JPH0480609A - 顕微鏡装置およびこの装置による測定方法 - Google Patents
顕微鏡装置およびこの装置による測定方法Info
- Publication number
- JPH0480609A JPH0480609A JP19291490A JP19291490A JPH0480609A JP H0480609 A JPH0480609 A JP H0480609A JP 19291490 A JP19291490 A JP 19291490A JP 19291490 A JP19291490 A JP 19291490A JP H0480609 A JPH0480609 A JP H0480609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microscope
- measured
- length
- points
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 28
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract description 16
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、板体上の2点間の距離を測定する測表装置お
よびこの装置装置による測定方法に関する。
よびこの装置装置による測定方法に関する。
近年、各種技術分野においては装置が微小化又は高精度
化され、これに伴い装置の製造時における各部の寸法も
厳格な管理が必要となり、このため、サブμmオーダの
精度で測定可能な測長装置が要望されるようになった。
化され、これに伴い装置の製造時における各部の寸法も
厳格な管理が必要となり、このため、サブμmオーダの
精度で測定可能な測長装置が要望されるようになった。
ここで、上記のように高精度の測長が必要である対象物
としで、テレビジョン、コンピュータ等の表示ムこ使用
される液晶表示装置を例示して説明する。
としで、テレビジョン、コンピュータ等の表示ムこ使用
される液晶表示装置を例示して説明する。
第4図は液晶表示装置の電極の配置図である。
図で、Iは基板、2は基板1上に縦横に多数配置された
電極である。例えば、図で横方向の長さが400nの基
板1上に電極2が横方向1列に6700個配列されてい
る。これら各電極2は互いに正確な間隔で配置される必
要がある。即ち、第4図に示す隣接する電極2間の寸法
X+、)+ は正確でなければならない。したがって、
このような電極パターンを製造するための原板(マスク
)における上記寸法X++3’+ は厳格に管理されな
ければならない。そして、このためには、高精度の測長
装置が必要である。例えば、上記の例では、寸法x1は
60μであるので、測長装置としてはサブμmオーダの
精度のものが要望される。このような装置の測定に使用
される測長装置を第5図により説明する。
電極である。例えば、図で横方向の長さが400nの基
板1上に電極2が横方向1列に6700個配列されてい
る。これら各電極2は互いに正確な間隔で配置される必
要がある。即ち、第4図に示す隣接する電極2間の寸法
X+、)+ は正確でなければならない。したがって、
このような電極パターンを製造するための原板(マスク
)における上記寸法X++3’+ は厳格に管理されな
ければならない。そして、このためには、高精度の測長
装置が必要である。例えば、上記の例では、寸法x1は
60μであるので、測長装置としてはサブμmオーダの
精度のものが要望される。このような装置の測定に使用
される測長装置を第5図により説明する。
第5図は従来の測長装置の系統図である。図で、5は図
示しない空気定盤上に支持されたステージ、6はステー
ジ5上を図で左右に移動可能な移動台、7は移動台6を
駆動するモータである。移動台6は、モータ7の回転軸
に連結され周面に螺旋状のねじが形成されている軸(螺
