JPH049878B2 - - Google Patents
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- JPH049878B2 JPH049878B2 JP62014409A JP1440987A JPH049878B2 JP H049878 B2 JPH049878 B2 JP H049878B2 JP 62014409 A JP62014409 A JP 62014409A JP 1440987 A JP1440987 A JP 1440987A JP H049878 B2 JPH049878 B2 JP H049878B2
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- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、電着塗装およびその前処理工程な
どを行う表面処理装置に関する。
どを行う表面処理装置に関する。
被処理物に電着塗装を行う場合、通常、つぎの
ような手順で行うようになつている。すなわち、
被処理物に対し、まず、脱脂、表面調整および化
成処理などの前処理を行い、そののち、電着塗装
を行うと言うものである。従来、被処理物を大量
に処理する装置として第8図にみるような連続式
のものがある。この表面処理装置は、湯洗槽1、
脱脂槽2、第1水洗槽3、第2水洗槽4、表面調
整槽5、化成槽6、第3水洗槽7、第4水洗槽8
および第5水洗槽9が上記順に配列されている。
被処理物10は、チエーンコンベヤ11によつて
各槽に順に運ばれ浸漬処理されるようになつてい
る。あるいは、必要に応じ、スプレーによる噴霧
が単独でまた併せて行われる。つまり、湯洗槽
1、脱脂槽2、表面調整槽5、化成槽6、および
第5水洗槽9では、チエーンコンベヤ11が低く
なり、被処理物10が槽内に浸漬されるようにな
つている。脱脂槽2、表面調整槽5および化成槽
6の各槽の出口には、各処理槽の処理液を噴霧す
るスプレー13が設けられている。一方、第1〜
第4水洗槽3,4,8,9では、スプレー13か
ら水洗槽の水を噴霧して水洗を行うようになつて
いる。図中、14は処理液をスプレーライザ13
に供給するポンプである。
ような手順で行うようになつている。すなわち、
被処理物に対し、まず、脱脂、表面調整および化
成処理などの前処理を行い、そののち、電着塗装
を行うと言うものである。従来、被処理物を大量
に処理する装置として第8図にみるような連続式
のものがある。この表面処理装置は、湯洗槽1、
脱脂槽2、第1水洗槽3、第2水洗槽4、表面調
整槽5、化成槽6、第3水洗槽7、第4水洗槽8
および第5水洗槽9が上記順に配列されている。
被処理物10は、チエーンコンベヤ11によつて
各槽に順に運ばれ浸漬処理されるようになつてい
る。あるいは、必要に応じ、スプレーによる噴霧
が単独でまた併せて行われる。つまり、湯洗槽
1、脱脂槽2、表面調整槽5、化成槽6、および
第5水洗槽9では、チエーンコンベヤ11が低く
なり、被処理物10が槽内に浸漬されるようにな
つている。脱脂槽2、表面調整槽5および化成槽
6の各槽の出口には、各処理槽の処理液を噴霧す
るスプレー13が設けられている。一方、第1〜
第4水洗槽3,4,8,9では、スプレー13か
ら水洗槽の水を噴霧して水洗を行うようになつて
いる。図中、14は処理液をスプレーライザ13
に供給するポンプである。
この表面処理装置は、被処理物10の急激な下
降上昇をさけるために、各浸漬槽の出入り口が15
〜30°のテーパに形成されているので、浸漬層自
体が大きくならざるを得ず、大きな設置スペース
を必要としている。しかも、生産量が少ないライ
ンでは、搬送速度を遅くして連続処理を行うので
あるが、特に、化成槽6の前後で被処理物10の
表面に処理液の薬剤がムラ乾きを起こし品質面で
問題があるなど、月産5000台(1台/4分)以下
の少量生産には向いていなかつた。
降上昇をさけるために、各浸漬槽の出入り口が15
〜30°のテーパに形成されているので、浸漬層自
体が大きくならざるを得ず、大きな設置スペース
を必要としている。しかも、生産量が少ないライ
ンでは、搬送速度を遅くして連続処理を行うので
あるが、特に、化成槽6の前後で被処理物10の
表面に処理液の薬剤がムラ乾きを起こし品質面で
問題があるなど、月産5000台(1台/4分)以下
の少量生産には向いていなかつた。
この問題を解決するために、タクト式、すなわ
ち、各処理槽で一旦被処理物の搬送を停止して、
処理液への浸漬、あるいは、処理液の噴霧を行う
方式がある。
ち、各処理槽で一旦被処理物の搬送を停止して、
処理液への浸漬、あるいは、処理液の噴霧を行う
方式がある。
このタクト式の装置として、パワー&フリーコ
ンベヤ(P&F)とドロツプリフト(D/L)を
組み合わせたもの、あるいは、ホイストを用いて
行うものがある。しかし、いずれの方法において
も、問題が残つていた。すなわち、P&FとD/
Lを組み合わせたものでは、装置が高価であるこ
と、D/Lには、リフターアームを上下させるた
めの開口部が形成されていて、この開口部から処
理液のベーパーが入り込み、腐食による故障を生
じさせたりするため、維持管理が困難であること
などの問題があつた。一方、ホイスト式の場合、
各処理槽の直上をホイストが走行するようになつ
ているため、ホイストの電気系統や機械部分が処
理液のベーパーによつて腐食されたり、導通不良
が起きたりするという問題があつた。
ンベヤ(P&F)とドロツプリフト(D/L)を
組み合わせたもの、あるいは、ホイストを用いて
