JPH05127014A - カラーフイルタ用ブラツクマスク - Google Patents
カラーフイルタ用ブラツクマスクInfo
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- JPH05127014A JPH05127014A JP28957791A JP28957791A JPH05127014A JP H05127014 A JPH05127014 A JP H05127014A JP 28957791 A JP28957791 A JP 28957791A JP 28957791 A JP28957791 A JP 28957791A JP H05127014 A JPH05127014 A JP H05127014A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶表示パネル等に利用されるカラーフィル
タのブラックマスクに関し、パターンの高精度化等を目
的とする。 【構成】 ガラス基板２のカラーフィルタ用ブラックマ
スク21,22 が、金属クロム層21b,22a と酸化金属クロム
層21a,22b の２層構成、またはタンタルと酸化タンタル
の２層構成、またはアルミニウムと酸化アルミニウムの
２層構成とする。ガラス基板２のカラーフィルタ用ブラ
ックマスク23が、金属クロム層23b をその厚さ方向に一
対の酸化金属クロム層23a,23c で挟んだ３層構成、また
はタンタル層をその厚さ方向に一対の酸化タンタル層で
挟んだ３層構成、またはアルミニウム層をその厚さ方向
に一対の酸化アルミニウム層で挟んだ３層構成とする。
ガラス基板２のカラーフィルタ用ブラックマスク24が、
金属クロム膜またはタンタル膜またはアルミニウム膜の
不要部を除去したのち、該除去に伴う露呈面に酸化処理
を施して形成させる。
タのブラックマスクに関し、パターンの高精度化等を目
的とする。 【構成】 ガラス基板２のカラーフィルタ用ブラックマ
スク21,22 が、金属クロム層21b,22a と酸化金属クロム
層21a,22b の２層構成、またはタンタルと酸化タンタル
の２層構成、またはアルミニウムと酸化アルミニウムの
２層構成とする。ガラス基板２のカラーフィルタ用ブラ
ックマスク23が、金属クロム層23b をその厚さ方向に一
対の酸化金属クロム層23a,23c で挟んだ３層構成、また
はタンタル層をその厚さ方向に一対の酸化タンタル層で
挟んだ３層構成、またはアルミニウム層をその厚さ方向
に一対の酸化アルミニウム層で挟んだ３層構成とする。
ガラス基板２のカラーフィルタ用ブラックマスク24が、
金属クロム膜またはタンタル膜またはアルミニウム膜の
不要部を除去したのち、該除去に伴う露呈面に酸化処理
を施して形成させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示パネル等
に用いるカラーフィルタに使用するブラックマスク、特
に、カラーフィルタを形成したガラス基板の“きらつ
き”を少なくする、ブラックマスクに発生するピンホー
ルの影響をなくすための構成に関するものである。
に用いるカラーフィルタに使用するブラックマスク、特
に、カラーフィルタを形成したガラス基板の“きらつ
き”を少なくする、ブラックマスクに発生するピンホー
ルの影響をなくすための構成に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】薄型，軽量，低消費電力等の特徴を有す
ることによって、ＯＡ機器，パソコン，携帯用テレビ等
に需要が拡大しつつある液晶表示パネルは、カラー表示
が一般化されるようになり、将来的には、壁掛けテレビ
ジョン等の新規製品に対する適応性が見込まれ、一層の
需要拡大が期待されている。
ることによって、ＯＡ機器，パソコン，携帯用テレビ等
に需要が拡大しつつある液晶表示パネルは、カラー表示
が一般化されるようになり、将来的には、壁掛けテレビ
ジョン等の新規製品に対する適応性が見込まれ、一層の
需要拡大が期待されている。
【０００３】かかるカラー液晶表示パネルには、単純マ
トリックス方式とアクティブマトリックス方式とが、代
表的なものとして知られている。アクティブマトリック
ス方式は、表示品質に優れるも製造技術が難しく、高価
格になるという難点がある。単純マトリックス方式は、
表示品質においてアクティブマトリックス方式より劣る
が、低価格で製造できるという利点がある。
トリックス方式とアクティブマトリックス方式とが、代
表的なものとして知られている。アクティブマトリック
ス方式は、表示品質に優れるも製造技術が難しく、高価
格になるという難点がある。単純マトリックス方式は、
表示品質においてアクティブマトリックス方式より劣る
が、低価格で製造できるという利点がある。
【０００４】何れの場合も、透明基板に赤（Ｒ),緑
（Ｇ),青（Ｂ）３色の画素からなるカラーフィルタを形
成し、それら３色の画素を選択的に駆動して混色し、任
意のカラー表示を行わせるようになる。