軸)に螺合する螺子を有し、モータ7の回転により左右
に移動する構成となっている。8は移動台6に固定され
たテーブル、9はテーブル8上に載置された被測長対象
物である原板を示す。9pは第4図に示す電極2を作成
するため原板9に構成された電極パターンである。電極
パターン9pは第4図に示す電極2の配置に等しく配置
されている。10はこれら電極パターン9pを観察する
顕微鏡、11は顕微鏡10を支持するスタンド、12は
原板9を照明する光源、13は光源12を支持すると共
に光を顕微鏡10に導く導光管である。14は顕微鏡1
0の視野内の像を撮像するカメラであり、像に応じた電
気信号を出力する。
示しない空気定盤上に支持されたステージ、6はステー
ジ5上を図で左右に移動可能な移動台、7は移動台6を
駆動するモータである。移動台6は、モータ7の回転軸
に連結され周面に螺旋状のねじが形成されている軸(螺
軸)に螺合する螺子を有し、モータ7の回転により左右
に移動する構成となっている。8は移動台6に固定され
たテーブル、9はテーブル8上に載置された被測長対象
物である原板を示す。9pは第4図に示す電極2を作成
するため原板9に構成された電極パターンである。電極
パターン9pは第4図に示す電極2の配置に等しく配置
されている。10はこれら電極パターン9pを観察する
顕微鏡、11は顕微鏡10を支持するスタンド、12は
原板9を照明する光源、13は光源12を支持すると共
に光を顕微鏡10に導く導光管である。14は顕微鏡1
0の視野内の像を撮像するカメラであり、像に応じた電
気信号を出力する。
15はリニアエンコーダであり、スケール15aおよび
センサ15bで構成される。スケール15aはテーブル
8の側面に配置された多数の反射膜で構成されている。
センサ15bで構成される。スケール15aはテーブル
8の側面に配置された多数の反射膜で構成されている。
この反射膜は、例えば5μmの巾を有し5μm間隔で配
置されている。センサ15bは発光素子スリット板およ
び受光素子より成り、反射膜で反射された発光素子から
の光を、スリット板を介して受光素子で受光する構成と
なっている。
置されている。センサ15bは発光素子スリット板およ
び受光素子より成り、反射膜で反射された発光素子から
の光を、スリット板を介して受光素子で受光する構成と
なっている。
このリニアエンコーダ15によりテーブル8の移動距離
がサブμmオーダの精度で測定できる。このようなリニ
アエンコーダは周知である。
がサブμmオーダの精度で測定できる。このようなリニ
アエンコーダは周知である。
16は画像処理装置を示し、画像処理部16aおよび表
示部16bで構成されている。画像処理部16aはカメ
ラ14からの信号に基づき顕微鏡10の視野内の像を表
示部16bに表示する処理を行なうとともに、後述する
ようにその像についての種々の処理を実行する。表示部
16bは等間隔に縦横に配列された微粒子(画素)で構
成されている。これらの画素は表示部16bにおける発
光単位であり、各画素が選択的に発光することにより、
映像が形成表示される。各画素は、画像処理部16aに
内蔵されたメモリのアドレスに対応せしめられているの
が通常である。どの画素を発光させるかの選択は、カメ
ラ14の信号に基づいて画像処理部16aで行なわれる
。17は測長装置における所定の演算制御を行なう制御
装置であり、マイクロコンピュータを用いて構成されて
いる。
示部16bで構成されている。画像処理部16aはカメ
ラ14からの信号に基づき顕微鏡10の視野内の像を表
示部16bに表示する処理を行なうとともに、後述する
ようにその像についての種々の処理を実行する。表示部
16bは等間隔に縦横に配列された微粒子(画素)で構
成されている。これらの画素は表示部16bにおける発
光単位であり、各画素が選択的に発光することにより、
映像が形成表示される。各画素は、画像処理部16aに
内蔵されたメモリのアドレスに対応せしめられているの
