JPH05109064A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度磁気記録に用いられる薄手磁気テープ
の製造時の高電圧電子ビーム蒸着時に高分子フィルムの
受ける熱ダメージの問題を解決し、薄手磁気テープを高
速で熱ダメージなしに製造できる方法を提供することを
目的とする。 【構成】 高分子フィルム１の表層部にあらかじめ注入
電子層１０を形成してから高電圧電子ビーム加熱蒸発で
得られる蒸気流で蒸着するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録に適し
た強磁性金属薄膜を磁気記録層とした磁気記録媒体を製
造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録は狭トラック化は１０μ
m、短波長化は０．５μm迄進み、３０年で面積記録密度
は実に１，０００倍と向上し、機器の小型化，高機能化
を画質，音質を低下させずに実現し、更に一層の進展へ
の期待が強く、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気
記録媒体の広い実用化が強く望まれるようになってきて
いる。

【０００３】以下に従来の強磁性金属薄膜を磁気記録層
とする磁気記録媒体の製造方法について説明する。

【０００４】図２は従来の磁気記録媒体の製造に用いら
れている蒸着装置の要部構成図である。図２において、
１はポリエチレンテレフタレート，ポリエチレン２，６
ナフタレート等の高分子フィルム、２はクーリングキャ
ン、３はフィルムの送り出し軸、４は巻取り軸、５は蒸
発源容器、６はＣｏ，Ｃｏ−Ｎｉ等の蒸着材料、７は電
子ビーム、８はマスク、９は酸素ガス導入ポートであ
る。

【０００５】以上のように構成された蒸着装置につい
て、その動作について説明する。まず蒸着装置に高分子
フィルム１を蒸着した状態で、図示していない真空排気
系により真空槽内部を１０^-5〜１０^-6（Ｔorr）に排気
し、電子ビーム７を蒸着材料に照射しＣｏやＣｏ−Ｎｉ
等の蒸着材料６を溶融、更に高温に保持し蒸発させ、移
動する高分子フィルム１にクーリングキャン２で冷却し
ながら蒸着を行う。通常の斜め蒸着は、接線に近い高入
射角から蒸着を開始し、マスク８で最小入射角を限定し
て蒸着を終えるよう構成する。その際酸素ガス導入ポー
ト９から酸素ガスを導入し、部分酸化蒸着膜により磁気
記録層に求められる磁気特性，実用特性等を改善してい
る。蒸着膜は単層から３層までが実用になっている。多
層構成の磁気記録層は上記したプロセスをくり返すか、
連続して複数のクーリングキャン，蒸発源を配して実施
すれば良い。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、高分子フィルムを薄くして体積記録密度を
向上させる目的で磁気記録媒体を製造しようとすると、
高分子フィルムの温度上昇が増大し、部分的に熱による
ダメージが発生するといった問題があり、この問題は、
生産性を向上するため加速電圧の高い、電力密度をあげ
た高集束電子ビーム加熱により更にクリアになるもので
ある。

【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、高電圧加速電子ビームにより加熱蒸発させた強磁性
金属で磁気記録層を形成する際、薄手テープで起る熱ダ
メージを解決した方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、あらかじめ高分子
フィルムの表層部に注入電子層を配し、高電圧電子ビー
ム加熱蒸着する構成を有している。

【０００９】

【作用】この構成によって、高電圧電子ビームの反射電
子成分が、蒸着に供される薄い高分子フィルムを透過せ
ずに、フィルム内に溜るようになり、その注入電子が、
クーリングキャンとの間の静電引力を増大させるように
働き、蒸着時の入熱をキャンへ効果的に伝達できるよう
になり高分子フィルムの受ける熱影響を小さくすること
ができる。

