JPS6297133A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6297133A JPS6297133A JP23800485A JP23800485A JPS6297133A JP S6297133 A JPS6297133 A JP S6297133A JP 23800485 A JP23800485 A JP 23800485A JP 23800485 A JP23800485 A JP 23800485A JP S6297133 A JPS6297133 A JP S6297133A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- hydrogen
- oxygen
- magnetic recording
- polymer film
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は基板面に対して垂直方向に磁化可能な高密度磁
気記録用磁気記録媒体の製造方法に関する０ 従来の技術 近年、磁気記録媒体は従来の塗布型磁気記録層から、強
磁性金属薄膜磁気記録層の実用化が検討されている。
気記録用磁気記録媒体の製造方法に関する０ 従来の技術 近年、磁気記録媒体は従来の塗布型磁気記録層から、強
磁性金属薄膜磁気記録層の実用化が検討されている。
これに伴い、製造方法も強磁性金属薄膜を形成するに適
した真空蒸着法を中心に検討が加えられている。
した真空蒸着法を中心に検討が加えられている。
第２図は従来のＣｏ−０系、又はＣｏ−Ｎｉ−○系の垂
直磁化膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の製造を行う
のに利用する真空蒸着装置の内部構成略図である。
直磁化膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の製造を行う
のに利用する真空蒸着装置の内部構成略図である。
第２図において、１は高分子フィルム等の基板、２は送
シ出し軸、３は巻取υ軸、４は回転支持体、６は蒸発源
、６は真空容器、７は遮へい板、８はスリット、９はガ
ス導入ノズル、１ｏは真空ポンプである。
シ出し軸、３は巻取υ軸、４は回転支持体、６は蒸発源
、６は真空容器、７は遮へい板、８はスリット、９はガ
ス導入ノズル、１ｏは真空ポンプである。
第２図の装置を用い、ガス導入ノズル９より酸素ガスを
導入しながら、蒸発源６よりＣＯ又はＣｏＮｉ（Ｎｉ
は５％・〜３０％）を蒸発させ、その蒸発源子の一部を
スリット８によりほぼ基板１に垂直に入射する成分で蒸
着を行うことで、Ｃｏ−〇、又はＣｏ −Ｎ ｉ−０か
ら成る垂直磁化膜を高分子フィルム上に連続して形成す
ることが出来る。
導入しながら、蒸発源６よりＣＯ又はＣｏＮｉ（Ｎｉ
は５％・〜３０％）を蒸発させ、その蒸発源子の一部を
スリット８によりほぼ基板１に垂直に入射する成分で蒸
着を行うことで、Ｃｏ−〇、又はＣｏ −Ｎ ｉ−０か
ら成る垂直磁化膜を高分子フィルム上に連続して形成す
ることが出来る。
この方法は、量産性の点で、Ｃｏ−Ｃｒ等のスパッタ垂
直磁化膜９可転支持体を高温に保持してのＧｏ−Ｃｒ電
子ビーム蒸着膜に比較して優れており、高密度磁気記録
媒体の製造方法として有望である。
直磁化膜９可転支持体を高温に保持してのＧｏ−Ｃｒ電
子ビーム蒸着膜に比較して優れており、高密度磁気記録
媒体の製造方法として有望である。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記したような構成では、得ら体を製造
した時にスペーシング損失の変動に原因があると考えら
れる出力変動が大きく、実用上問題となる。
した時にスペーシング損失の変動に原因があると考えら
れる出力変動が大きく、実用上問題となる。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、長尺の媒体
を、短波長出力の大きい状態で安定に得ることの出来る
方法を提供するものである。
を、短波長出力の大きい状態で安定に得ることの出来る
方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、高分子フィルムの移動方向側に酸素を、反対
側に水素を導入し、ほぼ高分子フィルムに垂直入射する
ようにｃｏ又はＣｏ Ｎ ｉ蒸気を差し向けるようにし
たものである。
造方法は、高分子フィルムの移動方向側に酸素を、反対
側に水素を導入し、ほぼ高分子フィルムに垂直入射する
ようにｃｏ又はＣｏ Ｎ ｉ蒸気を差し向けるようにし
たものである。
作 用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、垂直磁化膜の条件を満足せしめるのに酸素が作用し
、垂直磁化膜のへンドアクセス側、即ち膜の表面側の酸
化膜が導入水素の還元作用に基すいて薄くできることか
ら、短波長出力の大きい状態で長尺の媒体を製造できる
ので・ある。
り、垂直磁化膜の条件を満足せしめるのに酸素が作用し
、垂直磁化膜のへンドアクセス側、即ち膜の表面側の酸
化膜が導入水素の還元作用に基すいて薄くできることか
ら、短波長出力の大きい状態で長尺の媒体を製造できる
ので・ある。
実施例
以下、図面を参照しながら、本発明の実施例について説
明する。
明する。
第１図は、本発明を実施するために用いた蒸着装置の内
部構成図である。
部構成図である。
第１図において、１１は高分子フィルム、１２は送り出
し軸、１３は巻取り軸、１４は回転支持体、１６は蒸発
源、１６は真空容器、１７は遮へい板、１８はスリット
、１９は水素導入ノズル、２ｏは酸素導入ノズル、２１
は真空ポンプである。
し軸、１３は巻取り軸、１４は回転支持体、１６は蒸発
源、１６は真空容器、１７は遮へい板、１８はスリット
、１９は水素導入ノズル、２ｏは酸素導入ノズル、２１
は真空ポンプである。
第１図において、蒸発源１６の中心から真上の高分子フ
ィルム１１までの距離を３４．６ ｃｍ 、回転支持体
の直径を６６α、スリ、、 ト１８の幅を４ｔｙｎ。
ィルム１１までの距離を３４．６ ｃｍ 、回転支持体
の直径を６６α、スリ、、 ト１８の幅を４ｔｙｎ。
酸素導入ノズル２ｏと水素導入ノズル１９の先端間の距
離を１２ ｃｍ 、夫々の先端と蒸発源中心間距離を３
１１：ｒｎとして以下の実施例で本発明の効果を確かめ
た。
離を１２ ｃｍ 、夫々の先端と蒸発源中心間距離を３
１１：ｒｎとして以下の実施例で本発明の効果を確かめ