が通常である。どの画素を発光させるかの選択は、カメ
ラ14の信号に基づいて画像処理部16aで行なわれる
。17は測長装置における所定の演算制御を行なう制御
装置であり、マイクロコンピュータを用いて構成されて
いる。
次に、上記測長装置の動作を第6図(a) 、 (b)
に示す画像処理装置の表示像を参照しながら説明する。
に示す画像処理装置の表示像を参照しながら説明する。
まず、原板9をテーブル8上にセットし、顕微鏡10の
倍率を電極パターン9pの全体像やその周辺が把握可能
な程度(例えば5倍)に低くする。
倍率を電極パターン9pの全体像やその周辺が把握可能
な程度(例えば5倍)に低くする。
次いで、カメラ14に撮影され表示部16bに表示され
た顕微@10の視野を観察しながら、制御装置17を介
して(又は手動で)テーブル8を移動させ、最端部の電
極パターン9p(この電極パターンを9p+ とする)
を顕微鏡10の視野にとらえる。この状態で顕微鏡10
の倍率を高倍率(例えば200倍)とする。このとき、
表示部16bに表示された顕微鏡10の視野内の映像が
第6図(a)に示されている。第6図(a)において、
Aは顕微鏡IOの視野、Cは顕微鏡10の中心線乙こ対
応する中心線、また、9p1 ′は電極パターン9p+
の映像である。
た顕微@10の視野を観察しながら、制御装置17を介
して(又は手動で)テーブル8を移動させ、最端部の電
極パターン9p(この電極パターンを9p+ とする)
を顕微鏡10の視野にとらえる。この状態で顕微鏡10
の倍率を高倍率(例えば200倍)とする。このとき、
表示部16bに表示された顕微鏡10の視野内の映像が
第6図(a)に示されている。第6図(a)において、
Aは顕微鏡IOの視野、Cは顕微鏡10の中心線乙こ対
応する中心線、また、9p1 ′は電極パターン9p+
の映像である。
電極パターン9p+は顕微鏡10て拡大されているため
、その映像9p1′は電極パターン9pの極く一部であ
り、かつ、その縁部(エツジ)は図示のように凹凸とな
って現われる。ところで、原板9における測長は、各電
極パターン9pのエツジ間を測定するのであるから、エ
ツジに凹凸が存在していては測定不可能となる。このた
め、何等かの手段によりエツジを確定する必要がある。
、その映像9p1′は電極パターン9pの極く一部であ
り、かつ、その縁部(エツジ)は図示のように凹凸とな
って現われる。ところで、原板9における測長は、各電
極パターン9pのエツジ間を測定するのであるから、エ
ツジに凹凸が存在していては測定不可能となる。このた
め、何等かの手段によりエツジを確定する必要がある。
このエツジの確定は、画像処理部16aにおいて、映像
9p、′の縁部の発光画素の位置を多数検出し、それら
の平均値を演算することにより行なわれる。なお、この
ようなエツジの確定方法は、投影分布法として周知であ
るので詳細な説明は省略する。第6図(a)に、確定し
たエツジが符号Eで示されている。画像処理部16aは
中心線CとエツジEとの間隔11を、その間の画素数を
カウントする(メモリのアドレスの差を演算する)こと
により求め、その値β1を制御装置17に出力する。
9p、′の縁部の発光画素の位置を多数検出し、それら
の平均値を演算することにより行なわれる。なお、この
ようなエツジの確定方法は、投影分布法として周知であ
るので詳細な説明は省略する。第6図(a)に、確定し
たエツジが符号Eで示されている。画像処理部16aは
中心線CとエツジEとの間隔11を、その間の画素数を
カウントする(メモリのアドレスの差を演算する)こと
により求め、その値β1を制御装置17に出力する。
次に、制御装置17はモータ7に指令信号を出力し、テ
ーブル8を移動して次の電極パターン9p(この電極パ
ターン91)2とする。)を顕微鏡10の視野に入れ、
これを表示部16bに表示する。このときのテーブル8
の移動量lはリニアエンコーダ15により検出され、制
御装置17に出力される。
