JPH0480889B2 - - Google Patents

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JPH0480889B2
JPH0480889B2 JP58022231A JP2223183A JPH0480889B2 JP H0480889 B2 JPH0480889 B2 JP H0480889B2 JP 58022231 A JP58022231 A JP 58022231A JP 2223183 A JP2223183 A JP 2223183A JP H0480889 B2 JPH0480889 B2 JP H0480889B2
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compound
group
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ketone
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JP58022231A
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Harorudo Richaado Baaton Dereku
Burankusu Mazaueru Uiriamu
Zaaru Zaaru Samiiru
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Sanofi Aventis France
Original Assignee
Roussel Uclaf SA
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Publication date
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    • C07J13/005—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen having a carbon-to-carbon double bond from or to position 17 with double bond in position 16 (17)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07J5/0015—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond not substituted in position 17 alfa not substituted in position 16
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なニトロメチル化剤、これをニ
トロメチレン化合物及びその誘導体の製造に使用
する方法に関する。
しかして、本発明は、ジアミンの存在下で用い
られるニトロメタンよりなるケトン化合物用ニト
ロメチル化剤を主題とする。
なお、ケトン化合物のニトロメチル化反応と
は、有機環状又は非環状化合物上のケトン基をニ
トロメチレン基に変換するのを可能ならしめる反
応と理解されたい。例えば次の型の反応をあげる
ことができる。
特に、本発明は、ジアミンがエチレンジアミ
ン、トリメチレンジアミン及びテトラメチレンジ
アミンよりなる群から選ばれることを特徴とする
前記のニトロメチル化剤を主題とする。
また本発明は、少なくとも１個のケトン基を含
有する環状又は非環状有機化合物に前記のニトロ
メチル化剤を作用させてニトロメチレン化合物を
得ることを特徴とする前記ニトロメチル化剤を使
用する方法を主題とする。この方法の好ましい実
施条件においては、反応は溶媒の不存在下で行わ
れる。
特に、本発明の主題は、ケトン化合物が次式
（） （ここで、R1は、水素原子、１〜４個の炭素
原子を含有し、場合により含酸素若しくは含窒素
官能基又はハロゲン原子によつて置換されていて
もよいアルキル基を表わし、或いはR1は、２〜
４個の炭素原子を含有するアルケニル又はアルキ
ニル基を表わし、 R2は、１〜４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わし、 Ｘは、炭素原子又は炭素−炭素結合を表わし、 核Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは、場合により１個又はそ
れ以上の二重結合を有していてもよく、また場合
