JPH0482885A - 6―アシル―7―デアセチルフォルスコリン誘導体の新規な製造法 - Google Patents

6―アシル―7―デアセチルフォルスコリン誘導体の新規な製造法

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JPH0482885A
JPH0482885A JP2194562A JP19456290A JPH0482885A JP H0482885 A JPH0482885 A JP H0482885A JP 2194562 A JP2194562 A JP 2194562A JP 19456290 A JP19456290 A JP 19456290A JP H0482885 A JPH0482885 A JP H0482885A
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JP
Japan
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acyl
forskolin
formula
diacetyl
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Tochirou Tatee
舘江 栃郎
Tatsuo Sugioka
杉岡 龍夫
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Nippon Kayaku Co Ltd
Sanofi Aventis KK
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Hoechst Japan Ltd
Nippon Kayaku Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/78Ring systems having three or more relevant rings
    • C07D311/92Naphthopyrans; Hydrogenated naphthopyrans

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は医薬として期待される6−アシル−7デアセチ
ルフオルスコリン誘導体の新規な製造法に関する。
〔従来の技術〕
6−アシル−7−ジアセチルフォルスコリンの製法とし
ては例えば7−アシル−7−ジアセチルフォルスコリン
にプロトン性溶媒中水酸化ナトリウムを作用させ室温で
7−アシル基を6位に転位させる方法(特開昭63−1
0783号)が知られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし上記の方法は出発物質の加水分解により7−ジア
セチルフォルスコリンを副生成物として与え、収量、精
製法に問題があり精製にクロマトグラフィーを用いねば
ならない等大量合成に適さないという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
そこで本発明者らは、種々検討した結果、ォルスコリン
誘導体に、非プロトン性溶媒中、メチルリチウム等の強
塩基を作用させるだけで加水分解生成物を与えることな
く7位のアシル基が6位に転位し、 H (式中R1はエステル化、エーテル化、又はシリル化さ
れていてもよい水酸基であり、R2はアシル基であり、
R3は02〜C3の炭化水素基を示す)で表わされる7
−アシル−7−ゾアセチルフ(式中R1、R2、R3は
前記と同じ)で表わされる転位生成物6−アシル−7−
ジアセチルフォルスコリン誘導体が得られることを見い
出した。
また、本製造法はR2が立体的にかさ高いベンゾイル基
等の場合でも好収率で転位生成物を与えることを見い出
した。本発明は上記知見に基づき完成されたものである
上記−形式(1)、(II)において、R’ としては
、エステル化、エーテル化、又はシリル化していてもよ
い水酸基であり、例えば水酸基あるいはフォルミロキシ
基、アセトキシ基、プロピオニロキシ基、ブチリロキシ
基、ベンゾイロキシ基、4−メトキシベンゾイロキシ基
、ジメチルアミノアセトキシ基、ピペリジノアセトキシ
基、ジエチルアミノアセトキシ基、モルフォリノアセト
キシ基、(4−ヒドロキシピペリジノ)アセトキシ基、
ジプロピルアミノアセトキシ基、2−エチルアミノプロ
ピオニロキシ基、チオモルフォリノアセトキシ基、2−
モルフォリノプロピオニロキシ基、イソプロピルアミノ
アセトキシ基、2−ジメチルアミノプロピオニロキシ基
、t−ブチルアミノアセトキシ基、3−ジメチルアミノ
プロピオニロキシ基、(4−メチルピペラジノ)アセト
キシ基、2−ジメチルアミノブチリロキシ基、3−ジメ