（Ｇ),青（Ｂ）３色の画素からなるカラーフィルタを形
成し、それら３色の画素を選択的に駆動して混色し、任
意のカラー表示を行わせるようになる。
【０００５】図９は従来のカラー液晶表示パネルの主要
構成を示す断面図である。表示パネル１は、カラーフィ
ルタおよび第１の透明電極６等を上面に形成した第１の
ガラス基板２と、第２の透明電極９等を下面に形成した
第２のガラス基板８との間に、液晶11を充填してなる。
ただし、12は液晶充填用シール材、13はガラス基板２の
下面に被着した偏光板、14はガラス基板８の上面に被着
した偏光板である。
構成を示す断面図である。表示パネル１は、カラーフィ
ルタおよび第１の透明電極６等を上面に形成した第１の
ガラス基板２と、第２の透明電極９等を下面に形成した
第２のガラス基板８との間に、液晶11を充填してなる。
ただし、12は液晶充填用シール材、13はガラス基板２の
下面に被着した偏光板、14はガラス基板８の上面に被着
した偏光板である。
【０００６】ガラス基板２のカラーフィルタは、ガラス
基板２の上面にブラックマスク３を形成し、ブラックマ
スク３の多数の画素用の透孔を埋めるように、それぞれ
多数の赤色画素４R,緑色画素４G,青色画素４B を形成し
てなる。一般に、金属クロムにてなるブラックマスク３
は、厚さ1000Å程度のクロム蒸着膜を通常のホトリソグ
ラフィ技術によって形成し、色別に順次形成させる画素
４R,４G,４B の厚さ２μm 程度である。
基板２の上面にブラックマスク３を形成し、ブラックマ
スク３の多数の画素用の透孔を埋めるように、それぞれ
多数の赤色画素４R,緑色画素４G,青色画素４B を形成し
てなる。一般に、金属クロムにてなるブラックマスク３
は、厚さ1000Å程度のクロム蒸着膜を通常のホトリソグ
ラフィ技術によって形成し、色別に順次形成させる画素
４R,４G,４B の厚さ２μm 程度である。
【０００７】ガラス基板２に形成し電気的絶縁性を有す
るトップコート層５は、厚さが１〜２μm 程度であり、
画素４R,４G,４B の凹凸を平坦化すると共にブラックマ
スク３に対し透明電極６を電気的に隔離する。
るトップコート層５は、厚さが１〜２μm 程度であり、
画素４R,４G,４B の凹凸を平坦化すると共にブラックマ
スク３に対し透明電極６を電気的に隔離する。
【０００８】トップコート層５の上に形成し、図紙の厚
さ方向に整列する多数本の透明電極６および、ガラス基
板８に形成し図の左右方向に整列する多数本の透明電極
９は厚さが0.２μm 程度であり、透明電極６および透明
電極９を覆う配向膜10の厚さは0.05μm 程度である。
さ方向に整列する多数本の透明電極６および、ガラス基
板８に形成し図の左右方向に整列する多数本の透明電極
９は厚さが0.２μm 程度であり、透明電極６および透明
電極９を覆う配向膜10の厚さは0.05μm 程度である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来のカラーフィルタにおいてクロム膜をホトエッチン
グしてなるブラックマスク３は、画素用の透孔を形成す
るパターン形成する露光工程で、クロム膜を透過しレジ
ストパターンの下に廻り込む定在波によって、解像性が
悪くなりパターン幅が不均一にばらつくようになり、一
層の微細化が困難であった。
従来のカラーフィルタにおいてクロム膜をホトエッチン
グしてなるブラックマスク３は、画素用の透孔を形成す
るパターン形成する露光工程で、クロム膜を透過しレジ
ストパターンの下に廻り込む定在波によって、解像性が
悪くなりパターン幅が不均一にばらつくようになり、一
層の微細化が困難であった。
【００１０】また、ブラックマスク３自体が導電性であ
るため、多数の画素４R,４G,４B を平坦化し画素間隙間
を少なくしても、透明電極６を形成するにはトップコー
ト層５をなくすことができず、かつ、特にソーダガラス
にてなるガラス基板２ではガラス基板２よりの析出物に
よってブラックマスク３にピンホールが生成され易く、
トップコート層５の電気的絶縁性が損なわれる。
るため、多数の画素４R,４G,４B を平坦化し画素間隙間
を少なくしても、透明電極６を形成するにはトップコー
ト層５をなくすことができず、かつ、特にソーダガラス
にてなるガラス基板２ではガラス基板２よりの析出物に
よってブラックマスク３にピンホールが生成され易く、
トップコート層５の電気的絶縁性が損なわれる。
【００１１】さらに、ガラス基板２の下面からの光を反
射し易いため、“きらつき（室内の照明光等がきらきら
反射すること）”によって、液晶表示パネルに使用した
とき表示品質が低下するという問題点があった。
射し易いため、“きらつき（室内の照明光等がきらきら
反射すること）”によって、液晶表示パネルに使用した
とき表示品質が低下するという問題点があった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決を目的
とした本発明のブラックマスクは、その基本構成を示す