ーブル8を移動して次の電極パターン9p(この電極パ
ターン91)2とする。)を顕微鏡10の視野に入れ、
これを表示部16bに表示する。このときのテーブル8
の移動量lはリニアエンコーダ15により検出され、制
御装置17に出力される。
第6図(b)に電極パターン9p2が視野に入ったとき
の状態が示されている。第6図(b)で第6図(a)と
同一部分には同一符号が付しである。
の状態が示されている。第6図(b)で第6図(a)と
同一部分には同一符号が付しである。
9p2′は電極パターン9pzの映像を示す。電極パタ
ーン91)2の映像9p2′に対しても、電極パターン
9p+の映像9p+’と全く同様にしてエツジEが確定
され、中心線Cとの間隔7!2が求められ、この値12
が制御装置17に出力される。
ーン91)2の映像9p2′に対しても、電極パターン
9p+の映像9p+’と全く同様にしてエツジEが確定
され、中心線Cとの間隔7!2が求められ、この値12
が制御装置17に出力される。
ここで、リニアエンコーダ15で検出された移動量lは
、最初の視野において顕微鏡10の中心線に対向する原
板9上の位置と、次の視野において顕微鏡10の中心線
に対向する原板9上の位置との間の間隔に等しい。した
がって、第6図(a) 、 (b)に示す視野の場合、
制御装置17は入力された値l112、lを加算して測
定値L (L=jl!I ↓12+l)を得る。各電極
パターン9pの間隔は、第4図に示す電極2の間隔xI
+ x2 + x3・・・・・・・・・と同しよ
うに、最端部の電極パターン(9p+)のエツジEを基
準とし、上述のような方法で、当該エツジEからの間隔
として測定される。
、最初の視野において顕微鏡10の中心線に対向する原
板9上の位置と、次の視野において顕微鏡10の中心線
に対向する原板9上の位置との間の間隔に等しい。した
がって、第6図(a) 、 (b)に示す視野の場合、
制御装置17は入力された値l112、lを加算して測
定値L (L=jl!I ↓12+l)を得る。各電極
パターン9pの間隔は、第4図に示す電極2の間隔xI
+ x2 + x3・・・・・・・・・と同しよ
うに、最端部の電極パターン(9p+)のエツジEを基
準とし、上述のような方法で、当該エツジEからの間隔
として測定される。
上記測長方向と直交する方向における各電極パターン9
の間隔の測定は、テーブル8から一旦原板9を外し、載
置方向を90°変更して再度テーブル8に載置すること
により行なわれるが、このような手間を省くため、ステ
ージ5の下に移動方向が直交するステージを重ね、リニ
アエンコーダ15が配置されている側面と隣接する側面
にさらに他のリニアエンコーダを設けて2軸(X軸、Y
軸)の測長装置を構成してもよい。
の間隔の測定は、テーブル8から一旦原板9を外し、載
置方向を90°変更して再度テーブル8に載置すること
により行なわれるが、このような手間を省くため、ステ
ージ5の下に移動方向が直交するステージを重ね、リニ
アエンコーダ15が配置されている側面と隣接する側面
にさらに他のリニアエンコーダを設けて2軸(X軸、Y
軸)の測長装置を構成してもよい。
第7図はリニアエンコーダに代えてレーザ測長器を用い
た測長装置の系統図である。図で、第51に示す部分と
同一部分には同一符号を付して説明を省略する。X、Y
は座標軸を示す。本実施例はX軸およびY軸方向の測定
が可能な2、軸の測長装置である。5x、5yはそれぞ
れX軸、Y軸方向の移動機構が備えられているステージ
であり、ステージ5Xはステージ5Y上においてY軸方
向に移動可能に設置されている。7Xは移動台6をX軸
方向に移動さセるモータ、7Yはステージ5XをY軸方
向に移動させるモータである。17′は制御装置である
。この制御装置17′は第5図に示す制御装置17力月
軸(X軸)に関してのみの制御装置であるのに対して2
軸(X軸、Y軸)に関しての制御装置である点で異なる
だけで基本的動作は両者同じである。