チルアミノブチリロキシ基、4−ジメチルアミノブチリ
ロキシ基、グリコロイロキシ基、2.3−ジヒドロキシ
プロピオニロキシ基、チオグリコロイロキシ基、ヘミサ
クシニロキシ基、ヘミグルタリロキシ基、グリシロキシ
基、2−アミノプロピオニロキシ基、3−アミノプロピ
オニロキシ基、2−メチルアミノブチリロキシ基、ニコ
チノイロキシ基、フロイロキシ基、ヒスチジロキシ基、
リシロキシ基等のアシロキシ基あるいはトリメチルシリ
ロキシ基、t−ブチルジフェニルシリロキシ基、t−ブ
チルジメチルシリロキシ基等のシリロキシ基、あるいは
2−メトキシエトキシメトキシ基、メトキシ基、メチル
チオメトキシ基、メトキシメトキシ基、ベンジロキシ基
等の置換アルコキシ基、ベンジロキシカルボニロキシ基
、t−ブトキシカルボニロキシ基等の置換アルコキシカ
ルボニロキシ基などがあげられる。
R2としては、アシル基であり例えばフォルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ジメチルアミ
ノアセチル基、ブチルアミノアセチル基、ジエチルアミ
ノアセチル基、ピロリジノアセチル基、ピペラジノアセ
チル基、モルフォリノアセチル基、ピペリジノアセチル
基、N−シクロへキシル−N−メチルアミノアセチル基
、(4−メチルピペラジノ)アセチル基、ジプロピルア
ミノアセチル基、(4−ヒドロキシピペリジノ)アセチ
ル基、チオモルフォリノアセチル基、イソプロピルアミ
ノアセチル基、t−ブチルアミノアセチル基、グリシル
基、ベンジロキシカルボニルアミノアセチル基、2−ア
ミノプロピオニル基、3アミノプロピオニル基、2−ジ
メチルアミノプロピオニル基、3−ジメチルアミノプロ
ピオニル基、2−ピロリジノプロビオニル基、3−ピペ
ラジノプロピオニル基、2−ブチルアミノプロピオニル
基、3−ジエチルアミノプロビオニル基、2モルフォリ
ノプロピオニル基、3−ピペリジノプロビオニル基、3
−(t−ブトキシカルボニルアミノ)プロピオニル基、
2−アミノブチリル基、3−アミノブチリル基、4−ジ
メチルアミノブチリル基、4−アミノブチリル基、2−
ジメチルアミノブチリル基、3−ジエチルアミノブチリ
ル基、4−イソプロピルアミノブチリル基、2−ブチル
アミノブチリル基、3−ピロリジノブチリル基、4−モ
ルフォリノブチリル基、2−ピペラジノブチリル基、3
−ピペリジノブチリル基、4−チオモルフォリノブチリ
ル基、2−アミノペンタノイル基、3−ジメチルアミノ
ペンタノイル基、4−ジエチルアミノペンタノイル基、
5−ピロリジノペンタノイル基、2−ピペリジノヘキサ
ノイル基、3−モルフォリノへキサノイル基、4−(4
−メチルピペラジノ)ヘキサノイル基、5−(t−ブチ
ルアミノ)ヘキサノイル基、6−メチルアミノヘキサノ
イル基、3−ジメチルアミノ−2−メチルプロピオニル
基、3−ピロリジノ−2−メチルプロピオニル基、3−
ジメチルアミノ−2−エチルプロピオニル基、4−ジメ
チルアミノ−2−メチルブチリル基、4−アミノ−2−
プロピルブチリル基、ヘミサクシニル基、ヘミグルタリ
ル基、チオグリコロイル基、チエノイル基、イソニコチ
ノイル基、プロリル基、ヒスチジル基、リシル基、チロ
シル基、メチオニル基、オルエチル基、グリコロイル基
、ラクトイル基、2.3−ジヒドロキシプロピオニル基
、およびベンゼン環上に置換基がついていてもよいベン
ゾイル基、例えばベンゾイル基、p−ブロモベンゾイル
基、P−クロロベンゾイル基、p−ヨードベンゾイル基
、p−メトキシベンゾイル基、p−ジメチルアミノベン
ゾイル基、m−7’ロモベンゾイル基、0−クロロベン
ゾイル基、m−ヨードベンゾイル基、0−メトキシベン
ゾイル基、m−ジメチルアミノベンゾイル基、などがあ
げられる。
R3としては例えばビニル基、エチル基、シクロプロピ
ル基などの02〜C3の炭化水素基があげられる。
一般式(n)の化合物としては例えば、7−ジアセチル
−ツージメチルアミノアセチルフォルスコリン、7−ジ
アセチル−ツーグリシルフォルスコリン、7−ゾアセチ
ルー7−ピベリジノアセチルフオルスコリン、7−ゾア
セチルー7−(2ジメチルアミノプロピオニル)フォル
スコリン、7−ゾアセチルー7−(3−ジメチルアミノ
プロピオニル)フォルスコリン、7−ジアセチル−7(
2−モルフォリノプロピオニル)フォルスコリン、7−
ジアセチル−ツーアラニルフォルスコリン、7−ゾアセ
チルー7−(2−アミノブチリル)フォルスコリン、7
−ゾアセチルー7−(4ジメチルアミノブチリル)フォ
ルスコリン、7デアセチルー7−(2,3−ジヒドロキ
シプロピオニル)フォルスコリン、7−ジアセチル−7
へミザクシニルフォルスコリン、7−ジアセチル−ツー
ヒスチジルフォルスコリン、7−ジアセチル−ツープロ
リルフォルスコリン、7−ジアセチル−ツーリシルフォ