図１(イ),(ロ) によれば、多数の色画素間に対応する如く
ガラス基板２に形成したブラックマスク21,22 が、金属
クロム層21b,22a と酸化金属クロム層21a,22bの２層構
成、またはタンタルと酸化タンタルの２層構成、または
アルミニウムと酸化アルミニウムの２層構成にする。
とした本発明のブラックマスクは、その基本構成を示す
図１(イ),(ロ) によれば、多数の色画素間に対応する如く
ガラス基板２に形成したブラックマスク21,22 が、金属
クロム層21b,22a と酸化金属クロム層21a,22bの２層構
成、またはタンタルと酸化タンタルの２層構成、または
アルミニウムと酸化アルミニウムの２層構成にする。
【００１３】または、本発明によるブラックマスクの他
の基本構成を示す図１(ハ) によれば、多数の色画素間に
対応する如くガラス基板２に形成したブラックマスク23
が、金属クロム層23b をその厚さ方向に一対の酸化金属
クロム層23a,23c で挟んだ３層構成、またはタンタル層
をその厚さ方向に一対の酸化タンタル層で挟んだ３層構
成、またはアルミニウム層をその厚さ方向に一対の酸化
アルミニウム層で挟んだ３層構成にする。
の基本構成を示す図１(ハ) によれば、多数の色画素間に
対応する如くガラス基板２に形成したブラックマスク23
が、金属クロム層23b をその厚さ方向に一対の酸化金属
クロム層23a,23c で挟んだ３層構成、またはタンタル層
をその厚さ方向に一対の酸化タンタル層で挟んだ３層構
成、またはアルミニウム層をその厚さ方向に一対の酸化
アルミニウム層で挟んだ３層構成にする。
【００１４】または、本発明によるブラックマスクの他
の基本構成を示す図１(ニ) によれば、多数の色画素間に
対応する如くガラス基板２に形成したブラックマスク24
が、ガラス基板２に被着した金属クロム膜またはタンタ
ル膜またはアルミニウム膜の不要部を除去したのち、該
除去に伴う露呈面に酸化処理を施した構成にする。
の基本構成を示す図１(ニ) によれば、多数の色画素間に
対応する如くガラス基板２に形成したブラックマスク24
が、ガラス基板２に被着した金属クロム膜またはタンタ
ル膜またはアルミニウム膜の不要部を除去したのち、該
除去に伴う露呈面に酸化処理を施した構成にする。
【００１５】
【作用】上記手段によれば、ブラックマスクをその厚さ
方向に酸化金属層の組み合わせ構成とする。かかる構成
において酸化金属層（酸化金属クロム層）は、非酸化金
属層（金属クロム層）よりも照射光の定在波を抑制し、
ガラス基板から不純物が析出し難くする効果があり、か
つ、非導電性である。
方向に酸化金属層の組み合わせ構成とする。かかる構成
において酸化金属層（酸化金属クロム層）は、非酸化金
属層（金属クロム層）よりも照射光の定在波を抑制し、
ガラス基板から不純物が析出し難くする効果があり、か
つ、非導電性である。
【００１６】従って、ホトエッチングを利用したブラッ
クマスクのパターン形成に際し、前記定在波の抑制効果
によってパターンの高精度化および微細化を可能とし、
前記不純物の析出抑制効果および非導電性を有すること
によって、ブラックマスクの上面に接触する導体パター
ン (透明電極) の形成を可能とする。
クマスクのパターン形成に際し、前記定在波の抑制効果
によってパターンの高精度化および微細化を可能とし、
前記不純物の析出抑制効果および非導電性を有すること
によって、ブラックマスクの上面に接触する導体パター
ン (透明電極) の形成を可能とする。
【００１７】
【実施例】図１は本発明による各種ブラックマスクの基
本構成を示す断面図、図２は図１(イ) に示すブラックマ
スクの製造工程の説明図、図３は図１(ロ) に示すブラッ
クマスクの製造工程の説明図、図４は図１(ハ)に示すブ
ラックマスクの製造工程の説明図、図５は図１(ニ) に示
すブラックマスクの製造工程の説明図、図６は図１(ハ)
に示すブラックマスクを使用したカラーフィルタの主要
製造工程の説明図、図７は図６に示すカラーフィルタを
使用した液晶表示パネルの一部を示す断面図、図８は本
発明のブラックマスクを使用した他の実施例による液晶
表示パネル用カラーフィルタの断面図である。
本構成を示す断面図、図２は図１(イ) に示すブラックマ
スクの製造工程の説明図、図３は図１(ロ) に示すブラッ
クマスクの製造工程の説明図、図４は図１(ハ)に示すブ
ラックマスクの製造工程の説明図、図５は図１(ニ) に示
すブラックマスクの製造工程の説明図、図６は図１(ハ)
に示すブラックマスクを使用したカラーフィルタの主要
製造工程の説明図、図７は図６に示すカラーフィルタを
使用した液晶表示パネルの一部を示す断面図、図８は本
発明のブラックマスクを使用した他の実施例による液晶
表示パネル用カラーフィルタの断面図である。
【００１８】図１(イ) において、ガラス基板２の上面に
形成したブラックマスク21は、酸化金属クロム層21a に
金属クロム層21b を積層した２層構成である。ただし、
金属クロムに替えてタンタルを使用したときは、酸化タ
ンタル層にタンタル層を積層した２層構成とし、金属ク