行うものがある。しかし、いずれの方法において
も、問題が残つていた。すなわち、P&FとD/
Lを組み合わせたものでは、装置が高価であるこ
と、D/Lには、リフターアームを上下させるた
めの開口部が形成されていて、この開口部から処
理液のベーパーが入り込み、腐食による故障を生
じさせたりするため、維持管理が困難であること
などの問題があつた。一方、ホイスト式の場合、
各処理槽の直上をホイストが走行するようになつ
ているため、ホイストの電気系統や機械部分が処
理液のベーパーによつて腐食されたり、導通不良
が起きたりするという問題があつた。
この発明は、このような事情に鑑みて、低コス
トで、多品種少量生産に適しており、しかも、処
理液のベーパーによつて機器が傷んだり、導通不
良を起こしたりすることがない表面処理装置を提
供することを目的としている。
トで、多品種少量生産に適しており、しかも、処
理液のベーパーによつて機器が傷んだり、導通不
良を起こしたりすることがない表面処理装置を提
供することを目的としている。
この発明は、このような目的を達成するため
に、被処理物を搬送する搬送手段および多数の処
理槽を備え、被処理物が前記搬送手段によつて各
処理槽に順に搬送されて処理液への浸漬が行わ
れ、所望の表面処理がなされるようになつている
表面処理装置であつて、前記多数の処理槽がフー
ドに覆われており、このフードには、天井部にお
いて長手方向全長にわたり外部に開口する溝が形
成されているとともに、その上方にはこの溝に沿
つてレールが敷設されていて、このレールには、
組み込まれたプログラムにしたがい走行・停止・
吊り下ろし・吊り上げの各動作を自動的に行う自
動走行ホイストが走行自在に懸架され、このホイ
ストに設けられた前記被処理物の吊り具が前記溝
から前記フード内に臨むようになつているととも
に、前記溝には、フード内雰囲気の漏洩を防止す
る漏洩防止手段が設けられており、前記被処理物
は、前記吊り具に支持されて、前記プログラムど
おりに各処理槽に搬送され表面処理されるように
なつていることを特徴とする表面処理装置を要旨
としている。
に、被処理物を搬送する搬送手段および多数の処
理槽を備え、被処理物が前記搬送手段によつて各
処理槽に順に搬送されて処理液への浸漬が行わ
れ、所望の表面処理がなされるようになつている
表面処理装置であつて、前記多数の処理槽がフー
ドに覆われており、このフードには、天井部にお
いて長手方向全長にわたり外部に開口する溝が形
成されているとともに、その上方にはこの溝に沿
つてレールが敷設されていて、このレールには、
組み込まれたプログラムにしたがい走行・停止・
吊り下ろし・吊り上げの各動作を自動的に行う自
動走行ホイストが走行自在に懸架され、このホイ
ストに設けられた前記被処理物の吊り具が前記溝
から前記フード内に臨むようになつているととも
に、前記溝には、フード内雰囲気の漏洩を防止す
る漏洩防止手段が設けられており、前記被処理物
は、前記吊り具に支持されて、前記プログラムど
おりに各処理槽に搬送され表面処理されるように
なつていることを特徴とする表面処理装置を要旨
としている。
以下に、この発明を、その実施例をあらわす図
面を参照しつつ詳しく説明する。
面を参照しつつ詳しく説明する。
第1図はこの発明にかかる表面処理装置の1実
施例を模式的にあらわし、第2図はその一部分を
進行方向からみて、第3図はその一部分を側面か
らみて断面であらわしている。図にみるように、
この表面処理装置は、湯洗槽1、脱脂槽2、第1
水洗槽3、第2水洗槽4、表面調整槽5、化成槽
6、第3水洗槽7、第4水洗槽8および第5水洗
槽9が上記順に配列されている。これらの処理槽
1〜9は、1つのフード(ブース)15で覆われ
ている。フード15は、特に限定されないが、鋼
板やステンレスで形成されている。フード15
は、天井部15aにおいて長手方向全長にわたり
溝15bが設けられている。つまり、フード15
が溝15bによつて外部に開口しているのであ
る。溝15bは、その両側壁15cが天井部15
aより上方に延びている。溝15bの上方には、
この溝15bに沿つてレール16が敷設されてい
る。このレール16には、自動走行ホイスト(以
下に「ホイスト」とのみ記す)17が懸架されて
いる。ホイスト17は、制御盤18、走行モータ
19、4つの走行ローラ19a、昇降モータ20
および吊り具30を備えている。ホイスト17
は、4つのローラ19a…がレール16上に載置
されることにより懸架されるとともに、走行自在
になつている。制御盤18は、走行モータ19お
よび昇降モータ20の駆動・停止を自由にプログ
ラムできるプログラマブルコントローラ(図示せ
ず)を備えている。つまり、このプログマブルコ
ントローラによつて、ホイスト17の走行・停
止・吊り下ろし・吊り上げの各動作を所定の位置
で自動的に行わせることができるようになつてい
るのである。走行モータ19は、4つのローラ1
9aのうちの1つを駆動させてホイスト17を走
行させるようになつている。ホイスト17の前記
溝15bに対応する部分には、表面が平滑な円筒
17aが設けられている。円筒17aは、その下
端部がラツパ状に広がつている。吊り具30は、
2本のチエーン31と支持部材32を備えてい
る。チエーン31は、その一端がドラム23に固
定されている。ドラム23は、昇降モータ20に
よつて正逆回転させられることにより、チエーン
31の繰り出し長さを伸縮させるようになつてい
る。チエーン31の他端は、前記円筒17a内を
通つてフード15内に臨むようになつている。支
持部材32はハンガー32aと被処理物10を載