により１個若しくはそれ以上のヒドロキシル若し
くはケトン官能基、１個若しくはそれ以上のハロ
ゲン原子、１個若しくはそれ以上の炭素原子数１
〜４のアルキル若しくはアルキルオキシ基、又は
１個若しくはそれ以上の炭素原子数２〜４のアル
ケニル若しくはアルキニル基で置換されていても
よい） に相当し、そして次式（） （ここで、R1，R2，Ｘ，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは
上記のように定義される） の対応化合物が得られることを特徴とする前記の
使用方法を主題とする。
式（）及び（）の化合物において、R1，
R2，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは、好ましくは、下記の
意味を有する。
R1がアルキル基を表わすときは、それはメチ
ル又はエチル基であるのが好ましい。
R1が含酸素官能基で置換されたアルキル基を
表わすときは、それはヒドロキシメチル若しくは
ヒドロキシエチル基、ホルミル基、アセチル基で
あるのが好ましい。
R1が含窒素官能基で置換されたアルキル基を
表わすときは、それはシアノ基又はアミノメチル
若しくはアミノエチル基であるのが好ましい。
R1がハロゲンで置換されたアルキル基を表わ
すときは、それは−CH2Hal基（ここでHalは、
ハロゲン原子、例えば塩素、ふつ素又は臭素原子
を表わす）であるのが好ましい。
R1がアルケニル基を表わすときは、それはビ
ニル又はアリル基であるのが好ましい。
R1がアルキニル基を表わすときは、それはエ
チニル基であるのが好ましい。
R2は好ましくはメチル又はエチル基を表わす。
核Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上の二重
結合を有するときは、それらは、１（２）、３
（４）、４（５）若しくは９（11）位の二重結合、３
（４）及び５（６）、４（５）及び６（７）、若しくは
１（２）及び４（５）位の共役二重結合系、１，
３，５位の３個の二重結合の芳香族系、又は１
（２）、４（５）、６（７）の３個の二重結合系であ
るのが好ましい。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のヒド
ロキシル官能基で置換されているときは、３又は
11位のヒドロキシル基であるのが好ましい。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のケト
ン官能基で置換されているときは、それは３又は
11位のケトン官能基であるのが好ましい。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のハロ
ゲン原子で置換されているときは、それは、例え
ば６又は9α位のふつ素、塩素又は臭素原子であ
るのが好ましい。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のアル
キル基で置換されているときは、それは２，６，
７，16α又は16β位のメチル又はエチル基である
のが好ましい。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のアル
キルオキシ基で置換されているときは、それは３
又は11β位のメトキシ又はエトキシ基であるのが
好ましい。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のアル
ケニル基で置換されているときは、それは、例え
ば11β位のビニル又はアリル基であるのが好まし
い。
環Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが１個又はそれ以上のアル
キニル基で置換されているときは、それは例えば
11β位のエチニル基であるのが好ましい。
特に、本発明の主題は、ケトン化合物が次式
（A） （ここでR1，R2，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは上記の
ように定義される） に相当し、そして次式（A） （ここで、R1，R2，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは上記
のように定義される） の対応化合物が得られることを特徴とする前記の
使用方法にある。
特に、本発明の主題は、ケトン化合物が、R2
がメチル基を表わす式（A）並びにR1が水素原
子又はメチル基を表わす式（A）に相当し、そ
して式（A）の対応化合物が得られることを特
徴とする前記の使用方法にある。