た。
回転支持体の表面温度は２６℃一定とし、真空度は、ガ
ス導入前Ｉ Ｘ １０−６（Ｔｏｒｒ ）まで到達して
から、ガス導入を行った。
ス導入前Ｉ Ｘ １０−６（Ｔｏｒｒ ）まで到達して
から、ガス導入を行った。
厚みＩＱ、４ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
を移動させながら、膜厚０．２μｍのＣｏ −○、Ｃｏ
−Ｎｉ−０膜を形成し、平坦化処理後、ステアリン酸を
約３０人真空蓋着し、その後、８ｍｍ幅にスリ゛ノドし
、各種の磁気テープを試作した。
を移動させながら、膜厚０．２μｍのＣｏ −○、Ｃｏ
−Ｎｉ−０膜を形成し、平坦化処理後、ステアリン酸を
約３０人真空蓋着し、その後、８ｍｍ幅にスリ゛ノドし
、各種の磁気テープを試作した。
性能比較は、ギャップ長０．１６μｍのフェライトリン
グヘッドを用いて、０．４／ｉｍの記録波長の再生出力
を、全長１０００ｍのうち任意の１０点を選び、各点１
０ｍを測定し出力の最大値、最小値を相対比較した。
グヘッドを用いて、０．４／ｉｍの記録波長の再生出力
を、全長１０００ｍのうち任意の１０点を選び、各点１
０ｍを測定し出力の最大値、最小値を相対比較した。
垂直方向の保磁力は振動試料型磁束計で測定した。
製造条件と性能の比較を次表にまとめて示した。
以上より明らかに本発明により得られた磁気記録媒体は
、長手においても再生出力が良好で且つ安定しているこ
とが理解できる。
、長手においても再生出力が良好で且つ安定しているこ
とが理解できる。
本実施例では磁気テープについて説明したが、本発明に
より磁気ディスク、磁気シートを製造することも可能で
あり、均一で、高性能な媒体を大量に製造できるもので
ある。
より磁気ディスク、磁気シートを製造することも可能で
あり、均一で、高性能な媒体を大量に製造できるもので
ある。
発明の効果
以上のように本発明によれば、垂直方向に磁化可能な磁
気記録媒体を大量に生産することができるといったすぐ
れた効果が得られるものである。
気記録媒体を大量に生産することができるといったすぐ
れた効果が得られるものである。
第１図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の実、施に用
いた蒸着装置の一例の内部構成図、第２図は従来の蒸着
装置の内部構成図である。 １１・・・・・・高分子フィルム、１６・・・・・・蒸
発源、１８・・・・・・スリット、１９・・・・・・水
素導入ノズル、２ｏ・・・・・・酸素導入ノズル。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名Ｕ−
一一高分子フイルム
いた蒸着装置の一例の内部構成図、第２図は従来の蒸着
装置の内部構成図である。 １１・・・・・・高分子フィルム、１６・・・・・・蒸
発源、１８・・・・・・スリット、１９・・・・・・水
素導入ノズル、２ｏ・・・・・・酸素導入ノズル。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名Ｕ−
一一高分子フイルム
Claims (1)
- 高分子フィルムの移動方向側に酸素を、反対側に水素を
導入し、ほぼ高分子フィルムに垂直入射する成分のＣｏ
又はＣｏ−Ｎｉ蒸気流を差し向けることを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23800485A JPH0687306B2 (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23800485A JPH0687306B2 (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6297133A true JPS6297133A (ja) | 1987-05-06 |
| JPH0687306B2 JPH0687306B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=17023704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23800485A Expired - Lifetime JPH0687306B2 (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0687306B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63285725A (ja) * | 1987-05-16 | 1988-11-22 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0499166A (ja) * | 1990-08-03 | 1992-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 両面蒸着フィルムの製造方法 |
| JPH05339704A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Toray Ind Inc | 透明ガスバリア性フィルムの製造方法 |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP23800485A patent/JPH0687306B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63285725A (ja) * | 1987-05-16 | 1988-11-22 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0499166A (ja) * | 1990-08-03 | 1992-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 両面蒸着フィルムの製造方法 |
| JPH05339704A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Toray Ind Inc | 透明ガスバリア性フィルムの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0687306B2 (ja) | 1994-11-02 |
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