ロムに替えてアルミニウムを使用したときは、酸化アル
ミニウム層にアルミニウム層を積層した２層構成とす
る。
形成したブラックマスク21は、酸化金属クロム層21a に
金属クロム層21b を積層した２層構成である。ただし、
金属クロムに替えてタンタルを使用したときは、酸化タ
ンタル層にタンタル層を積層した２層構成とし、金属ク
ロムに替えてアルミニウムを使用したときは、酸化アル
ミニウム層にアルミニウム層を積層した２層構成とす
る。
【００１９】かかるブラックマスク21の製造例は、図２
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、例えば
厚さ100Å程度の酸化金属クロム膜21c をガラス基板２
に被着したのち、金属クロムにてなるターゲット，酸素
を含まない反応性ガスを用いたスパッタリングによっ
て、酸化金属クロム膜21c の上に例えば厚さ1000Å程度
の金属クロム膜21d を被着し、金属クロム膜21d の上に
形成したレジストパターン25, 硝酸第二セリウム系等の
エッチング液を用いたホトエッチングによって、酸化金
属クロム膜21c,金属クロム膜21d の不要部を除去する。
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、例えば
厚さ100Å程度の酸化金属クロム膜21c をガラス基板２
に被着したのち、金属クロムにてなるターゲット，酸素
を含まない反応性ガスを用いたスパッタリングによっ
て、酸化金属クロム膜21c の上に例えば厚さ1000Å程度
の金属クロム膜21d を被着し、金属クロム膜21d の上に
形成したレジストパターン25, 硝酸第二セリウム系等の
エッチング液を用いたホトエッチングによって、酸化金
属クロム膜21c,金属クロム膜21d の不要部を除去する。
【００２０】図１(ロ) において、ガラス基板２の上面に
形成したブラックマスク22は、金属クロム層22a に酸化
金属クロム層22b を積層した２層構成である。ただし、
金属クロムに替えてタンタルを使用したときは、タンタ
ル層に酸化タンタル層を積層した２層構成とし、金属ク
ロムに替えてアルミニウムを使用したときは、アルミニ
ウム層に酸化アルミニウム層を積層した２層構成とす
る。
形成したブラックマスク22は、金属クロム層22a に酸化
金属クロム層22b を積層した２層構成である。ただし、
金属クロムに替えてタンタルを使用したときは、タンタ
ル層に酸化タンタル層を積層した２層構成とし、金属ク
ロムに替えてアルミニウムを使用したときは、アルミニ
ウム層に酸化アルミニウム層を積層した２層構成とす
る。
【００２１】かかるブラックマスク22の製造例は、図３
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
まない反応性ガスを用いたスパッタリングによって、例
えば厚さ1000Å程度の金属クロム膜22c をガラス基板２
に被着したのち、金属クロムにてなるターゲット，酸素
を含む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、金
属クロム膜22c の上に例えば厚さ 400Å程度の酸化金属
クロム膜22d を被着する。なお、酸化金属クロム膜22d
の他の生成方法としては、金属クロム膜22c の表面を熱
酸化させる。
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
まない反応性ガスを用いたスパッタリングによって、例
えば厚さ1000Å程度の金属クロム膜22c をガラス基板２
に被着したのち、金属クロムにてなるターゲット，酸素
を含む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、金
属クロム膜22c の上に例えば厚さ 400Å程度の酸化金属
クロム膜22d を被着する。なお、酸化金属クロム膜22d
の他の生成方法としては、金属クロム膜22c の表面を熱
酸化させる。
【００２２】しかるのち、レジストパターン25, 硝酸第
二セリウム系等のエッチング液を用いたホトエッチング
によって、金属クロム膜22c,酸化金属クロム膜22d の不
要部を除去する。
二セリウム系等のエッチング液を用いたホトエッチング
によって、金属クロム膜22c,酸化金属クロム膜22d の不
要部を除去する。
【００２３】図１(ハ) において、ガラス基板２の上面に
形成したブラックマスク23は、酸化金属クロム層23a と
金属クロム層23b と酸化金属クロム層23c を積層した３
層構成である。ただし、金属クロムに替えてタンタルを
使用したときは、タンタル層を一対の酸化タンタル層で
挟む３層構成とし、金属クロムに替えてアルミニウムを
使用したときは、アルミニウム層を一対の酸化アルミニ
ウム層で挟む３層構成とする。
形成したブラックマスク23は、酸化金属クロム層23a と
金属クロム層23b と酸化金属クロム層23c を積層した３