さらに詳しくは、本発明の主題は、 （） ケトン化合物が次式（′A） （ここで、R1，R2，Ｃ及びＤは上記のように
定義される） に相当し、そして次式（′A） （ここで、R1，R2，Ｃ及びＤは上記のように
定義される） の対応化合物が得られることを特徴とする前記の
使用方法、並びに （） ケトン化合物が次式（″A） （ここで、R1及びR2は上記のように定義され
る） に相当し、そして次式（″A） （ここで、R1及びR2は上記のように定義され
る） の対応化合物が得られることを特徴とする前記の
使用方法 にある。
そして、特に詳しくは、本発明の主題は、用い
る式の化合物が3β−ヒドロキシアンドロスタ
−５−エン−17−オンであり、そして式の得ら
れる化合物が3β−ヒドロキシ−17−（ニトロメチ
レン）アンドロスタ−５−エンであることを特徴
とする前記の使用方法にある。
前記したように、本発明に従う使用方法は、一
般に有機環状又は非環状化合物に関するものであ
り、当然であるがステロイド化合物に限られるも
のではない。
実験の部では、対応するケトン化合物から出発
する二環状ニトロメチル化合物の製造のための使
用方法の例を示す。
本発明に従う使用方法によつて得られる式
（）の化合物は新規であり、特に、これらの中
でも、式Aの化合物、特にR2がメチル基を表わ
すもの並びにR1が水素原子又はメチル基を表わ
すものがあげられる。また、特に次式（′A） （ここでR1，R2，Ｃ及びＤは上記のように定
義される）に相当する化合物、特に、これらの中
でも次式（″A） （ここで、R1及びR2は上記のように定義され
る）に相当する化合物、そして特に詳しくはその
製造を実験の部に示す式の化合物をあげること
ができる。
式（）の化合物、特に式（IA）の化合物は非
常に大きな工業的用途を持つ。事実、それらは簡
単且つ経済的な方法により対応する17−ケトン化
合物から出発して優れた収率で直接製造される。
これらは、得られる中間体化合物を単離する必要
もなく、16（17）位に二重結合を有する又は有し
ない21−アセトキシ−20−オキソコルチコステロ
イド化合物に容易に変換することができる。
式（A）の化合物は、特にドイツ特許出願第
2521231号、フランス特許第1058850号及び
1021728号、米国特許第3445490号に記載の化合物
の製造に用いることができる。
したがつて、式（）の化合物、特に式（A）
の化合物は、例えばトリアムシノロン及びその誘
導体のような薬剤として非常に大きな利益を提供
する化合物の製造に用いることができる。
例えば、式（A）の化合物にアルデヒド
RCHO（ここでＲは水素原子又は１〜18個の炭素
原子を含有するアルキル基を表わす）を作用させ
て次式（） （ここでＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｒ，R1及びR2は上
記のように定義される） の化合物を得、この化合物にエステル化剤を作用
させて次式（） （ここでAcは１〜18個の炭素原子を含有する
アシル基の残基を表わす） の化合物を得、この化合物にニトロ基のための還
元剤を作用させて次式（） の化合物を得、この化合物にオキシム官能基の解
裂剤を作用させて次式（） の化合物を得ることができる。
用いられるアルデヒドは、ホルムアルデヒド又
はアセトアルデヒドであり、 エステル化剤は、触媒の存在又は不存在下で用
いられる酢酸、無水酢酸、塩化アセチル又は任意
の他の酸無水物又は酸塩化物であり、 ニトロ基の還元剤は塩化第一クロム又は三塩化
チタンであり、 オキシム基の解裂剤は、硝酸アルカリの存在下
での三塩化チタン若しくは酢酸の水溶液又はアル
デヒドの存在下での無機酸水溶液である。
さらに、次式（A） （ここで、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，R1及びR2は上記
のように定義される） の化合物にまず17（20）位の二重結合の還元剤を
作用させて次式（） の化合物を得、次いでこの化合物を先に示した一
連の反応に対し、即ち、アルデヒドRCHO（ここ
でＲは上記のように定義される）を作用させて次
式（′） （ここで、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｒ，R1及びR2は
上記のように定義される） の化合物を得、この化合物にエステル化剤を作用
させて次式（′） （ここでAcは１〜18個の炭素原子を含有する
アシル基の残基を表わす） の化合物を得、この化合物にニトロ基の還元剤を
作用させて次式（′） の化合物を得、この化合物にオキシム官能基の解
裂剤を作用させて次式（′） の対応化合物を得ることができる。