置する台32bとを備えている。台32bは、ハ
ンガー32aよつて吊り下げられるようになつて
いる。ハンガー32aおよび台32bは、ステン
レスなどの耐蝕性を有する導電材料で形成されて
いる。ハンガー32aの上部には、絶縁子32c
を介して2つの円柱部材32dが取り付けられて
いる。この円柱部材32dは、その先端部が前記
チエーン31の他端にそれぞれ接続されていると
ともに、チエーン31が巻き上げられて繰り出し
長さが収縮したときに、円筒17a内に入り込む
ようになつている。円柱部材32dは、その先端
部が丸くなつているとともに、円筒17aの下端
部がラツパ状に広がつているので、スムーズに円
筒17a内に入り込むようになつている。このよ
うに、円柱部材32dが円筒17a内に入り込む
ことによつて、支持部材32および被処理物10
がホイスト16の走行時に振れないようにしてい
るのである。溝15bには、その上縁と下縁のそ
れぞれの両側にナイロンブラシ21が取り付けら
れている。ナイロンブラシ21は、第4図にみる
ように、帯状に形成されていて、溝15bの両側
にその基部21aが取り付けられ、先端部21b
が溝15bの中央で重なるようにして溝15bを
覆つている。このナイロンブラシ21,21は、
フード15内の雰囲気が溝15bから上部に漏れ
ないようにする漏洩防止手段の1つとして設けら
れている。ホイスト17は、円筒17aでナイロ
ンブラシ21,21の先端部21bを押し分けて
走行するようになつている。円筒17a表面は、
前述したように平滑になつているので、走行時に
ナイロンブラシ21の抵抗を受けない。したがつ
て、抵抗によつて支持部材32が揺れたりせず
に、ホイスト16を安定して走行させることがで
きる。また、摩擦によつてナイロンブラシ21を
削り落として処理液を汚染させることもない。チ
エーン31が円筒17a内を通るようになつてい
るので、チエーン31が吊り下ろし・吊り上げの
際にナイロンブラシ21にかみ込んだりすること
もない。上下のナイロンブラシ21,21間の溝
15b側壁面には、ダクト22が接続されてい
る。このダクト22は、たとえば、スクラバーな
どの排気装置(図示せず)に接続されていて、上
下のナイロンブラシ21,21間に形成された小
室内を減圧するためのものである。つまり、この
減圧によつて、ナイロンブラシ21によるフード
15内雰囲気の漏洩防止をさらに効率のよいもの
としているのである。図中、24はホイストの機
械油が処理槽内に落下しないようにするオイルパ
ンである。図示していないが、レール16に沿つ
て給電用のトロリーが配設されていて、このトロ
リーに接触する給電ローラ(図示せず)を介し
て、ホイスト17への給電がなされるようになつ
ている。
施例を模式的にあらわし、第2図はその一部分を
進行方向からみて、第3図はその一部分を側面か
らみて断面であらわしている。図にみるように、
この表面処理装置は、湯洗槽1、脱脂槽2、第1
水洗槽3、第2水洗槽4、表面調整槽5、化成槽
6、第3水洗槽7、第4水洗槽8および第5水洗
槽9が上記順に配列されている。これらの処理槽
1〜9は、1つのフード(ブース)15で覆われ
ている。フード15は、特に限定されないが、鋼
板やステンレスで形成されている。フード15
は、天井部15aにおいて長手方向全長にわたり
溝15bが設けられている。つまり、フード15
が溝15bによつて外部に開口しているのであ
る。溝15bは、その両側壁15cが天井部15
aより上方に延びている。溝15bの上方には、
この溝15bに沿つてレール16が敷設されてい
る。このレール16には、自動走行ホイスト(以
下に「ホイスト」とのみ記す)17が懸架されて
いる。ホイスト17は、制御盤18、走行モータ
19、4つの走行ローラ19a、昇降モータ20
および吊り具30を備えている。ホイスト17
は、4つのローラ19a…がレール16上に載置
されることにより懸架されるとともに、走行自在
になつている。制御盤18は、走行モータ19お
よび昇降モータ20の駆動・停止を自由にプログ
ラムできるプログラマブルコントローラ(図示せ
ず)を備えている。つまり、このプログマブルコ
ントローラによつて、ホイスト17の走行・停
止・吊り下ろし・吊り上げの各動作を所定の位置
で自動的に行わせることができるようになつてい
るのである。走行モータ19は、4つのローラ1
9aのうちの1つを駆動させてホイスト17を走
行させるようになつている。ホイスト17の前記
溝15bに対応する部分には、表面が平滑な円筒
17aが設けられている。円筒17aは、その下
端部がラツパ状に広がつている。吊り具30は、
2本のチエーン31と支持部材32を備えてい
る。チエーン31は、その一端がドラム23に固
定されている。ドラム23は、昇降モータ20に
よつて正逆回転させられることにより、チエーン
31の繰り出し長さを伸縮させるようになつてい
る。チエーン31の他端は、前記円筒17a内を
通つてフード15内に臨むようになつている。支
持部材32はハンガー32aと被処理物10を載
置する台32bとを備えている。台32bは、ハ
ンガー32aよつて吊り下げられるようになつて
いる。ハンガー32aおよび台32bは、ステン
レスなどの耐蝕性を有する導電材料で形成されて
いる。ハンガー32aの上部には、絶縁子32c
を介して2つの円柱部材32dが取り付けられて
いる。この円柱部材32dは、その先端部が前記
チエーン31の他端にそれぞれ接続されていると
ともに、チエーン31が巻き上げられて繰り出し
長さが収縮したときに、円筒17a内に入り込む