層構成である。ただし、金属クロムに替えてタンタルを
使用したときは、タンタル層を一対の酸化タンタル層で
挟む３層構成とし、金属クロムに替えてアルミニウムを
使用したときは、アルミニウム層を一対の酸化アルミニ
ウム層で挟む３層構成とする。
【００２４】かかるブラックマスク23の製造例は、図４
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、ガラス
基板２の上面に例えば厚さ 100Å程度の酸化金属クロム
膜23d をガラス基板２に被着し、次いで、金属クロムに
てなるターゲット，酸素を含まない反応性ガスを用いた
スパッタリングによって、酸化金属クロム膜23d の上に
例えば厚さ1000Å程度の金属クロム膜23e を被着したの
ち、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含む反応性
ガスを用いたスパッタリングによって、金属クロム膜23
e の上に例えば厚さ 400Å程度の酸化金属クロム膜23f
を積層する。
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、ガラス
基板２の上面に例えば厚さ 100Å程度の酸化金属クロム
膜23d をガラス基板２に被着し、次いで、金属クロムに
てなるターゲット，酸素を含まない反応性ガスを用いた
スパッタリングによって、酸化金属クロム膜23d の上に
例えば厚さ1000Å程度の金属クロム膜23e を被着したの
ち、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含む反応性
ガスを用いたスパッタリングによって、金属クロム膜23
e の上に例えば厚さ 400Å程度の酸化金属クロム膜23f
を積層する。
【００２５】しかるのち、酸化金属クロム膜23f の上に
形成したレジストパターン25, 硝酸第二セリウム系等の
エッチング液を用いたホトエッチングによって、金属ク
ロム膜23e と一対の酸化金属クロム膜23d,23f の不要部
を除去する。
形成したレジストパターン25, 硝酸第二セリウム系等の
エッチング液を用いたホトエッチングによって、金属ク
ロム膜23e と一対の酸化金属クロム膜23d,23f の不要部
を除去する。
【００２６】図１(ニ) において、ガラス基板２の上面に
形成したブラックマスク24は、金属クロム層24a の露呈
面が酸化金属クロム層24b で覆われた２層構成である。
ただし、金属クロムに替えてタンタルを使用したとき
は、タンタル層を酸化タンタル層で覆った２層構成と
し、金属クロムに替えてアルミニウムを使用したとき
は、アルミニウム層を酸化アルミニウム層で覆った２層
構成とする。
形成したブラックマスク24は、金属クロム層24a の露呈
面が酸化金属クロム層24b で覆われた２層構成である。
ただし、金属クロムに替えてタンタルを使用したとき
は、タンタル層を酸化タンタル層で覆った２層構成と
し、金属クロムに替えてアルミニウムを使用したとき
は、アルミニウム層を酸化アルミニウム層で覆った２層
構成とする。
【００２７】かかるブラックマスク24の製造例は、図５
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、例えば
厚さ1400Å程度の金属クロム膜24c をガラス基板２に被
着し、金属クロム膜24c の上に形成したレジストパター
ン25, 硝酸第二セリウム系等のエッチング液を用いたホ
トエッチングによって、金属クロム膜の不要部を除去
し、マスクパターン24dを形成する。
に示す如く、金属クロムにてなるターゲット，酸素を含
む反応性ガスを用いたスパッタリングによって、例えば
厚さ1400Å程度の金属クロム膜24c をガラス基板２に被
着し、金属クロム膜24c の上に形成したレジストパター
ン25, 硝酸第二セリウム系等のエッチング液を用いたホ
トエッチングによって、金属クロム膜の不要部を除去
し、マスクパターン24dを形成する。
【００２８】しかるのち、熱酸化によってマスクパター
ン24d の露呈面酸化せしめ、酸化金属クロム層24b を形
成させる。図１(イ) 〜(ニ) に示す如く、金属酸化膜を具
えてなるブラックマスク21,22,23,24 は、ホトエッチン
グによるパターン形成に際し、露光時の定在波光を金属
酸化膜が抑制するため、形成パターンが正確かつシャー
プになる。さらに、上面に金属酸化膜を具えブラックマ
スク22,23,24は、その上に導電性パターンの形成が可能
になり、最下層が金属酸化膜であるブラックマスク23
は、ガラス基板２，特にソーダガラスを使用した基板２
からの析出物を金属酸化膜が抑制するため、該酸化膜の
上に積層した金属層にピンホールができ難くなる。
ン24d の露呈面酸化せしめ、酸化金属クロム層24b を形
成させる。図１(イ) 〜(ニ) に示す如く、金属酸化膜を具
えてなるブラックマスク21,22,23,24 は、ホトエッチン
グによるパターン形成に際し、露光時の定在波光を金属