二重結合の解裂剤は、好ましくはアルカリほう
水素化物、例えば水素化ほう素ナトリウムであ
る。用いられる他の反応剤は前記したものであ
る。
当然であるが、本発明の主題は、特に、式
（′A）及び（″A）の化合物のような本発明の
好ましい化合物の使用方法にある。
特に、用いる式（A）の化合物が3β−ヒドロ
キシ−17−（ニトロメチレン）アンドロスタ−５
−エンである場合には、そしてこの化合物にホル
ミル化剤を作用させて次式 の化合物を得、この化合物にアセチル剤を作用さ
せて次式 （ここで、Acはアセチル基を表わす） の化合物を得、この化合物をニトロ基の還元剤を
作用させて次式 の化合物を得、この化合物にオキシム官能基の解
裂剤を作用させて次式 の化合物を得ることができる。
さらに、用いる式（A）の化合物が3β−ヒド
ロキシ−17−（ニトロメチレン）アンドロスタ−
５−エンである場合には、そしてこの化合物に還
元剤を作用させて次式 の化合物を得、この化合物にホルミル剤を作用さ
せて次式 の化合物を得、この化合物にアセチル化剤を作用
させて次式 （ここで、Acはアセチル基を表わす） の化合物を得、この化合物をニトロ基の還元剤を
作用させて次式 の化合物を得、この化合物にオキシム官能基の解
裂剤を作用させて次式 の化合物を得ることができる。
下記の例は本発明を例示するもので、これを何
ら制限しない。
例１：3β−ヒドロキシ−17−（ニトロメチレン）
アンドロスタ−５−エン 8.7ｇの3β−ヒドロキシアンドロスタ−５−エ
ン−17−オンを150c.c.のニトロメタンに加えてな
る溶液を窒素雰囲気下に加熱還流させて10c.c.のニ
トロメタンを留去する。0.1c.c.のエチレンジアミ
ンを加え、混合物を50〜60時間加熱還流する。溶
媒を減圧下に追出し、その残留物をジクロルメタ
ンに溶解し、シリカ上で過し、エーテル・ジク
ロルメタン（１／１）混合物で溶離する。有機溶
媒を減圧下に追出す。これにより9.9ｇの所期生
成物を得た。MP＝118〜122℃。この生成物は0.5
モルのメタノールと共に結晶化する。
MP＝165−168℃． 〔α〕D＝−88°（ｃ＝0.76％メタノール） NMR CCl4 ppm 6.65 1H幅広20H 5.25 1H幅広6H 1.05 3Hシングレツト10CH3 0.95 3Hシングレツト13CH3 例２：３，４−ジヒドロ−２−ニトロメタンナフ
タリン 約15mgのエチレンジアミンを有する３c.c.のニト
ロメタンに220mgのβ−テトラロンを溶解してな
る溶液を窒素下で75℃に18時間加熱する。ニトロ
メタンの過剰量を減圧下に追出し、その残留物を
シリカでクロマトグラフイーする（ベンゼン−ペ
ンタン２／３）。232mgの粗生成物を得、これをペ
ンタンから再結晶する。
MP＝29−31℃． IRスペクトル：max：1550cm-1 NMR CDCl3 ppm 6.9 4H，芳香族 6.4 1H，シングレツト幅広，Ｈエチレン 4.9 2H，シングレツト−CH2−N2 2.3−3.0 4H，ｍ，−CH2 分析 実測：Ｃ％ 69.96 Ｈ％ 5.88 Ｎ％ 7.49 計算： 69.83 5.86 7.40 使用例１：3β，21−ジアセトキシプレグナ−５，
16−ジエン−20−オン 工程Ａ：3β，21−ジヒドロキシ−20−ニトロプ
レグナ−５，６−ジエン及び対応ジアセテート ２c.c.のホルムアルデヒド水溶液、１c.c.のトリエ
チルアミン及び10c.c.のイソプパノールに500mgの
3β−ヒドロキシ−17−（ニトロメチレン）アンド
ロスタ−５−エンを加えてなる懸濁液を含む混合
物を周囲温度で30分間かきまぜ続ける。反応混合
物を酢酸水溶液に注加する。30分間かきまぜ、得
られた生成物を過し、乾燥した後、511mgの所
期生成物を155〜163℃の融点を持つジアセテート
の形で得た。
〔α〕D＝−52°（ｃ＝0.48％CHCl3） NMR CCl4 ppm 5.95 ：1H幅広16H 5.30 ：1H幅広 6H 4.9−5.1 ：1H幅広20H 4.1−4.6 ：3H幅広3H及び21H 2.05及び1.97 ：6H，シングレツト： アセテート 1.10 ：3H，シングレツト，10−CH3 0.85 ：3H，シングレツト，13−CH3 工程Ｂ：3β，21−ジアセトキシプレグナ−５，
16−ジエン−20−オンの20−オキシム ３ｇのCrCl3・6H2Ｏを14c.c.の水に加えてなる
溶液に６c.c.の濃塩酸溶液と1.8ｇの亜鉛粉末を加
える。得られた溶液を過し、１ｇの3β，21−
ジアセトキシ−20−ニトロプレグナ−５，16−ジ
エンを150c.c.ののアセトンに加えてなる溶液中に
注ぐ。６時間かきまぜた後、得られた溶液を塩化