た測長装置の系統図である。図で、第51に示す部分と
同一部分には同一符号を付して説明を省略する。X、Y
は座標軸を示す。本実施例はX軸およびY軸方向の測定
が可能な2、軸の測長装置である。5x、5yはそれぞ
れX軸、Y軸方向の移動機構が備えられているステージ
であり、ステージ5Xはステージ5Y上においてY軸方
向に移動可能に設置されている。7Xは移動台6をX軸
方向に移動さセるモータ、7Yはステージ5XをY軸方
向に移動させるモータである。17′は制御装置である
。この制御装置17′は第5図に示す制御装置17力月
軸(X軸)に関してのみの制御装置であるのに対して2
軸(X軸、Y軸)に関しての制御装置である点で異なる
だけで基本的動作は両者同じである。
36はレーザヘッドであり、例えば2周波レーザヘッド
が用いられる。このレーザヘッドは僅かに異なる周波数
f、、f2のレーザ光を出力する。
が用いられる。このレーザヘッドは僅かに異なる周波数
f、、f2のレーザ光を出力する。
37はレーザヘッド36からのレーザ光を直線方向およ
びこれと直角方向に分v1するビームスプリッタである
。38X、38Yはレーザ光のうち周波数f1のレーザ
光のみを出力するインタフェロメータである。39はテ
ーブル8に固定されたL型ミラーであり、X軸方向の反
射を行なう部分39XおよびY軸方向の反射を行なう部
分39Yを有する。40X40YはそれぞれX軸、Y軸
のレシーバであり、インタフェロメータ38X、38Y
から送られてくるレーザ光の周波数に基づいて所定の信
号を出力する。
びこれと直角方向に分v1するビームスプリッタである
。38X、38Yはレーザ光のうち周波数f1のレーザ
光のみを出力するインタフェロメータである。39はテ
ーブル8に固定されたL型ミラーであり、X軸方向の反
射を行なう部分39XおよびY軸方向の反射を行なう部
分39Yを有する。40X40YはそれぞれX軸、Y軸
のレシーバであり、インタフェロメータ38X、38Y
から送られてくるレーザ光の周波数に基づいて所定の信
号を出力する。
41はパルスコンパレータであり、レーザヘッド36か
らの信号とレシーバ40X、40Yからの信号とに基づ
いてX軸方向およびY軸方向の変位量を演算し、これを
制御装置17′に出力する。レーザヘッド36、ビーム
スプリッタ37、インタフェロメータ38X、38Y、
L型ミラー39、レシーバ40X、40Y、およびパル
スコンパレータ41によりレーザ測長器が構成される。
らの信号とレシーバ40X、40Yからの信号とに基づ
いてX軸方向およびY軸方向の変位量を演算し、これを
制御装置17′に出力する。レーザヘッド36、ビーム
スプリッタ37、インタフェロメータ38X、38Y、
L型ミラー39、レシーバ40X、40Y、およびパル
スコンパレータ41によりレーザ測長器が構成される。
この装置の測長は、X軸、Y軸それぞれについて第5図
に示す装置の測長動作と同し動作により行なわれるもの
であり、ただ、チーフル8の変位量の検出がリニアエン
コーダ15の代わりにレーザ測長器で行なわれる点での
み相違する。したがって、この装置の動作の説明はレー
ザ測長器のX軸の測長動作の概略を述べるに留める。
に示す装置の測長動作と同し動作により行なわれるもの
であり、ただ、チーフル8の変位量の検出がリニアエン
コーダ15の代わりにレーザ測長器で行なわれる点での
み相違する。したがって、この装置の動作の説明はレー
ザ測長器のX軸の測長動作の概略を述べるに留める。
レーザヘッド36からの各レーザ光はビームスプリッタ
37により分側され、その一方がインタフェロメータ3
8Xに入力され、かつ、周波数f1のレーザ光のみミラ
ー39の部分39Xに照射される。この状態でテーブル
8が変位すると照射されたレーザ光には、ドツプラ効果
によりドツプラ変調が発生し、ミラ一部分39Xから反
射されるレーザ光の周波数は(r+ ±Δf1)となる
。この反射レーザ光はインタフェロメータ38Xを経て