酸化膜が抑制するため、形成パターンが正確かつシャー
プになる。さらに、上面に金属酸化膜を具えブラックマ
スク22,23,24は、その上に導電性パターンの形成が可能
になり、最下層が金属酸化膜であるブラックマスク23
は、ガラス基板２，特にソーダガラスを使用した基板２
からの析出物を金属酸化膜が抑制するため、該酸化膜の
上に積層した金属層にピンホールができ難くなる。
【００２９】図６(イ) において、ガラス基板２の上面に
本発明によるブラックマスク21 (または22,23,24) を形
成したのち、図６(ロ) に示す如く、ブラックマスク21を
覆う第１の画素用樹脂膜31を、例えば厚さ２μm 程度に
スピンコートによって塗付する。
本発明によるブラックマスク21 (または22,23,24) を形
成したのち、図６(ロ) に示す如く、ブラックマスク21を
覆う第１の画素用樹脂膜31を、例えば厚さ２μm 程度に
スピンコートによって塗付する。
【００３０】次いで、図６(ハ) に示す如く画素用樹脂膜
30より、第１の画素例えば赤色画素４R を形成する。次
いで、図６(ニ) に示す如く、第２の画素例えば緑色画素
４G,第３の画素例えば青色画素４B を、赤色画素４R と
同様に形成したのち、図６(ホ) に示す如く、各画素４R,
４G,４B の上には、透明電極等を形成可能にするトップ
コート層５を厚さ１〜２μm 程度に形成する。
30より、第１の画素例えば赤色画素４R を形成する。次
いで、図６(ニ) に示す如く、第２の画素例えば緑色画素
４G,第３の画素例えば青色画素４B を、赤色画素４R と
同様に形成したのち、図６(ホ) に示す如く、各画素４R,
４G,４B の上には、透明電極等を形成可能にするトップ
コート層５を厚さ１〜２μm 程度に形成する。
【００３１】本発明のブラックマスクを用いてカラーフ
ィルタを形成し、そのカラーフィルタを使用したカラー
液晶表示パネル31を示す図７において、ガラス基板２の
上面には、ブラックマスク23 (または21,22,24),画素４
R と４G および４B,トップコート層５, 透明電極６, 配
向膜10を形成し、ガラス基板２の下面には偏光板13を被
着する。
ィルタを形成し、そのカラーフィルタを使用したカラー
液晶表示パネル31を示す図７において、ガラス基板２の
上面には、ブラックマスク23 (または21,22,24),画素４
R と４G および４B,トップコート層５, 透明電極６, 配
向膜10を形成し、ガラス基板２の下面には偏光板13を被
着する。
【００３２】ガラス基板８には、従来のそれと同じく透
明電極９, 配向膜10を形成し偏光板14を被着し、ガラス
基板２と８の間には、シール材12により気密封止された
液晶11を充填する。
明電極９, 配向膜10を形成し偏光板14を被着し、ガラス
基板２と８の間には、シール材12により気密封止された
液晶11を充填する。
【００３３】かかる表示パネル31は、ブラックマスク23
のパターンが従来のブラックマスク３のそれより正確に
なるため、従来の表示パネル１より表示品位が向上（鮮
明化）する。
のパターンが従来のブラックマスク３のそれより正確に
なるため、従来の表示パネル１より表示品位が向上（鮮
明化）する。
【００３４】図８において、ガラス基板２に形成した液
晶表示パネル用カラーフィルタは、ガラス基板２にブラ
ックマスク24および多数の画素４R,４G,４B を形成した
ものであり、かかるカラーフィルタはブラックマスク24
の表面が非導電性であるため、画素４R,４G,４Bの間隙
を少なくすることによって、それらの上に透明電極６が
形成可能となる。
晶表示パネル用カラーフィルタは、ガラス基板２にブラ
ックマスク24および多数の画素４R,４G,４B を形成した
ものであり、かかるカラーフィルタはブラックマスク24
の表面が非導電性であるため、画素４R,４G,４Bの間隙
を少なくすることによって、それらの上に透明電極６が
形成可能となる。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によるブラッ
クマスクは、従来のものより高精度化，微細化が可能と
なり、カラー液晶表示パネルに適用したとき、表示品位
が向上し、かつ、透明電極とブラックマスクとが電気的
に短絡する障害をなくし、室内照明光等の反射を不鮮明
化して“きらつき”をなくすと共に、従来のトップコー
ト層をなくすことによって生産性を高めた効果がある。
クマスクは、従来のものより高精度化，微細化が可能と
なり、カラー液晶表示パネルに適用したとき、表示品位
が向上し、かつ、透明電極とブラックマスクとが電気的
に短絡する障害をなくし、室内照明光等の反射を不鮮明
化して“きらつき”をなくすと共に、従来のトップコー
ト層をなくすことによって生産性を高めた効果がある。
【図１】 本発明による各種ブラックマスクの基本構成
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】 図１(イ) に示すブラックマスクの製造工程の