【００１０】

【実施例】

（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。

【００１１】図１において、１０は高分子フィルム１の
表層部分の注入電子層で、表層部分についてはここで
は、高分子フィルム１表面の１μm以内更に好ましくは
０．５μm以内を指すものである。この表層に注入電子
層１０を形成するのは、加速した電子線を注入すること
によってなされるが、加速電圧を低い側から高い側へ調
整しながら電子線を高分子フィルム１へ照射することで
得られ、電圧の範囲の目安は５００Ｖ〜５KVのうちで設
定し最適化すればよい。１１は反射電子を模式的に表わ
したもので、蒸着材料を加熱するために照射する高電圧
電子ビームから生じる反射成分のうちの一部からなり、
反射電子１１の比率や方向は一定していないが蒸着材の
構成材料により反射し、その一部は蒸着時に移動する高
分子フィルム１に注入される。ここで対象とする電子ビ
ームは加速電圧３０KV〜７５KVである。磁気テープ製造
に用いる高分子フィルム１の厚みが７μm以下３μmの範
囲で、上記した加速電圧の反射電子１１はエネルギーを
殆んど失っていないものはフィルム１を透過してしまう
が、表層の注入電子層１０での減速作用を受けてフィル
ム内部に溜るようになる。それを模式的に示したのが、
１２の反射電子注入層である。

【００１２】以上のように構成された磁気記録媒体の製
造方法について、その動作を説明する。厚み４．５μm
のポリエチレンナフタレートからなる高分子フィルム１
（両面に微粒子塗布層を配したもので、平均粗さが蒸着
面側は４（nm）、反対面は１１（nm）である）を直径１
ｍのクーリングキャン２に沿わせて移動させながら、最
小入射角４２度で、導入酸素量１（I／min）の下でＣｏ
−Ｎｉ（Ｎｉ：１９Wt％）を電子ビーム蒸着した。加速
電子ビームを３０KV，４０KV，７５KVに選んで実施し
た。あらかじめ、加速電圧が１KVから３．８KVまで直線
的に変化する［同期は２（msec）］電子線を平均値とし
て４８（μA／cm²）照射し、表層０．４μmに注入電子
層１０を形成した。なお従来例はこの処理を行わずに蒸
着したものを用いた。蒸着は設定条件を同一として５０
００ｍ（幅５２０mm）長を２回くり返して比較した。蒸
着膜厚は０．１５μm一定とした。蒸着速度は、加速電
圧によって異なり、３０KVの場合は、６０（ｍ／min）
４０KV，７５KVの場合は夫々１１０（ｍ／min），１５
０（ｍ／min）とした。実施例の場合は、反射電子１１
が表層部の注入電子層１０でエネルギーを減じ、４．５
μmのポリエチレンナフタレートフィルムを透過せず高
分子フィルム１内に反射電子注入層１２を形成するの
で、それによる静電引力でクーリングキャン２と高分子
フィルム１が密着し、入熱を逃がし、高分子フィルム１
の受ける熱影響を最小限にすることができるのである。

【００１３】本実施例による磁気記録媒体の製造方法と
従来の製造方法によって製造した場合のテープの歩留り
を（表１）に示している。

【００１４】

【表１】

【００１５】この（表１）から明らかなように、本実施
例の磁気記録媒体の製造方法は、高速生産条件を達成す
るための１つの条件である高電圧電子ビーム蒸着で薄手
テープを熱ダメージによる歩留り低下のない状態で製造
できるといったすぐれた効果が得られる。

【００１６】以上のように本実施例によれば、表層部に
注入電子層を形成した上で、高電圧電子ビーム蒸着する
ことで薄手磁気記録媒体を熱ダメージなしに製造でき
る。

【００１７】なお第１の実施例において高分子フィルム
１を厚み４．５μmのポリエチレンナフタレートとした
が、高分子フィルム１の材質によらず７μm以下３μm以
上であれば効果のあることを確認している。蒸着は斜め
蒸着について述べたが、Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｔａ，Ｃｏ
−Ｍｏ，Ｃｏ−Ｐｔ−Ｂ等の垂直磁化膜形成のための蒸
着についても効果的であることは勿論である。

【００１８】

【発明の効果】以上のように本発明は、高分子フィルム
の表層部に注入電子層を形成した後、高電圧電子ビーム
蒸着することで、薄手磁気記録媒体を熱ダメージなしに
高速で製造する方法を実現できるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における磁気記録媒体の製造
方法を説明するための模式図

【図２】従来の製法を説明するための蒸着要部構成図

【符号の説明】

１０ 注入電子層 １１ 反射電子 １２ 反射電子注入層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】蒸着面側のフイルム表層部に注入電子層を
   構成した後、高速電子ビーム加熱蒸発により得た蒸気流
   にて蒸着することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
   法。