ナトリウム水溶液に注加し、エーテルで抽出す
る。エーテル相を塩水で洗い、乾燥する。シリカ
で過し、蒸発乾固させた後、830mgの結晶化し
た白色固体を得た。MP＝173〜176℃。
〔α〕D＝−42°（ｃ＝1.06％CHCl3） NMR CCl4 ppm 5.97 ：1H幅広16H 5.27 ：1H幅広 6H 4.88 ：2H，シングレツト：21−CH2 4.3−4.7 ：1H大3H 2.04及び2.00：2H，シングレツト： アセテート 1.05 ：3H，シングレツト，10−CH3 0.94 ：3H，シングレツト，13−CH3 工程Ｃ：3β，21−ジアセトキシプレグナ−５，
16−ジエン−20−オン 800mgの3β，21−ジアセトキシプレグナ−５，
16−ジエン−20−オン、16c.c.の酢酸、６c.c.のアセ
トンを含有し、2.4ｇの酢酸アンモニウムを含む
懸濁液に6.5c.c.の三塩化チタン水溶液を加える。
反応混合物を６時間かきまぜ続け、次いで水中に
注ぎ、エーテルで抽出する。エーテル相を洗い、
乾燥し、次いでシリカで過する。蒸発させた
後、154〜156℃の融点を持つ766mgの白色固体を
得た。
〔α〕D＝−39°（ｃ＝0.95％CHCl3） 使用例２：3β，21−ジアセトキシプレグナ−５
−エン−20−オンの製造 １ 17β−ニトロメチル−3β−ヒドロキシアンド
ロスタ−５−エン 0.5ｇの17−ニトロメチレン−3β−ヒドロキシ
アンドロスタ−５−エンを15c.c.のイソプロパノー
ルに入れた懸濁液に約100mgの水素化ほう素ナト
リウムを少量づつ10分間で加える。この混合物を
周囲温度で２時間かきまぜ、次いで、300c.c.の１
％酢酸水溶液中に注ぐ。過し、乾燥した後、
0.5ｇの所期生成物を得た。MP＝178〜181℃（メ
タノール） 〔α〕D＝−70°（ｃ＝１％CHCl3） IRスペクトル：max：1540cm-1 NMR CDCl3 ppm 5.25 ：1H，ｍ，６−Ｈ 4.25 ：2H，ｍ，20−CH2 3.4 ：1H，幅広，3α−Ｈ 1.05 ：3H，シングレツト19−CH3 0.7 ：3H，シングレツト18−CH3 ２ 3β，21−ジアセトキシ−20−ニトロプレグ
ナ−５−エン １ｇの17β−ニトロメチル−3β−ヒドロキシア
ンドロスタ−５−エンを20c.c.のイソプロパノール
に入れてなる懸濁液に４c.c.のホルモールと２c.c.の
トルエチルアミンを加える。この混合物を周囲温
度に20〜50分間かきまぜ、次いで200c.c.の2.5％酢
酸水溶液中に注加し、乾燥し、107ｇの所期生成
物を得た。
MP＝187−195℃（メタノール） 〔α〕D＝−22°（ｃ＝0.4％CHCl3） ３ 3β，21−ジアセトキシプレグナ−５−エン
−20−オン 200mgの3β，21−ジアセトキシ−20−ニトロプ
レグナ−５−エンを35c.c.のアセトンに溶解してな
る溶液に窒素下で塩化第一クロムの過した溶液
（1.5c.c.の濃塩酸と2.5c.c.の水とからなる塩酸水溶
液中の0.3ｇの粉末状亜鉛及び0.6ｇのCrCl3・6H2
Ｏから出発して製造）を加える。２〜３分後に、
その混合物を水中に注ぎ、ジクロルメタンで抽出
する。有機相を乾燥し、蒸発させ、残留物を４c.c.
の酢酸に溶解する。2.5c.c.の亜硝酸ナトリウム水
溶液を滴下し、次いで４c.c.の酢酸を加える。混合
物を10分間沸騰させ、水に注ぎ、炭酸ナトリウム
で中和し、ジクロルメタンで抽出する。有機相を
乾燥し、シリカで過し、蒸発させて149mgの所
期生成物を得た。
MP＝162〜164℃ 〔α〕D＝＋22°（ｃ＝0.7％CHCl3） MP＝166〜168℃ (1) 〔α〕＝＋27° (1) Marquet他Bull.Soc.Chim.Fr.1962，90 例３ ：３−メトキシ−17−（ニトロメチレン）−
19−ノルアンドロスタ−１，３，５−トリエン 例１の方法を用いて、0.2ｇのエストロンのメ
チルエーテル、５c.c.のニトロメタン及び５mgのエ
チレンジアミンを反応させる。シリカゲルジクロ
マトグラフイーし、ヘキサン−ジクロルメタン
（２／３）混合物で溶離した後、0.146ｇの所期生
成物を得た。
MP＝192〜205℃ 〔α〕D＝＋10°（ｃ＝0.78％CHCl3） 例４ ：３−ニトロメチルコレスト−２−エン 0.1ｇのコレスタノン、３c.c.のニトロメタン及
び２mgのエチレンジアミンの混合物を１時間加熱
還流する。溶媒を減圧下に周囲温度で追出し、
0.11ｇの所期生成物を得、これをメタノールから
再結晶して所期生成物を得た。
MP＝108〜112℃ 〔α〕D＝＋66°（ｃ＝0.56％CHCl3） 例５ ：２−ニトロメチレンアダマンタン 0.5ｇの２−アダマントン、15c.c.のニトロメタ