周波数f2のレーザ光とともにレシーバ40Xに入力さ
れ、レシーバ40Xでは、これら2つのレーザ光の周波
数に基づき(fz (fl ±Δf1))の演算が
なされ、これに応じた信号が出力される。一方、レーザ
ヘッド36からは各レーザ光の周波数の差に応じた信号
(fZ −fl ’)が出力され、レシーバ40Xの信
号とともにパルスコンパレータ4Iに入力すれる。パル
スコンパレータ41では両人力値に基づいて((f2−
f、)−f2+ (f、 ±Δf1))の演算が実行
され、この結果、信号上△f、がとり出される。この信
号±Δf1はテーブル8の変位に比例した信号であり、
制御装置17′に入力されて前述の数(i fとして用
いられる。このレーザ測長器の使用により精度の高い測
定が可能となる。
37により分側され、その一方がインタフェロメータ3
8Xに入力され、かつ、周波数f1のレーザ光のみミラ
ー39の部分39Xに照射される。この状態でテーブル
8が変位すると照射されたレーザ光には、ドツプラ効果
によりドツプラ変調が発生し、ミラ一部分39Xから反
射されるレーザ光の周波数は(r+ ±Δf1)となる
。この反射レーザ光はインタフェロメータ38Xを経て
周波数f2のレーザ光とともにレシーバ40Xに入力さ
れ、レシーバ40Xでは、これら2つのレーザ光の周波
数に基づき(fz (fl ±Δf1))の演算が
なされ、これに応じた信号が出力される。一方、レーザ
ヘッド36からは各レーザ光の周波数の差に応じた信号
(fZ −fl ’)が出力され、レシーバ40Xの信
号とともにパルスコンパレータ4Iに入力すれる。パル
スコンパレータ41では両人力値に基づいて((f2−
f、)−f2+ (f、 ±Δf1))の演算が実行
され、この結果、信号上△f、がとり出される。この信
号±Δf1はテーブル8の変位に比例した信号であり、
制御装置17′に入力されて前述の数(i fとして用
いられる。このレーザ測長器の使用により精度の高い測
定が可能となる。
又、この装置は、2軸測定の場合、原板を一旦取外した
後取付ける手間と時間を省くことができる。
後取付ける手間と時間を省くことができる。
ところで、近年、被測長対象物を使用する装置のうち大
型化が進められているものがでてきた。
型化が進められているものがでてきた。
例えば、さきに例示した液晶テレビジョン等がこれに相
当する。このため測長装置もこれに伴って大型化する必
要が生じる。上記液晶テレビジョンを例にとると、画面
が大型となることにより、原Vi9の大きさも増大し、
全ての電極パターン9pを測定するためには、従前より
遥かに大きなストローク(例えば100100O100
0m )が可能な測長装置が必要となる。
当する。このため測長装置もこれに伴って大型化する必
要が生じる。上記液晶テレビジョンを例にとると、画面
が大型となることにより、原Vi9の大きさも増大し、
全ての電極パターン9pを測定するためには、従前より
遥かに大きなストローク(例えば100100O100
0m )が可能な測長装置が必要となる。
しかしながら、第5.7図に示す従来の装置を大型化し
て大きなストロークを得ようとすると、次のような問題
が生じる。
て大きなストロークを得ようとすると、次のような問題
が生じる。
(1)モータ7.7X、7Yに連結された螺軸が長くな
り、ねしピッチを高精度で製作するのが困難となる。
り、ねしピッチを高精度で製作するのが困難となる。
(2)移動台6を移動させるステージ5の案内面を平面
に仕上げるのが困難となる。
に仕上げるのが困難となる。
(3)IX軸が長くなるので、その自重や移動台の重量
等により螺軸にたわみが生じる。
等により螺軸にたわみが生じる。
以上(1)〜(3)の理由により、テーブル8の移動に
おいて、ピッチング、ヨーイング、ローリング等の誤差
が生じ、測定精度が著るしく低下する。この他、次のよ
うな問題も生じる。
おいて、ピッチング、ヨーイング、ローリング等の誤差
が生じ、測定精度が著るしく低下する。この他、次のよ
