JPH0483791A - 液相エピタキシャル結晶育成法 - Google Patents

液相エピタキシャル結晶育成法

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Publication number
JPH0483791A
JPH0483791A JP19505990A JP19505990A JPH0483791A JP H0483791 A JPH0483791 A JP H0483791A JP 19505990 A JP19505990 A JP 19505990A JP 19505990 A JP19505990 A JP 19505990A JP H0483791 A JPH0483791 A JP H0483791A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mother liquor
substrate
crystal
thin film
growth
Prior art date
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Pending
Application number
JP19505990A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Fujino
芳男 藤野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0483791A publication Critical patent/JPH0483791A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は液相エピタキシャル法によって化合物半導体の
薄膜結晶を基板上に育成する方法に関する。
[従来の技術] 従来より、液相エピタキシャル(LPE)法によって化
合物半導体の薄膜結晶を育成する際に用いられる容器は
、石英ガラス、炭素、窒化硼素などが単体構成で使用さ
れてきた。つまり石英ガラスなら石英カラスだけで容器
の全ての部品を作製し、容器全体を構成している。どの
材料を用いるかは高純度性、工作のしやすさなどを基準
にして選ばれる。例えば、石英ガラスは高純度性には優
れているが、スライドボートのような複雑な構造をもつ
ものは工作性か悪いので使われない。この場合は炭素が
使われることが殆どである。
[発明か解決しようとする課題] LPE法で薄膜結晶を育成する際の最も大きい問題の一
つは、結晶が成長したあと母液を基板上から分離させる
時、第2図に示すように、母液の一部が成長した薄膜結
晶1の上にしずく2状に1〜3個残ることである。この
しずくは、この薄膜結晶を用いてデバイスを作製する際
にあってはならないもので、技術者はしずくを発生させ
ない(または残さない)ために色々工夫をしている。
しかしながら、これと言って優れた方法はなく、せいぜ
い発生率を少なくする程度であった。
本発明はこのような従来の問題点を解決するためになさ
れたもので、液相エピタキシャル法によって薄膜結晶を
育成する際に、母液の一部をしすくとして結晶上に残す
ことかなく、平滑平坦な結晶面を得ることのできる液相
エピタキシャル結晶育成法を提供することを目的とする
[課題を解決するための手段] 本発明は、容器内で育成母液を基板に接触させ、基板上
に結晶を析出させて薄膜結晶を育成する液相エピタキシ
ャル結晶育成法において、容器内における基板の対向面
は育成母液との親和性の強い材料で形成され、その他の
育成母液の基板からの分離時における育成母液のwi説
部は該育成母液との親和性の弱い材料で形成された容器
を用いて結晶育成することを特徴とする液相エピタキシ
ャル結晶育成法である。
[作用] 本発明の作用について図面を用いて説明する。
まず、成長した結晶上にしずくか残る原因は次のように
考えられる。第3図(a)は結晶が成長し終った直後の
様子でおり、母液5は、下部は容器の底部4に、上部は
成長した結晶1および基板ホルダ6に接している。第3
図(b)および(C)は、結晶1から母液5を分離させ
る工程の様子を示したもので、基板ホールダ6ごと結晶
1を矢印の方向に移動させる。この時、母液5の親和性
か容器底部4に対するより結晶1や基板ホールダ6に対
する方か大きいかまたは等しければ、(b)のごとく結
晶1に対して粘着性が強くなって母液の一部をしずく2
として残すことになる。一方、(C)はその逆の場合を
示したもので、母液5の親和性か容器底部4に対する方
か大きいので、結晶1ヤ基板ホールダ6に対して粘着性
が弱く、しずくを残さないで分離する。
以上のことから、容器の底部の如く成長した結晶と対向
していて、そのため同時に母液に接する部分には親和性
の強い材質のものを用いるのが良いことになる。一方、
基板ホールダや基板ホールダを支持する部品、ざらには
容器底部に接する容器の壁などの育成母液からの離脱部
は、親和性か弱いかまたは反撥性のめる材質のものを用
いるへきである。
即ち、本発明においては、第3図(C)のような作用を
生じさせることによって、しずくを残さないで薄膜結晶
を得ることができる。
[実施例] 次に本発明の実施例について説明する。
本実施例では、化合物半導体の一つであるテルル化水銀
カドミウムの薄膜結晶をLPE法でテルル化カドミウム
からなる基板上に成長させた場合を例にとって説明する
第1図(a)は本発明の方法に用いられる結晶育成用容
器の一例の断面図である。容器は容易に入手できる材料
のうちで最もテルル化水銀カドミウムの育成母材(テル
ル成分を多めにしたテルル化水銀カドミウム)との親和
性の大きかったグラツシーカーボン(ガラス質炭素)か
らなる底部4と、親和性の小さい窒化硼素からなる側壁
7、基板ホルダ6、蓋8とから構成されている。
この容器にテルル化カドミウム単結晶からなる基板3と
育成母材5とを収容した後、通常の通り、容器全体を石
英製アンプル(図示せず〉に真空封入し、専用の電気炉
に入れてテルル化水銀カドミウムの薄膜結晶1を基板3
上に育成した。育成法はLPE法の中でもテルル化水銀
カドミウムに適した密閉式の傾斜法でおる。
育成工程終了後の母液5の分離工程は、容器を横から見
た図である第1図(b)の如く、容器を電気炉ごと傾斜
させることによって行った。6回の結晶育成において、
しずくの残った例は一例もなかった。側壁7を底部4と
同様にグラッシーカーボンを用いて構成した場合は、側
壁7と基板3との間のすき間9に母液か毛管現象的に侵
入し、結晶取り出し時は固化しているので両者か密着し
てしまった。このため取り出しかできず、基板とその上
に成長した結晶を破壊しなければならなかった。
[発明の効果] 以上詳述したように、本発明の方法によれば液相法で基
板上に薄膜結晶を育成した際に、母液の一部をしずくと
して結晶上に残すことかなくなり、平滑・平坦な結晶面
を得ることかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法における結晶育成用容器の一例の
断面図、第2図は従来例による結晶育成を行った時の薄
膜結晶の斜視図、第3図は結晶育成終了後の薄膜結晶、
母液および容器底部の状態を説明するための説明図であ
る。 1・・・薄膜結晶      2・・・しずく3・・・
基板        4・・・底部5・・・母液(母材
)    6・・・基板ホールダ7・・・側壁    
    8・・・蓋9・・・基板と側壁との隙間

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)容器内で育成母液を基板に接触させ、基板上に結
    晶を析出させて薄膜結晶を育成する液相エピタキシャル
    結晶育成法において、容器内における基板の対向面は育
    成母液との親和性の強い材料で形成され、その他の育成
    母液の基板からの分離時における育成母液の離脱部は該
    育成母液との親和性の弱い材料で形成された容器を用い
    て結晶育成することを特徴とする液相エピタキシャル結
    晶育成法。
JP19505990A 1990-07-25 1990-07-25 液相エピタキシャル結晶育成法 Pending JPH0483791A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS582293A (ja) * 1981-06-29 1983-01-07 Fujitsu Ltd 液相エピタキシヤル成長装置
JPS58145696A (ja) * 1982-02-23 1983-08-30 Fujitsu Ltd 液相エピタキシヤル成長方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS582293A (ja) * 1981-06-29 1983-01-07 Fujitsu Ltd 液相エピタキシヤル成長装置
JPS58145696A (ja) * 1982-02-23 1983-08-30 Fujitsu Ltd 液相エピタキシヤル成長方法

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