ようになつている。円柱部材32dは、その先端
部が丸くなつているとともに、円筒17aの下端
部がラツパ状に広がつているので、スムーズに円
筒17a内に入り込むようになつている。このよ
うに、円柱部材32dが円筒17a内に入り込む
ことによつて、支持部材32および被処理物10
がホイスト16の走行時に振れないようにしてい
るのである。溝15bには、その上縁と下縁のそ
れぞれの両側にナイロンブラシ21が取り付けら
れている。ナイロンブラシ21は、第4図にみる
ように、帯状に形成されていて、溝15bの両側
にその基部21aが取り付けられ、先端部21b
が溝15bの中央で重なるようにして溝15bを
覆つている。このナイロンブラシ21,21は、
フード15内の雰囲気が溝15bから上部に漏れ
ないようにする漏洩防止手段の1つとして設けら
れている。ホイスト17は、円筒17aでナイロ
ンブラシ21,21の先端部21bを押し分けて
走行するようになつている。円筒17a表面は、
前述したように平滑になつているので、走行時に
ナイロンブラシ21の抵抗を受けない。したがつ
て、抵抗によつて支持部材32が揺れたりせず
に、ホイスト16を安定して走行させることがで
きる。また、摩擦によつてナイロンブラシ21を
削り落として処理液を汚染させることもない。チ
エーン31が円筒17a内を通るようになつてい
るので、チエーン31が吊り下ろし・吊り上げの
際にナイロンブラシ21にかみ込んだりすること
もない。上下のナイロンブラシ21,21間の溝
15b側壁面には、ダクト22が接続されてい
る。このダクト22は、たとえば、スクラバーな
どの排気装置(図示せず)に接続されていて、上
下のナイロンブラシ21,21間に形成された小
室内を減圧するためのものである。つまり、この
減圧によつて、ナイロンブラシ21によるフード
15内雰囲気の漏洩防止をさらに効率のよいもの
としているのである。図中、24はホイストの機
械油が処理槽内に落下しないようにするオイルパ
ンである。図示していないが、レール16に沿つ
て給電用のトロリーが配設されていて、このトロ
リーに接触する給電ローラ(図示せず)を介し
て、ホイスト17への給電がなされるようになつ
ている。
この表面処理装置の動作を詳しく説明すると、
つぎのようである。なお、ホイスト17の動き
は、あらかじめ、プログラマブルコントローラに
プログラムしておくことは言うまでもない。
つぎのようである。なお、ホイスト17の動き
は、あらかじめ、プログラマブルコントローラに
プログラムしておくことは言うまでもない。
支持部材32に被処理物10を載せる。
支持部材32を最上部まで吊り上げる。
ホイスト17を湯洗槽1の上まで走行させ
る。
る。
被処理物10を支持部材32とともに吊り下
ろし湯に浸漬し表面の汚れを落とす。
ろし湯に浸漬し表面の汚れを落とす。
処理時間後、被処理物10を支持部材32と
ともに最上部まで吊り上げる。
ともに最上部まで吊り上げる。
ホイスト17を脱脂槽2の上まで走行させ
る。
る。
被処理物10を支持部材32とともに吊り下
ろし脱脂液に浸漬し、脱脂を行う。脱脂液は、
通常用いられるものを用いる。脱脂槽2には、
ヒータが設けられていて、脱脂液が50℃前後に
加熱されている。
ろし脱脂液に浸漬し、脱脂を行う。脱脂液は、
通常用いられるものを用いる。脱脂槽2には、
ヒータが設けられていて、脱脂液が50℃前後に
加熱されている。
所定時間後、被処理物10を支持部材32と
ともに最上部まで吊り上げる。
ともに最上部まで吊り上げる。
ホイスト17を表面調整槽5に向けて走行さ
せる。ホイスト17が表面調整槽5に達するま
での間に、被処理物10は、脱脂槽2の出口、
第1水洗槽3および第2水洗槽4の各スプレー
13の間を通るようになつている。各スプレー
13は、それぞれポンプ14によつて汲み上げ
られた脱脂液あるいは水を被処理物10に噴霧
するようになつている。ポンプ圧は0.3〜2.0
Kg/cm2程度に設定されている。脱脂槽2出口の
スプレー13は、脱脂をより確実に行うため
と、脱脂液が乾かないようにするためのもので
ある。つまり、脱脂液が被処理物10の表面に
固まつてしまうと、充分な水洗ができず、品質
上問題を生じさせるからである。第1水洗槽3
および第2水洗槽4は、第5図にみるように、
スプレー13が設けられた上部槽41と水の貯
槽43とを備えている。貯槽43の水がポンプ
14によつて汲み上げられてスプレー13から
噴霧されるようになつている。噴霧された水
は、上部槽41の下部に設けられたドレンパイ
プ42から貯槽43に戻るようになつている。
貯槽43には図示していないが、水の補給パイ
プが設けられていて、貯槽43内の水がつぎつ
ぎと新しい水と入れ換わるようになつている。
せる。ホイスト17が表面調整槽5に達するま
での間に、被処理物10は、脱脂槽2の出口、
第1水洗槽3および第2水洗槽4の各スプレー
13の間を通るようになつている。各スプレー
13は、それぞれポンプ14によつて汲み上げ
られた脱脂液あるいは水を被処理物10に噴霧
するようになつている。ポンプ圧は0.3〜2.0
Kg/cm2程度に設定されている。脱脂槽2出口の
スプレー13は、脱脂をより確実に行うため
と、脱脂液が乾かないようにするためのもので
ある。つまり、脱脂液が被処理物10の表面に
固まつてしまうと、充分な水洗ができず、品質
上問題を生じさせるからである。第1水洗槽3
および第2水洗槽4は、第5図にみるように、
スプレー13が設けられた上部槽41と水の貯
槽43とを備えている。貯槽43の水がポンプ
14によつて汲み上げられてスプレー13から