うな問題も生じる。
(4)モータ7.7X、7Yの負荷が大きくなり、発熱
量が大きくなる。これを抑えるためにはモータ7.7X
、7Yの容量を大きくする必要がある。
量が大きくなる。これを抑えるためにはモータ7.7X
、7Yの容量を大きくする必要がある。
(5)上記モータ7.7X、7Yだけでなく、ステージ
5、移動台6、等が大型化し製造コストが増大する。
5、移動台6、等が大型化し製造コストが増大する。
さらに、第7図に示すレーザ測長器を用いた装置では次
のような問題を生しる。
のような問題を生しる。
(6)ストロークが大きくなるため、レーザ光の経路も
長くなり、環境変化の影響も受は易くなり、高精度の寸
法測定が困難となる。−例として400 mX400
wのストロークにおいて、誤差0.04μmである場合
、同一環境下で、1000鶴X1000mのストローク
とした場合、誤差は0.1μmとなる。
長くなり、環境変化の影響も受は易くなり、高精度の寸
法測定が困難となる。−例として400 mX400
wのストロークにおいて、誤差0.04μmである場合
、同一環境下で、1000鶴X1000mのストローク
とした場合、誤差は0.1μmとなる。
このように、測長装置を大型化すると、必然的に測定精
度が著るしく低下するという問題が生していた。
度が著るしく低下するという問題が生していた。
本発明の目的は、上記従来技術における課題を解決し、
高い測定精度を維持しつつ、大きな寸法を測定すること
ができる測長装置およびこの測長装置による測定方法を
捉供するにある。
高い測定精度を維持しつつ、大きな寸法を測定すること
ができる測長装置およびこの測長装置による測定方法を
捉供するにある。
5課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため、本発明は、被測長物を載置
するテーブルと、このテーブルの表面をほぼ等しい形状
、面積で複数領域二二区分したときの1つの領域の形状
とほぼ等じく僅か二二大きな面積をもち、かつ、前記テ
ーブルを移動させる移動台と、この移動台を移動可能に
支持するベースと、前記複数領域のそれぞれに対向配置
され前記ベース乙こ連結された複数の顕微鏡と、前記チ
ーフルの移動量を測定する測定手段と、この測定手段に
より測定された移動量に基づいて前記被測長物の2点間
の長さを演算する演算手段とで測長装置を構成したこと
を特徴とする。
するテーブルと、このテーブルの表面をほぼ等しい形状
、面積で複数領域二二区分したときの1つの領域の形状
とほぼ等じく僅か二二大きな面積をもち、かつ、前記テ
ーブルを移動させる移動台と、この移動台を移動可能に
支持するベースと、前記複数領域のそれぞれに対向配置
され前記ベース乙こ連結された複数の顕微鏡と、前記チ
ーフルの移動量を測定する測定手段と、この測定手段に
より測定された移動量に基づいて前記被測長物の2点間
の長さを演算する演算手段とで測長装置を構成したこと
を特徴とする。
さらに本発明は、上記構成の測長装置を用いて、まず、
位置が既知である多数パターンより成る板体を前記テー
ブルに載置し、前記各顕微鏡の視野内にあるパターンに
基づいて前記各顕微鏡の相対位置を求めておき、次いで
前記テーブルに被測長物を載置し、この被測長物の予め
定められた3つの点により直交座標を設定し、前記顕微
鏡位置を前記直交座標の座標値に変換した後、2つの測
定点のそれぞれをそれらの属する領域の顕微鏡の視野内
に移動させ、これら移動量とこれら移動に関与した顕微
鏡の座標値に基づいて前記各測定点間の距離を演算する
ことをも特徴とする。
位置が既知である多数パターンより成る板体を前記テー
ブルに載置し、前記各顕微鏡の視野内にあるパターンに
基づいて前記各顕微鏡の相対位置を求めておき、次いで
前記テーブルに被測長物を載置し、この被測長物の予め
定められた3つの点により直交座標を設定し、前記顕微
鏡位置を前記直交座標の座標値に変換した後、2つの測