説明図である。
説明図である。
【図３】 図１(ロ) に示すブラックマスクの製造工程の
説明図である。
説明図である。
【図４】 図１(ハ) に示すブラックマスクの製造工程の
説明図である。
説明図である。
【図５】 図１(ニ) に示すブラックマスクの製造工程の
説明図である。
説明図である。
【図６】 図１(ハ) に示すブラックマスクを使用したカ
ラーフィルタの主要製造工程の説明図である。
ラーフィルタの主要製造工程の説明図である。
【図７】 図６に示すカラーフィルタを使用した液晶表
示パネルの一部を示す断面図である。
示パネルの一部を示す断面図である。
【図８】 本発明のブラックマスクを使用した他の実施
例による液晶表示パネル用カラーフィルタの断面図であ
る。
例による液晶表示パネル用カラーフィルタの断面図であ
る。
【図９】 従来のカラー液晶表示パネルの主要構成を示
す断面図である。
す断面図である。
２はガラス基板 4R,4GP4Bは色画素 21,22,23,24 はブラックマスク 21a,22b,23a,23c,24b は酸化金属クロム層 21b,22a,23b,24a は金属クロム層 24c は金属クロム膜
Claims (3)
- 【請求項１】 多数の色画素(4R,4GP4B)間に対応する如
くガラス基板(2) に形成したブラックマスク(21,22)
が、金属クロム層(21b,22a) と酸化金属クロム層(21a,2
2b) の２層構成、またはタンタルと酸化タンタルの２層
構成、またはアルミニウムと酸化アルミニウムの２層構
成であることを特徴とするカラーフィルタ用ブラックマ
スク。 - 【請求項２】 多数の色画素(4R,4GP4B)間に対応する如
くガラス基板(2) に形成したブラックマスク(23)が、金
属クロム層(23b) をその厚さ方向に一対の酸化金属クロ
ム層(23a,23c) で挟んだ３層構成、またはタンタル層を
その厚さ方向に一対の酸化タンタル層で挟んだ３層構
成、またはアルミニウム層をその厚さ方向に一対の酸化
アルミニウム層で挟んだ３層構成であることを特徴とす
るカラーフィルタ用ブラックマスク。 - 【請求項３】 多数の色画素(4R,4GP4B)間に対応する如
くガラス基板(2) に形成したブラックマスク(24)が、該
ガラス基板(2) に被着した金属クロム膜(24c) またはタ
ンタル膜またはアルミニウム膜の不要部を除去したの
ち、該除去に伴う露呈面に酸化処理を施したものである
ことを特徴とするカラーフィルタ用ブラックマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28957791A JPH05127014A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | カラーフイルタ用ブラツクマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28957791A JPH05127014A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | カラーフイルタ用ブラツクマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05127014A true JPH05127014A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=17745041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28957791A Withdrawn JPH05127014A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | カラーフイルタ用ブラツクマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05127014A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0693463A1 (en) * | 1994-07-19 | 1996-01-24 | Corning Incorporated | Adhering a metal coating to a glass substrate |
| EP0716334A2 (en) * | 1994-12-08 | 1996-06-12 | AT&T Corp. | Antiflector black matrix for use in display devices and method for preparation of same |
| EP0794452A2 (en) * | 1996-03-08 | 1997-09-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Display apparatus and process for production thereof |