ン及び20mgのエチレンジアミンの混合物を窒素下
に３時間加熱還流し、溶媒を周囲温度で減圧下に
蒸発させる。その残留物を塩化メチレンに溶解
し、溶液をシリカで過し、溶媒を追出して0.63
ｇの所期生成物を得た。
MP＝78〜81℃

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ ジアミンの存在下で用いられるニトロメタン
    よりなるケトン化合物用ニトロメチル化剤。 ２ ジアミンがエチレンジアミン、トリメチレン
    ジアミン及びテトラメチレンジアミンよりなる群
    から選ばれることを特徴とする特許請求の範囲第
    １項記載のニトロメチル化剤。 ３ 少なくとも１個のケトン基を含有する環状又
    は非環状有機化合物にジアミンの存在下でのニト
    ロメタンよりなるニトロメチル化剤を作用させて
    ニトロメチレン化合物を得ることを特徴とする前
    記ニトロメチル化剤を使用する方法。 ４ ケトン化合物が次式（） （ここで、R1は、水素原子、１〜４個の炭素
    原子を含有し、そして場合により含酸素若しくは
    含窒素官能基又はハロゲン原子によつて置換され
    ていてもよいアルキル基を表わし、或いはR1は、
    ２〜４個の炭素原子を含有するアルケニル又はア
    ルキニル基を表わし、 R2は、１〜４個の炭素原子を含有するアルキ
    ル基を表わし、 Ｘは、炭素原子又は炭素−炭素結合を表わし、 核Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは、場合により１個又はそ
    れ以上の二重結合を有していてもよく、また場合
    により１個若しくはそれ以上のヒドロキシル若し
    くはケトン官能基、１個若しくはそれ以上のハロ
    ゲン原子、１個若しくはそれ以上の炭素原子数１
    〜４のアルキル若しくはアルキルオキシ基、又は
    １個若しくはそれ以上の炭素原子数２〜４のアル
    ケニル若しくはアルキニル基で置換されていても
    よい） に相当し、そして次式（） （ここで、R1，R2，Ｘ，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは
    上記のように定義される） の対応化合物が得られることを特徴とする特許請
    求の範囲第３項記載の方法。 ５ ケトン化合物が次式（A） （ここで、R1，R2，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは上記
    のように定義される） に相当し、そして次式（A） （ここで、R1，R2，Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは上記
    のように定義される） の対応化合物が得られることを特徴とする特許請
    求の範囲第４項記載の方法。 ６ ケトン化合物が、R2がメチル基を表わし且
    つR1が水素原子又はメチル基を表わす式（A）
    に相当し、そして式（A）の対応化合物が得ら
    れることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載
    の方法。 ７ ケトン化合物が次式（′A） （ここで、R1，R2，Ｃ及びＤは上記のように
    定義される） に相当し、そして次式（′A） （ここで、R1，R2，Ｃ及びＤは上記のように
    定義される） の対応化合物が得られることを特徴とする特許請
    求の範囲第６項記載の方法。 ８ ケトン化合物が次式（′A） （ここで、R1及びR2は上記のように定義され
    る） に相当し、そして次式（″A） （ここで、R1及びR2は上記のように定義され
    る） の対応化合物が得られることを特徴とする特許請
    求の範囲第７項記載の方法。 ９ 用いる式″Aの化合物が3β−ヒドロキシアン
    ドロスタ−５−エン−17−オンであり、そして式
    の得られる化合物が3β−ヒドロキシ−17−（ニ
    トロメチレン）アンドロスタ−５−エンであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第８項記載の方
    法。
JP58022231A 1982-02-18 1983-02-15 新規なニトロメチル化剤 Granted JPS58152822A (ja)

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