噴霧されるようになつている。噴霧された水
は、上部槽41の下部に設けられたドレンパイ
プ42から貯槽43に戻るようになつている。
貯槽43には図示していないが、水の補給パイ
プが設けられていて、貯槽43内の水がつぎつ
ぎと新しい水と入れ換わるようになつている。
ホイスト17を表面調整槽5上で停止させ
る。
る。
被処理物10を支持部材32とともに吊り下
ろし表面調整液に浸漬し、表面調整を行う。表
面調整液は、通常、用いられているものを用い
る。
ろし表面調整液に浸漬し、表面調整を行う。表
面調整液は、通常、用いられているものを用い
る。
所定時間後、被処理物10を支持部材32と
ともに最上部まで吊り上げる。
ともに最上部まで吊り上げる。
ホイスト17を化成槽6の方へ走行させる。
被処理物10は、化成槽6に達するまでの間に
表面調整槽5出口のスプレー13の間を通るよ
うになつている。この表面調整槽5出口のスプ
レー13は、ポンプ14によつて汲み上げられ
た表面調整液を被処理物10に噴霧して表面調
整をより確実におこなわせるために設けられて
いる。
被処理物10は、化成槽6に達するまでの間に
表面調整槽5出口のスプレー13の間を通るよ
うになつている。この表面調整槽5出口のスプ
レー13は、ポンプ14によつて汲み上げられ
た表面調整液を被処理物10に噴霧して表面調
整をより確実におこなわせるために設けられて
いる。
ホイスト17を化成槽6上で停止させる。
被処理物10を支持部材32とともに吊り下
ろし化成液に浸漬し、化成処理を行う。化成液
は、通常用いられているものを用いる。化成槽
6には、図示していないが、ヒータが設けられ
ていて、化成液が50℃前後に加熱されている。
ろし化成液に浸漬し、化成処理を行う。化成液
は、通常用いられているものを用いる。化成槽
6には、図示していないが、ヒータが設けられ
ていて、化成液が50℃前後に加熱されている。
所定時間後、被処理物10を支持部材32と
ともに最上部まで吊り上げる。
ともに最上部まで吊り上げる。
ホイスト17を第5水洗槽9に向けて走行さ
せる。ホイスト17が第5水洗槽9に達するま
での間に、被処理物10は、化成槽6出口、第
3水洗槽7および第4水洗槽8の各スプレー1
3の間を通るようになつている。各スプレー1
3は、それぞれポンプ14によつて汲み上げら
れた化成液あるいは水を被処理物10に噴義理
するようになつている。化成槽6出口のスプレ
ー13は、化成処理をより確実に行うためと、
化成処理液が乾かないようにするためのもので
ある。つまり、化成処理液が被処理物10表面
に固まつてしまうと、充分な水洗ができず、品
質上問題を生じさせるからである。化成槽6
は、その底部がテーパ面になつていて、ポンプ
の吸い込み口がこのテーパ面より上部に設けら
れている。このようになつているのは、化成処
理において発生するスラツジをテーパ面の底部
に溜めてポンプ14で吸い上げないようにする
ためである。第3水洗槽7および第4水洗槽8
は、第1水洗槽3と同様の構造になつている。
せる。ホイスト17が第5水洗槽9に達するま
での間に、被処理物10は、化成槽6出口、第
3水洗槽7および第4水洗槽8の各スプレー1
3の間を通るようになつている。各スプレー1
3は、それぞれポンプ14によつて汲み上げら
れた化成液あるいは水を被処理物10に噴義理
するようになつている。化成槽6出口のスプレ
ー13は、化成処理をより確実に行うためと、
化成処理液が乾かないようにするためのもので
ある。つまり、化成処理液が被処理物10表面
に固まつてしまうと、充分な水洗ができず、品
質上問題を生じさせるからである。化成槽6
は、その底部がテーパ面になつていて、ポンプ
の吸い込み口がこのテーパ面より上部に設けら
れている。このようになつているのは、化成処
理において発生するスラツジをテーパ面の底部
に溜めてポンプ14で吸い上げないようにする
ためである。第3水洗槽7および第4水洗槽8
は、第1水洗槽3と同様の構造になつている。
ホイスト17を第5水洗槽9上で停止させ
る。
る。
被処理物10を支持部材32とともに吊り下
ろし水に浸漬し、水洗を行う。
ろし水に浸漬し、水洗を行う。
所定時間後、被処理物10を支持部材32と
ともに最上部まで吊り上げる。
ともに最上部まで吊り上げる。
ホイスト17をフード15出口まで走行させ
る。被処理物10は、フード15から出る前に
第5水洗槽9出口のスプレー13の間を通るよ
うになつている。このスプレー13は、水洗を
より確実に行うためのものである。
る。被処理物10は、フード15から出る前に
第5水洗槽9出口のスプレー13の間を通るよ
うになつている。このスプレー13は、水洗を
より確実に行うためのものである。
フード15から出た被処理物10は、支持部
材32から下ろされたのち、後工程に送られ
る。ホイスト17は、レール16がループにな
つているので、被処理物10を下ろしたのち、
フード15入口側に戻るようになつている。
材32から下ろされたのち、後工程に送られ
る。ホイスト17は、レール16がループにな
つているので、被処理物10を下ろしたのち、
フード15入口側に戻るようになつている。
この表面処理装置は、以上のようであるので、
ホイスト17の電気系統および機械部分を各処理
槽から発生するベーパーの付着によつて傷めた
り、導通不良を起こさせたりすることがない。漏
洩防止手段は、この実施例のように、スプレーに
よつてフード内に所液の飛沫が充満するような場
合、特に有効である。自動走行ホイストを用いる
ことにより低コスト化できる。しかも、自動走行
ホイストであるので、手動ホイストに比べ処理槽
への浸漬時間などが正確に行えるようになり、処
理精度がよく、品質が安定するようになるのであ
る。
ホイスト17の電気系統および機械部分を各処理
槽から発生するベーパーの付着によつて傷めた
り、導通不良を起こさせたりすることがない。漏
洩防止手段は、この実施例のように、スプレーに
よつてフード内に所液の飛沫が充満するような場
合、特に有効である。自動走行ホイストを用いる
ことにより低コスト化できる。しかも、自動走行
ホイストであるので、手動ホイストに比べ処理槽
への浸漬時間などが正確に行えるようになり、処
理精度がよく、品質が安定するようになるのであ
る。
第6図は、この発明にかかる表面処理装置の別
の実施例をあらわす。図にみるように、この表面
処理装置は、溝15b上縁にのみ両側にナイロン
ブラシ21が取り付けられている。この実施例の
場合、円柱部材32dが、表面平滑な部材で形成
されているとともに、絶縁子32cより上方に長
く延びていて、ホイスト走行時この円柱部材32
dが前記ナイロンブラシ21の間を通るようにな
つている。また、溝15bの下縁には、鍔15d
が両側から形成されていて、円柱部材32dが通
るだけの隙間が形成されている。この実施例の場
合、この鍔15dとナイロンブラシ21によつて
溝15bからフード15内の雰囲気が漏れること
を防止するようになつている。なお、上記以外の
構造は、前述の実施例と同様になつている。
の実施例をあらわす。図にみるように、この表面
処理装置は、溝15b上縁にのみ両側にナイロン
ブラシ21が取り付けられている。この実施例の
場合、円柱部材32dが、表面平滑な部材で形成
されているとともに、絶縁子32cより上方に長
く延びていて、ホイスト走行時この円柱部材32
dが前記ナイロンブラシ21の間を通るようにな
つている。また、溝15bの下縁には、鍔15d
が両側から形成されていて、円柱部材32dが通
るだけの隙間が形成されている。この実施例の場
合、この鍔15dとナイロンブラシ21によつて
溝15bからフード15内の雰囲気が漏れること
を防止するようになつている。なお、上記以外の
構造は、前述の実施例と同様になつている。
この発明にかかる表面処理装置は、上記の実施
例に限定されない。実施例では、スプレー13に
よる処理液の噴霧の場合、ホイスト17が走行し
ていたが、スプレーの間で一旦停止させるように
しても構わない。第2の実施例の場合もダクト2
2を設けるようにしても構わない。実施例では帯
状可撓性部材としてナイロンブラシが用いられて
いたが、たとえば、ゴムの板材でも構わない。実
施例では、チエーンが用いられていたが、ワイヤ
ーロープでも構わない。実施例では、小室内を吸
引により減圧していたが、加圧するようにしても
構わない。
例に限定されない。実施例では、スプレー13に
よる処理液の噴霧の場合、ホイスト17が走行し
ていたが、スプレーの間で一旦停止させるように
しても構わない。第2の実施例の場合もダクト2
2を設けるようにしても構わない。実施例では帯
状可撓性部材としてナイロンブラシが用いられて
いたが、たとえば、ゴムの板材でも構わない。実
施例では、チエーンが用いられていたが、ワイヤ
ーロープでも構わない。実施例では、小室内を吸
引により減圧していたが、加圧するようにしても
構わない。
たとえば、第7図にみるように、電着塗装槽6
0にも用いることもできる。電着塗装槽60は、
陰電極61および陽電極62を備えている。陰電
極61は、電着塗装液65内に臨むように配置さ
れている。陽電極62は、電着塗装槽60の上縁
部に設けられている。
0にも用いることもできる。電着塗装槽60は、
陰電極61および陽電極62を備えている。陰電
極61は、電着塗装液65内に臨むように配置さ
れている。陽電極62は、電着塗装槽60の上縁
部に設けられている。
電着塗装は、たとえば、つぎのようにして行
う。すなわち、前記実施例のようにして前表面処
理が終了した被処理物10を、支持部材32に支
持させたままホイスト17で電着塗装槽60の上
まで運ぶ。被処理物10を所定の位置まで吊り下
ろして電着塗装液65に浸漬する。所定の位置ま
で吊り下ろすと、ハンガー32aの両側に突出す
る突出片32eが陽電極62に接続されるように
なつている。つぎに、電極に通電する。被処理物
10は、台32b、ハンガー32aを介して陽電
極62に接続されているので、陽極となり、陰電
荷を帯びた電着塗装液65が電着されるようにな
つているのである。ホイスト17とハンガー32
aとは絶縁子32cで電気的に絶縁されているの
で、ハンガー32aに通電されても、ホイスト1
7の制御部が影響をうけることはない。第7図
中、70はフード15内の雰囲気を排気するフア
ンである。
う。すなわち、前記実施例のようにして前表面処
理が終了した被処理物10を、支持部材32に支
持させたままホイスト17で電着塗装槽60の上
まで運ぶ。被処理物10を所定の位置まで吊り下
ろして電着塗装液65に浸漬する。所定の位置ま
で吊り下ろすと、ハンガー32aの両側に突出す
る突出片32eが陽電極62に接続されるように
なつている。つぎに、電極に通電する。被処理物
10は、台32b、ハンガー32aを介して陽電
極62に接続されているので、陽極となり、陰電
荷を帯びた電着塗装液65が電着されるようにな
つているのである。ホイスト17とハンガー32
aとは絶縁子32cで電気的に絶縁されているの
で、ハンガー32aに通電されても、ホイスト1
7の制御部が影響をうけることはない。第7図
中、70はフード15内の雰囲気を排気するフア
ンである。
実施例では、脱脂が、浸漬のみによるものであ
つたが、脱脂槽を電着塗装槽のような構造として
電解脱脂を行うようにしても構わない。
つたが、脱脂槽を電着塗装槽のような構造として
電解脱脂を行うようにしても構わない。
この発明にかかる表面処理装置は、以上のよう
に構成されているので、低コストで、多品種少量
生産に適しており、しかも、処理液のベーパーに
よつて搬送手段などの機器を傷めたりして、作動
不良をおこさせることもなくなる。
に構成されているので、低コストで、多品種少量
生産に適しており、しかも、処理液のベーパーに
よつて搬送手段などの機器を傷めたりして、作動
不良をおこさせることもなくなる。
第1図はこの発明にかかる表面処理装置の1実
施例を説明する模式図、第2図はその脱脂槽(表
面処理槽、第5水洗槽)をホイストの進行方向か
ら見た断面図、第3図はその側方から見た断面
図、第4図はナイロンブラシの斜視図、第5図は
その第1〜4水洗槽をホイストの進行方向から見
た断面図、第6図はこの発明にかかる表面処理装
置の別の実施例の漏洩防止手段を説明する溝部分
の断面図、第7図は電着塗装槽をホイストの進行
方向から見た断面図、第8図は従来の表面処理装
置を説明する模式図である。 1〜9,60……処理槽(湯洗槽、脱脂槽、表
面調整槽、化成槽、第1〜5水洗槽、電着塗装
槽)、15……フード、15a……天井部、15
b……溝、16……レール、17……自動走行ホ
イスト、17a……円筒、21……ナイロンブラ
シ(帯状可撓性部材)、30……吊り具、31…
…チエーン、32……支持部材。
施例を説明する模式図、第2図はその脱脂槽(表
面処理槽、第5水洗槽)をホイストの進行方向か
ら見た断面図、第3図はその側方から見た断面
図、第4図はナイロンブラシの斜視図、第5図は
その第1〜4水洗槽をホイストの進行方向から見
た断面図、第6図はこの発明にかかる表面処理装
置の別の実施例の漏洩防止手段を説明する溝部分
の断面図、第7図は電着塗装槽をホイストの進行
方向から見た断面図、第8図は従来の表面処理装
置を説明する模式図である。 1〜9,60……処理槽(湯洗槽、脱脂槽、表
面調整槽、化成槽、第1〜5水洗槽、電着塗装
槽)、15……フード、15a……天井部、15
b……溝、16……レール、17……自動走行ホ
イスト、17a……円筒、21……ナイロンブラ
シ(帯状可撓性部材)、30……吊り具、31…
…チエーン、32……支持部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被処理物を搬送する搬送手段および多数の処
理槽を備え、被処理物が前記搬送手段によつて各
処理槽に順に搬送されて処理液への浸漬が行わ
れ、所望の表面処理がなされるようになつている
表面処理装置であつて、前記多数の処理槽がフー
ドに覆われており、このフードには、天井部にお
いて長手方向全長にわたり外部に開口する溝が形
成されているとともに、その上方にはこの溝に沿
つてレールが敷設されていて、このレールには、
組み込まれたプログラムにしたがい走行・停止・
吊り下ろし・吊り上げの各動作を自動的に行う自
動走行ホイストが走行自在に懸架され、このホイ
ストに設けられた前記被処理物の吊り具が前記溝
から前記フード内に臨むようになつているととも
に、前記溝には、フード内雰囲気の漏洩を防止す
る漏洩防止手段が設けられており、前記被処理物
は、前記吊り具に支持されて、前記プログラムど
おりに各処理槽に搬送され表面処理されるように
なつていることを特徴とする表面処理装置。 2 吊り具が被処理物をフード内で支持する支持
部材と、自動走行ホイストのモータの駆動により
長さが伸縮してこの支持部材を昇降させるチエー
ンまたはワイヤロープを備えている特許請求の範
囲第1項記載の表面処理装置。 3 漏洩防止手段が、溝を覆うように溝両側に設
けられた帯状可撓性部材である特許請求の範囲第
1項または第2項記載の表面処理装置。 4 自動走行ホイストの帯状可撓性部材に接触す
る部分が、表面が平滑な部材で形成されている特
許請求の範囲第3項記載の表面処理装置。 5 平滑な部材が円筒であり、チエーンまたはワ
イヤロープがこの円筒を介して支持部材を昇降さ
せるようになつており、その下端部がラツパ状に
広がつていて、支持部材の一部がこの下端部から
円筒内に入り込み、ホイスト走行時の被処理物お
よび支持部材の揺れ止めがなされるようになつて
いる特許請求の範囲第4項記載の表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1440987A JPS63183196A (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1440987A JPS63183196A (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 表面処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63183196A JPS63183196A (ja) | 1988-07-28 |
JPH049878B2 true JPH049878B2 (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=11860247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1440987A Granted JPS63183196A (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63183196A (ja) |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4423695Y1 (ja) * | 1965-12-29 | 1969-10-07 | ||