ルスコリン、7−ジアセチル−ツーグリコロイルフォル
スコリン、7−ゾアセチルー14.15−ジヒドロ−7
−シメチルアミノアセチルフオルスコリン、7−ジアセ
チル−14,15−ジヒドロ−7−(3−ジメチルアミ
ノプロピオニル)フォルスコリン、7−ゾアセチルー1
4.15−ジヒドロ〜7−(4−ジメチルアミノブチリ
ル)フォルスコリン、13−シクロプロピル−7−デア
セチル−7−(3−ジメチルアミノプロピオニル)−1
4,15−ジノルフォルスコリン、13−シクロプロピ
ル−7−デアセチル−7−(4−ジメチルアミノブチリ
ル)−1415−ジノルフォルスコリン、7−デアセチ
ル14.15−ジヒドロ−7−ピロリジノアセチルフォ
ルスコリン、7−ゾアセチルー14.15ジヒドロ−7
−(2−モルフォリノプロピオニル)フォルスコリン、
1−アセチルフォルスコリン、1−t−ブチルジメチル
シリルフォルスコリン、1−ベンゾイルフォルスコリン
、1−ベンジルフォルスコリン、l−メトキシフォルス
コリン、1−トリメチルシリルフォルスコリン、1−t
−ブチルジフェニルシリルフォルスコリン、1−(2−
メトキシエトキシメチル)フォルスコリン、■=メチル
チオメチルフォルスコリン、1−メトキシメチルフォル
スコリン、1−ベンジロキシカルボニルフォルスコリン
、1−(t−ブトキシカルボニル)フォルスコリン、1
−アセチル−7−ジアセチル−ツープロビオニルフォル
スコリン、1−1−ブチルジメチルシリル−7−ブチリ
ル−7デアセチルフオルスコリン、1−ベンジル−7−
ジアセチル−ツーペンタノイルフォルスコリン、1−(
2−メトキシエトキシメチル)フォルスコリン、1−ベ
ンゾイル−14,15−ジヒドロフォルスコリン、14
.15−ジヒドロ−1−トリメチルシリルフォルスコリ
ン、1−メトキシ−14゜15−ジヒドロ−7−ジアセ
チル−ツープロピオニルフォルスコリン、1−L−ブチ
ルジフェニルシリル−13−シクロプロピル−14,1
5−ジノル−7−ジアセチル−フープチリルフォルスコ
リン、■−ベンジロキシー13−シクロプロピル14.
15−ジノル−7−ジアセチル−7(3−ジメチルプロ
ピオニル)フォルスコリン、1−(L−ブトキシカルボ
ニル)−13−シクロプロピル−14,15−ジノル−
7−ゾアセチル7−(4−ジメチルブチリル)フォルス
コリン、1−メチルチオメチル−13−シクロプロピル
14.15−ジノル−7−ジアセチル−ツージメチルア
ミノアセチルフォルスコリン、14.15=ジヒドロフ
オルスコリン、13−シクロプロピル−14,15−ジ
ノルフォルスコリン、7−ゾアセチルフオルスコリンー
7−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−
カルボキシラード)、7−ゾアセチルー7−(3−ジメ
チルアミノ−2−メチルプロピオニル)フォルスコリン
、14.15−ジヒドロ−7−ジアセチル−7(3−ジ
メチルアミノ−2−メチルプロピオニル)フォルスコリ
ン、7−ゾアセチルー7−(4−ジメチルアミノ−2−
メチルブチリル)フォルスコリン、14.15−ジヒド
ロ−7−ゾアセチルー7−(4−ジメチルアミノ−2−
メチルブチリル)フォルスコリン、7−ペンジイル−ツ
ーデアセチルフォルスコリン、7−(p−ブロモベンゾ
イル)7−シアセチルフォルスコリン、7−(p−クロ
ロベンゾイル)−7−シアセチルフォルスコリン、7−
(p−ヨードベンゾイル)−7−シアセチルフォルスコ
リン、7−(p−メトキシベンゾイル)−7−シアセチ
ルフォルスコリン、7(p−ジメチルアミノベンゾイル
)−7−シアセチルフォルスコリン、7−(m−ブロモ
ベンゾイル)−7−シアセチルフォルスコリン、7−(
クロロベンゾイル)−7−シアセチルフォルスコリン、
7−(m−ヨードベンゾイル)−7−シアセチルフォル
スコリン、7−(o−メトキシベンゾイル)−7−シア
セチルフォルスコリン、7(m−ジメチルアミノベンゾ
イル)−7−シアセチルフォルスコリンなどがあげられ
る。
本発明において温度は−80“Cから溶媒の沸点、好ま
しくは一80°Cから0°C1更に好ましくは50”C
〜−70°Cである。
反応時間は温度により異なるが通常1分以上好ましくは
30分〜12時間程度である。
非プロトン性溶媒としてはヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、
トリグライムなどが好ましい。
強塩基としては有機金属、金属水素化物又は金属アミド
が好ましく金属としてはアルカリ金属、アルカリ土類金
属が好ましい。使用する塩基としては例えばメチルリチ
ウム、エチルリチウム、ブチルリチウム、フェニシレリ
チウム、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、リ
