JPH05128439A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘツドの製造方法

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Publication number
JPH05128439A
JPH05128439A JP28484091A JP28484091A JPH05128439A JP H05128439 A JPH05128439 A JP H05128439A JP 28484091 A JP28484091 A JP 28484091A JP 28484091 A JP28484091 A JP 28484091A JP H05128439 A JPH05128439 A JP H05128439A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic head
film magnetic
substrate
glass
adhesive layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP28484091A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromasa Tsukamoto
弘昌 塚本
Junzo Wakuta
順三 涌田
Masato Kawanishi
真人 川西
Mitsuhiko Yoshikawa
光彦 吉川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】この発明は、薄膜磁気ヘッド基板に保護板を接
着する際、接着剤として用いられるガラスに気泡が発生
しないようにするためになされた。 【構成】薄膜磁気ヘッド基板表面にCr,Ti,Wなど
の金属層9を形成し、これを(真空)熱処理したのちガ
ラス4を塗布した保護板5を接着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関し、特に、薄膜磁気ヘッドパターンを形成され
た基板上に保護基板を溶着することを必要とする薄膜磁
気ヘッドの保護基板溶着工程の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気ヘッドと記録媒体が接触して記録再
生を行う方式の磁気ヘッドは長時間磁気媒体と接触する
ため、摺動面の磨耗が問題となる。そこで一般的に薄膜
磁気ヘッドは図4に示す構造で耐磨耗性が良く、かつ薄
膜磁気ヘッドパターン基板との線膨張係数がマッチング
しているセラミック基板5をヘッド保護板として薄膜磁
気ヘッドパターン上に接着剤を用いて接着し、薄膜磁気
ヘッドの耐磨耗性を向上させることが一般的に行われて
いる。
【0003】接着剤としては無機系接着剤(特にガラ
ス)が用いられるが、薄膜磁気ヘッドは、高温にさらさ
れると磁気特性が劣化するため比較的低温(600℃以
下)で接着する必要がある。低温でも充分に強い強度で
ガラス接着するために、あらかじめ接着面の全面にガラ
スを塗布またはスパッタリングで成膜する方法が考えら
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】塗布法は、粉末ガラス
を有機溶剤と混合してペースト状にし、これを塗布印刷
したのち媒体である有機溶剤を蒸発させガラスを溶解さ
せが、熱処理時にガラス内部に気泡が生じ、できあがっ
た磁気ヘッドの摺動面(ガラス接着剤層)に穴が開いて
しまうことが多かった。このように摺動面に穴があると
耐湿面特性の悪化やテープ走行時のテープへの傷等の問
題が発生する。
【0005】一方、スパッタ方式はSiO2 等無機系材
料の保護膜を成膜する方法と同様に工程が長くなりコス
ト的にも不利である。
【0006】塗布法で気泡が発生する原因は、上部コア
のパシベーション層のSiO2 とガラスとが溶着時に高
温で反応するために生じるものである。そこで、この気
泡発生防止と、SiO2 とガラスとの接着性を上げ応力
を低下させるための解決策としてパシベーション層のS
iO2 の上部に接着層としてCr,Ti,W等の金属層
を設けることにより、SiO2 とガラスとの反応性気泡
の多くは抑えることができた。しかしこの方法でも、ガ
ラス接着層の気泡を皆無にすることができなかった。そ
の結果、気泡による不良が発生し、製品歩留りの低下が
避けられなかった。
【0007】この発明は、SiO2 とガラスとの反応性
気泡を皆無にし、且つ、ヘッドの内部応力の少ない薄膜
磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明は、薄膜磁気ヘ
ッドの製造工程において、ヘッドパターンを形成した基
板上にCr,Ti,W等で金属層を形成し、この金属層
を熱処理もしくは真空熱処理したのち、この基板とヘッ
ド保護板とをガラスの溶着によって接着することを特徴
とする。
【0009】
【作用】この発明では、ヘッドパターンを形成した基板
上にCr,Ti,W等の金属層を形成して熱処理した。
これによってガラスとの接着性が良くなり薄膜磁気ヘッ
ドパターン基板と保護板との接着が容易になる。さら
に、これらの金属とガラスとは不活性であるためガラス
接着層部での気泡はなくなり、かつ薄膜磁気ヘッド自体
の応力を低下させるようになる。
【0010】
【実施例】本発明が適用されるマルチトラック薄膜磁気
ヘッドのヘッドパターンの断面概略図を図1に示す。さ
らに、図3はこの薄膜磁気ヘッドのパターンが形成され
た基板の断面図であり、図2は保護板の断面図である。
【0011】まず、Mn−Znフェライト基板1に、A
2 3でギャップ層6をスパッタリング法により形成
する。この上に、絶縁層8,コイル7,絶縁層8,上部
コア層2,パシベーション層3,金属接着層9を順次積
層形成してゆく。金属接着層9はCr,Ti,W等から
なっている。これによって薄膜磁気ヘッドパターン基板
11(図3)を作製する。
【0012】一方、Mn−Znフェライト基板5上にガ
ラスペースト層4を印刷・焼成することにより、保護板
10を作製する。
【0013】前記工程で作製された薄膜磁気ヘッドパタ
ーン基板11を真空中で400〜600℃の温度で熱処
理する。熱処理された薄膜磁気ヘッドパターン基板11
を前記保護板10と溶着させることにより、図1に示す
マルチトラック薄膜磁気ヘッドを作製する。
【0014】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
金属接着層を塗布したのち(真空)熱処理することによ
り、保護板接着後のガラス接着層に気泡が含まれること
がなくなり、簡略な工程で気泡を皆無にすることができ
る。また、金属接着層とガラスとは接着性がよいため内
部応力が小さい理想的な薄膜磁気ヘッドを作製すること
ができる。これにより、コスト的に安価で高信頼性の薄
膜磁気ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用される薄膜磁気ヘッドの断面図
【図2】同薄膜磁気ヘッドの保護板の断面図
【図3】同薄膜磁気ヘッドのパターン基板の断面図
【図4】従来の薄膜磁気ヘッドの断面図
【符号の説明】
1−基板 2−上部コア 3−パシベーション膜 4−ガラス接着層 5−保護板 9−金属接着層 10−(ガラスを塗布された)保護板 11−薄膜磁気ヘッドパターン基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉川 光彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 薄膜磁気ヘッドの製造工程において、 ヘッドパターンを形成した基板上にCr,Ti,W等で
    金属層を形成し、この金属層を熱処理もしくは真空熱処
    理したのち、この基板とヘッド保護板とをガラスの溶着
    によって接着することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
JP28484091A 1991-10-30 1991-10-30 薄膜磁気ヘツドの製造方法 Pending JPH05128439A (ja)

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JP28484091A JPH05128439A (ja) 1991-10-30 1991-10-30 薄膜磁気ヘツドの製造方法

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JPH05128439A true JPH05128439A (ja) 1993-05-25

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JP (1) JPH05128439A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8574729B2 (en) * 2008-04-23 2013-11-05 Tdk Corporation Magnetic structure including two ferromagnetically coupled magnetic layers and method of manufacturing same

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