JPS4429060Y1 (ja) * | 1966-10-25 | 1969-12-02 | ||
JPS511904A (en) * | 1974-06-25 | 1976-01-09 | Daiwa Kikai Kk | Mootasuteetakoiruno jokyosochi |
JPS5135918U (ja) * | 1974-09-06 | 1976-03-17 | ||
JPS5146938A (ja) * | 1974-10-18 | 1976-04-22 | West Electric Co | |
JPS5526119A (en) * | 1978-08-08 | 1980-02-25 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Method of treating dust |
JPS5570427U (ja) * | 1978-11-06 | 1980-05-15 | ||
JPS598910B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1984-02-28 | 松下電器産業株式会社 | 半導体記憶装置 |
JPS5939104U (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-13 | 東芝タンガロイ株式会社 | クイツクチエンジ機構を備えたツ−ルヘツド |
JPS6040304A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | Daifuku Co Ltd | 格納設備 |
US4511448A (en) * | 1981-05-22 | 1985-04-16 | Anritsu Electric Company Limited | Plating apparatus |
JPH049878A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置の感光体表面電位測定装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS598910U (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-20 | 株式会社ダイフク | 吊下げ搬送装置 |
-
1987
- 1987-01-24 JP JP1440987A patent/JPS63183196A/ja active Granted
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4423695Y1 (ja) * | 1965-12-29 | 1969-10-07 | ||
JPS4429060Y1 (ja) * | 1966-10-25 | 1969-12-02 | ||
JPS511904A (en) * | 1974-06-25 | 1976-01-09 | Daiwa Kikai Kk | Mootasuteetakoiruno jokyosochi |
JPS5135918U (ja) * | 1974-09-06 | 1976-03-17 | ||
JPS5146938A (ja) * | 1974-10-18 | 1976-04-22 | West Electric Co | |
JPS5526119A (en) * | 1978-08-08 | 1980-02-25 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Method of treating dust |
JPS5570427U (ja) * | 1978-11-06 | 1980-05-15 | ||
JPS598910B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1984-02-28 | 松下電器産業株式会社 | 半導体記憶装置 |
US4511448A (en) * | 1981-05-22 | 1985-04-16 | Anritsu Electric Company Limited | Plating apparatus |
JPS5939104U (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-13 | 東芝タンガロイ株式会社 | クイツクチエンジ機構を備えたツ−ルヘツド |
JPS6040304A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | Daifuku Co Ltd | 格納設備 |
JPH049878A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置の感光体表面電位測定装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63183196A (ja) | 1988-07-28 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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