チウムアミド、ソジウムアミド、ポタシウムアミド、水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、メ
チルマグネシウムアイオダイド、エチルマグネシラムブ
ロマイド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニル
マグネシウムアイオダイド、リチウムジシクロへキシル
アミド、リチウムジイソプロピルアミドなどが好ましい
。使用する塩基はモル比で0.1〜10倍程度である。
〔発明の効果〕
本発明により、フォルスコリン類の7位アシル基を簡易
に収率よく6位に転位させることができ、純度の良好な
フォルスコリン類の6−位アシル体を得ることができる
〔実施例〕
災施尉土 7−ゾアセチルー6−(3−ジメチルアミノプロピオニ
ル)フォルスコリン 7−ゾアセチルー7−(3−ジメチルアミノプロピオニ
ル)フォルスコリン(200■) ヲ無水テトラヒドロ
フランに溶解し、0.98 Mメチルリチウムジエチル
エーテル溶液5戚を窒素気流下で78°C1窒素雰囲気
下に加える。窒素雰囲気下78°Cで攪拌を更に6時間
続ける。反応終了後。
10%塩化アンモニウム水溶液を加える。飽和食塩水で
希釈し、酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗し硫酸マ
グネシウムで乾燥、乾燥剤をろ別後、ろ液を濃縮する。
濃縮液(216,5■)をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(30g)にかけ、ジクロロメタン−メタノー
ル(30:1)で溶出することにより7−ゾアセチルー
6−(3−ジメチルアミノプロピオニル)フォルスコリ
ン(112■、収率56%)を得る。未反応の7−ゾア
セチルー7−(3−ジメチルアミノプロピオニル)フォ
ルスコリン(75■)を同様の反応にかけクロマトグラ
フィーで精製することにより7−ゾアセチルー6−(3
−ジメチルアミノプロピオニル)フォルスコリンを更に
43■得る。合計の収率78%。
実衡尉1 6−(p−ブロモベンゾイル)−7−ジアセチルフォル
スコリン 7−デアセチルー7−(p−ブロモベンゾイル)フォル
スコリン(320■)、テトラヒドロフラン(10mf
f)の混合液を一78°Cに冷却下、メチルリチウム溶
液(1,4M、エチルエーテル溶液)1 mlを加え、
30分間撹拌する。反応終了後、反応液を塩化アンモニ
ウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を
水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過す
る。ろ液を減圧下に濃縮し、残渣をエチルエーテル−石
油エーテルから再結晶し、6−(p−ブロモベンゾイル
)7−ジアセチルフォルスコリン(290■)を得る。
II? (KBr)v  : 3573,3259,2944,
1726.170?、1589゜1398.1270,
1101,1012.754c+n ’’H−NMR(
CDCl2)  δ:0.94 (3H,s) 、 1
.11 (3H,s) 、 1.40(3H,s)、1
.55(3H,s)、1.64(3H,s)。
2.45(LH,d、J=3.1Hz) 、2.52(
LH,d、J=17Hz) 、 3.23 (IH,d
、 J=17Hz) 、 4.41(IH+d、J=4
.8Hz)、4.65〜4.80(II(1m)+5.
0(LH,dd、 J=10.6.1.11(z) 、
 5.19(ILdd、J=17,1.IHz)、6.
14(IH,dd、J=17.4.Io、5Hz)、6
.17(1)1.dd、J=4.8゜3.1Hz)+7
.5〜7.7(2H1m)、7.8〜s、。
(2H,m)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^1はエステル化、エーテル化、シリル化され
    ていてもよい水酸基であり、R^2はアシル基でありR
    ^3はC_2〜C_3の炭化水素基を示す)で表わされ
    る7−アシル−7−デアセチルフォルスコリン誘導体に
    、非プロトン性溶媒中、強塩基を作用させることを特徴
    とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2、R^3は前記と同じ)で表わさ
    れる6−アシル−7−デアセチルフォルスコリン誘導体
    の製造法。
JP2194562A 1990-07-23 1990-07-23 6―アシル―7―デアセチルフォルスコリン誘導体の新規な製造法 Pending JPH0482885A (ja)

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