| US5808714A (en) * | 1993-09-30 | 1998-09-15 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Low reflection shadow mask |
| US5851366A (en) * | 1994-07-19 | 1998-12-22 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
| US5976639A (en) * | 1995-01-11 | 1999-11-02 | Anelva Corporation | Black matrix laminated film and reactive sputtering apparatus |
| EP0901032A4 (en) * | 1996-02-26 | 2000-01-12 | Kuramoto Seisakusho Co Ltd | SLOW REFLECTIVE FILM-SUPPORTING SUBSTRATE |
| KR100282983B1 (ko) * | 1993-06-28 | 2001-03-02 | 박영구 | 액정표시소자용 저반사 매트릭스 블랭크 및 그 제조방법 |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP28957791A patent/JPH05127014A/ja not_active Withdrawn
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100282983B1 (ko) * | 1993-06-28 | 2001-03-02 | 박영구 | 액정표시소자용 저반사 매트릭스 블랭크 및 그 제조방법 |
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| US5792327A (en) * | 1994-07-19 | 1998-08-11 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
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| US5570212A (en) * | 1994-12-08 | 1996-10-29 | Lucent Technologies Inc. | Antireflector black matrix for display devices comprising three layers of zinc oxide, molybdenum, and zinc oxide |
| US5566011A (en) * | 1994-12-08 | 1996-10-15 | Luncent Technologies Inc. | Antiflector black matrix having successively a chromium oxide layer, a molybdenum layer and a second chromium oxide layer |
| EP0716334A2 (en) * | 1994-12-08 | 1996-06-12 | AT&T Corp. | Antiflector black matrix for use in display devices and method for preparation of same |
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| EP0794452A3 (en) * | 1996-03-08 | 1998-01-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Display apparatus and process for production thereof |
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| US6128057A (en) * | 1996-03-08 | 2000-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | LCD with masking member having multiple portions having different characteristics |
| US6366332B1 (en) | 1996-03-08 | 2002-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Display apparatus and process for production thereof |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |