、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合樹脂
等が挙げられ、これら樹脂に、必要に応じて、ニトリル
ゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等を
添加することもできる。また、低保磁力の軟磁性材料か
ら成る合金粉末が上記樹脂中に分散されて成る塗布液中
に、必要に応じて、界面活性剤、各種カップリング剤、
可塑剤、ワックスシリコンオイル、カーボンその他の顔
料を添加することもできる。
【００２１】低保磁力の軟磁性材料から成る合金粉末を
分散させる樹脂の使用量は、低保磁力の軟磁性材料から
成る合金粉末１００重量部当たり１０〜３０重量部の範
囲が好ましい。
分散させる樹脂の使用量は、低保磁力の軟磁性材料から
成る合金粉末１００重量部当たり１０〜３０重量部の範
囲が好ましい。
【００２２】磁場配向の方法としては、例えば、永久磁
石、ソレノイドコイル等で発生させた磁場の中に、１の
非磁性体から成る基材上、もしくは１の非磁性体から成
る基材上に２の磁気層が構成された状態の上に塗布され
た磁気シールドを通過させることによって行なう。
石、ソレノイドコイル等で発生させた磁場の中に、１の
非磁性体から成る基材上、もしくは１の非磁性体から成
る基材上に２の磁気層が構成された状態の上に塗布され
た磁気シールドを通過させることによって行なう。
【００２３】磁場配向装置としては、ソレノイドコイル
もしくは、Ｎ．Ｎ及びＳ．Ｓ反発対向磁石が好ましい。
もしくは、Ｎ．Ｎ及びＳ．Ｓ反発対向磁石が好ましい。
【００２４】また、配向磁場は、一般的に、磁性粉の保
磁力の３倍〜４倍の磁場強度で配向処理を行なう。これ
は、４倍で特性が飽和してしまうからである。しかし、
低保磁力から成る軟磁性合金粉の場合は、粉末形状等の
理由から磁場強度によって飽和しない。上記の理由か
ら、配向磁場は大きければ大きいほど良い。
磁力の３倍〜４倍の磁場強度で配向処理を行なう。これ
は、４倍で特性が飽和してしまうからである。しかし、
低保磁力から成る軟磁性合金粉の場合は、粉末形状等の
理由から磁場強度によって飽和しない。上記の理由か
ら、配向磁場は大きければ大きいほど良い。
【００２５】加熱加圧の方法としては、カレンダー、プ
レス機等、例えば、５段カレンダー装置で処理する場
合、処理温度は、３０〜１５０℃の範囲が好ましく、６
０〜１００℃の範囲が特に好ましい。圧力は、１０〜２
００kg／cm2 の範囲が好ましく、５０〜１００kg／cm2
の範囲が特に好ましい。また、処理速度は、１〜５００
ｍ／mmの範囲が好ましく、２０〜２００ｍ／mmの範囲が
特に好ましい。
レス機等、例えば、５段カレンダー装置で処理する場
合、処理温度は、３０〜１５０℃の範囲が好ましく、６
０〜１００℃の範囲が特に好ましい。圧力は、１０〜２
００kg／cm2 の範囲が好ましく、５０〜１００kg／cm2
の範囲が特に好ましい。また、処理速度は、１〜５００
ｍ／mmの範囲が好ましく、２０〜２００ｍ／mmの範囲が
特に好ましい。
【００２６】シールド層の膜厚については、シールド塗
料塗布後、乾燥厚で５〜５０μｍの範囲が好ましく、特
に１０〜２０μｍの範囲が特に好ましい。
料塗布後、乾燥厚で５〜５０μｍの範囲が好ましく、特
に１０〜２０μｍの範囲が特に好ましい。
【００２７】また、加熱加圧処理を行なう場合の乾燥後
厚は、上記と同様に５〜５０μｍの範囲が好ましく特に
１０〜２０μｍの範囲が特に好ましい。但し、加熱加圧
処理を行なった方がより好ましい。
厚は、上記と同様に５〜５０μｍの範囲が好ましく特に
１０〜２０μｍの範囲が特に好ましい。但し、加熱加圧
処理を行なった方がより好ましい。
【００２８】また、本発明の磁気記録媒体の磁気シール
ド層３、３ａ、３ｂ上に必要に応じて、印字層、保護
層、印刷層等を設けることもできる。
ド層３、３ａ、３ｂ上に必要に応じて、印字層、保護
層、印刷層等を設けることもできる。
【００２９】
【実施例】以下に本発明を実施例により説明する。実施
例中、「％」及び「部」は、各々「重量％」及び「重量
部」を表わす。
例中、「％」及び「部」は、各々「重量％」及び「重量
部」を表わす。
【００３０】＜磁気シールド塗料の調製＞「センダスト
粉末」（粉末組成：Ａｌ５％、Ｓｉ１０％、Ｆｅ８５
％、粉末形状：鱗片状、平均粒径１５μｍ）１００部、
「Ｂｙｋｍｅｎ」（ビックケミー・ジャパン株式会社製
高分子量不飽和酸エステル）０．１部、「ビニライトＶ
ＹＨＨ」（米国ユニオンカーバイド社製塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体樹脂）１０部、「Ｔ−５２０６］（大
日本インキ化学工業社製ウレタン樹脂）１０部、トルエ
ン４０部、メチルエチルケトン４０部、及びシクロヘキ
サノン４０部をボールミルに入れ、２４時間分散混合し
て磁気シールド塗料を得た。
粉末」（粉末組成：Ａｌ５％、Ｓｉ１０％、Ｆｅ８５
％、粉末形状：鱗片状、平均粒径１５μｍ）１００部、
「Ｂｙｋｍｅｎ」（ビックケミー・ジャパン株式会社製
高分子量不飽和酸エステル）０．１部、「ビニライトＶ
ＹＨＨ」（米国ユニオンカーバイド社製塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体樹脂）１０部、「Ｔ−５２０６］（大
日本インキ化学工業社製ウレタン樹脂）１０部、トルエ
ン４０部、メチルエチルケトン４０部、及びシクロヘキ
サノン４０部をボールミルに入れ、２４時間分散混合し
て磁気シールド塗料を得た。
【００３１】＜磁性塗料の調製＞「ＭＣ−１２７］（戸
田工業（株）社製バリウムフェライト磁性粉）１００
部、「ＶＡＧＨ」（米国ユニオンカーバイド社製塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂）１０部、「Ｔ−５２０
６」１０部、トルエン１００部、メチルエチルケトン１
００部、シクロヘキサノン１００部をボールミルに入れ
２４時間分散混合することによって、磁性塗料を得た。
田工業（株）社製バリウムフェライト磁性粉）１００
部、「ＶＡＧＨ」（米国ユニオンカーバイド社製塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂）１０部、「Ｔ−５２０
６」１０部、トルエン１００部、メチルエチルケトン１
００部、シクロヘキサノン１００部をボールミルに入れ
２４時間分散混合することによって、磁性塗料を得た。
【００３２】（実施例１）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００３３】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍ、となるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁
石にて印加磁場２，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布
面をカレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗
膜膜密度が４．０g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍ、となるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁
石にて印加磁場２，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布
面をカレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗
膜膜密度が４．０g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００３４】（実施例２）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００３５】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、ソレノイドコイルに
て印加磁場２，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布面を
カレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗膜密
度が４．２g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、ソレノイドコイルに
て印加磁場２，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布面を
カレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗膜密
度が４．２g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００３６】（実施例３）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００３７】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、ソレノイドコイルに
て印加磁場７，０００Ｏｅで配向処理して磁気シールド
層の塗膜密度が４．０g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、ソレノイドコイルに
て印加磁場７，０００Ｏｅで配向処理して磁気シールド
層の塗膜密度が４．０g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００３８】（実施例４）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００３９】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁石
にて印加磁場６，０００Ｏｅで配向処理して磁気シール
ド層の塗膜密度が３．８g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁石
にて印加磁場６，０００Ｏｅで配向処理して磁気シール
ド層の塗膜密度が３．８g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００４０】（実施例５）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００４１】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁石
にて印加磁場６，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布面
をカレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗膜
密度が５．３g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁石
にて印加磁場６，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布面
をカレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗膜
密度が５．３g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００４２】（実施例６）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００４３】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、ソレノイドコイルに
て印加磁場７，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布面を
カレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗膜密
度が５．５g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、ソレノイドコイルに
て印加磁場７，０００Ｏｅで配向処理した後、塗布面を
カレンダーで加熱加圧処理して磁気シールド層の塗膜密
度が５．５g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００４４】（比較例１）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００４５】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布して磁気シールド層の塗
膜密度が２．０g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布して磁気シールド層の塗
膜密度が２．０g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００４６】（比較例２）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
ンテレタレートシート上に、上記磁性塗料をリバース方
式で、乾燥膜厚が６μｍと成るように全面塗布し、磁場
印加による配向した後、加熱乾燥して磁気記録層を形成
した。
【００４７】次に、上記磁気記録層上に、上記磁気シー
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁石
にて印加磁場８００Ｏｅで配向処理して磁気シールド層
の塗膜密度が２．３g／cm3の磁気記録媒体を得た。
ルド塗料をリバース方式にて乾燥膜厚が５μｍ、１５μ
ｍ、２５μｍとなるように塗布し、Ｎ．Ｎ反発対向磁石
にて印加磁場８００Ｏｅで配向処理して磁気シールド層
の塗膜密度が２．３g／cm3の磁気記録媒体を得た。
【００４８】実施例及び比較例で得られた各磁気記録媒
体をカード状に打ち抜き、磁気カードリーダーライタに
て、読み取り再生出力電圧及び漏洩出力電圧を測定し
た。
体をカード状に打ち抜き、磁気カードリーダーライタに
て、読み取り再生出力電圧及び漏洩出力電圧を測定し
た。
【００４９】図３に、磁気記録層に記録した記録密度２
００ＦＣＩ、記録電流１，０００ｍＡの読み取り再生出
力特性と磁気シールド層の膜厚との関係を示した。ま
た、図４に、磁気記録層に記録した記録密度２００ＦＣ
Ｉ、記録電流１，０００ｍＡの漏洩出力特性と磁気シー
ルド層の膜厚密度の関係を示した。更に、図５及び図６
に読み取り出力及び漏洩出力における周波数特性を示し
た。ここでの周波数特性は、磁気シード層厚１５μｍの
データにした。
００ＦＣＩ、記録電流１，０００ｍＡの読み取り再生出
力特性と磁気シールド層の膜厚との関係を示した。ま
た、図４に、磁気記録層に記録した記録密度２００ＦＣ
Ｉ、記録電流１，０００ｍＡの漏洩出力特性と磁気シー
ルド層の膜厚密度の関係を示した。更に、図５及び図６
に読み取り出力及び漏洩出力における周波数特性を示し
た。ここでの周波数特性は、磁気シード層厚１５μｍの
データにした。
【００５０】以上の結果から明らかなように、読み取り
再生出力、漏洩出力及び分解能が著しく向上した。
再生出力、漏洩出力及び分解能が著しく向上した。
【００５１】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、従来の磁気記
録媒体に対して高磁気シールド化と高分解能化を実現し
得るものである。その結果、偽造防止に優れ、また、多
層構造化にも対応可能となるため、磁気記録媒体として
の利用範囲が拡大する。
録媒体に対して高磁気シールド化と高分解能化を実現し
得るものである。その結果、偽造防止に優れ、また、多
層構造化にも対応可能となるため、磁気記録媒体として
の利用範囲が拡大する。
【図１】本発明の磁気記録媒体の層構成の一例を示す断
面図である。
面図である。
１ 支持体 ２ 一層及び多層の磁気層 ３ 磁気シールド層
【図２】本発明の磁気記録媒体の層構成の一例を示す断
面図である。
面図である。
１ 支持体 １ａ カード表面 １ｂ カード裏面 ２ 一層及び多層の磁気層 ３ａ 磁気シールド層 ３ｂ 磁気シールド層
【図３】実施例及び比較例で得た各磁気記録媒体の磁気
シールド層の厚みと、記録されたデータの読み取り再生
出力電圧との関係を示した図表である。
シールド層の厚みと、記録されたデータの読み取り再生
出力電圧との関係を示した図表である。
【図４】実施例及び比較例で得た各磁気記録媒体の磁気
シールド層の厚みと、記録されたデータの漏洩出力電圧
の関係を示した図表である。
シールド層の厚みと、記録されたデータの漏洩出力電圧
の関係を示した図表である。
【図５】実施例及び比較例で得た各磁気記録媒体の各周
波数における再生出力電圧を示した図表である。
波数における再生出力電圧を示した図表である。
【図６】実施例及び比較例で得た各磁気記録媒体の各周
波数における漏洩出力電圧を示した図表である。
波数における漏洩出力電圧を示した図表である。
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に磁気層及び磁気シール
ド層を有する磁気記録媒体において、前記磁気シールド
層の塗膜密度が２．０〜６．０g／cm3の範囲にあること
を特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 ２，０００〜１０，０００ガウスの範囲
にある磁場で配向処理された磁気シールド層を有するこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 加熱加圧処理された磁気層及び磁気シー
ルド層を有することを特徴とする請求項１又は２記載の
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3303255A JPH05143956A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3303255A JPH05143956A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05143956A true JPH05143956A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=17918754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3303255A Pending JPH05143956A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05143956A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7111383B2 (en) * | 2000-09-01 | 2006-09-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming a head assembly |
-
1991
- 1991-11-19 JP JP3303255A patent/JPH05143956A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7111383B2 (en) * | 2000-09-01 | 2006-09-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming a head assembly |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3198184B2 (ja) | 磁気ストライプ付きプラスチックカード | |
| JPH05143956A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0250528B2 (ja) | ||
| JP2561455B2 (ja) | 磁気記録再生装置 | |
| JP3051644B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH03244598A (ja) | 磁気カード及びその製造方法 | |
| JPH05143959A (ja) | 磁気カード用記録媒体 | |
| JPH04286718A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP3456232B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその読み取り方法 | |
| JP2789703B2 (ja) | 磁気記録カードの製造方法 | |
| JPH05182187A (ja) | 磁気カード | |
| JPH0252414B2 (ja) | ||
| JP2005190652A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3669479B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3084342B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2636542B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその情報読み取り方法 | |
| JP3112997B2 (ja) | 複合記録媒体 | |
| JP3344659B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0528468A (ja) | 磁気転写記録体及び磁気カード | |
| JP2001126241A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH03256799A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63209023A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH11110735A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 | |
| JPH1040535A (ja) | 磁気カード | |
| JPH09320047A (ja) | 磁気記録媒体 |