定点のそれぞれをそれらの属する領域の顕微鏡の視野内
に移動させ、これら移動量とこれら移動に関与した顕微
鏡の座標値に基づいて前記各測定点間の距離を演算する
ことをも特徴とする。
被測長物を測定する前に、予め寸法が判っているパター
ンより成る板体を用い、各顕微鏡の相対位置を求めてお
く。次に、被測長物をテーブルに載置して測定を行なう
が、その測定に先立ち、被測長物上に予め定められてい
る3つの点を基準にして直交座標を設定し、各顕微鏡の
位置をこの直交座標の座標値に変換する。この状態で、
所要の2点間の距離測定を行なう。この測定は、各点を
、その点が属する領域の顕微鏡の視野内に移動させ、そ
の移動量と、測定に関与した顕微鏡の座標とに基づいて
演算により算出される。
ンより成る板体を用い、各顕微鏡の相対位置を求めてお
く。次に、被測長物をテーブルに載置して測定を行なう
が、その測定に先立ち、被測長物上に予め定められてい
る3つの点を基準にして直交座標を設定し、各顕微鏡の
位置をこの直交座標の座標値に変換する。この状態で、
所要の2点間の距離測定を行なう。この測定は、各点を
、その点が属する領域の顕微鏡の視野内に移動させ、そ
の移動量と、測定に関与した顕微鏡の座標とに基づいて
演算により算出される。
このようにすると、移動台のストロークは1つの領域の
大きさに対応するストロークの範囲内となり、このスト
ロークにより長い寸法の測定が可能となり、測定精度の
低下を防止することができる。
大きさに対応するストロークの範囲内となり、このスト
ロークにより長い寸法の測定が可能となり、測定精度の
低下を防止することができる。
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明する。
第1図は本発明の実施例に係る測長装置の系統図である
。本実施例ではレーザ測長器が使用される。図で、第7
図に示す部分と同−又は等価な部分には同一符号を付し
て説明を省略する。8′はテーブルである。このテーブ
ル8′は第7図に示すテーブルより遥かに大きな形状、
面積を有する。
。本実施例ではレーザ測長器が使用される。図で、第7
図に示す部分と同−又は等価な部分には同一符号を付し
て説明を省略する。8′はテーブルである。このテーブ
ル8′は第7図に示すテーブルより遥かに大きな形状、
面積を有する。
10A〜IODは第7図に示す顕微鏡10と同じ顕微鏡
、A0〜D、は顕微鏡10A〜IODの視野の中心を示
す。これら顕微鏡10A〜IODの位置については後述
する。14A〜14Dは第7図に示すカメラ14と同じ
カメラであり、顕微鏡10A〜IODの像を撮像する。
、A0〜D、は顕微鏡10A〜IODの視野の中心を示
す。これら顕微鏡10A〜IODの位置については後述
する。14A〜14Dは第7図に示すカメラ14と同じ
カメラであり、顕微鏡10A〜IODの像を撮像する。
17″は第7図に示す制御装置17′に相当する制御装
置であるが、制御装W17′の機能に加え、さらに、後
述する他の機能が付加されている。18は各カメラ14
A〜14Dの撮像信号を制御装置17″の指令により切
換える切換器である。
置であるが、制御装W17′の機能に加え、さらに、後
述する他の機能が付加されている。18は各カメラ14
A〜14Dの撮像信号を制御装置17″の指令により切
換える切換器である。
次に、本実施例の動作を第2図(a)、 (b)およ
び第3図を参照しながら説明する。第2図(a)はテー
ブルの上面閾である。まず、この図に基づいて第1図に
示す顕微鏡10A〜IODの配置位置を説明する。本実
施例では、チーフル8′の面が一点鎖線で示す4つの領
域に区分されている。
び第3図を参照しながら説明する。第2図(a)はテー
ブルの上面閾である。まず、この図に基づいて第1図に
示す顕微鏡10A〜IODの配置位置を説明する。本実
施例では、チーフル8′の面が一点鎖線で示す4つの領
域に区分されている。
これらの領域が符号8’A〜8’Dで示されている。顕
微鏡10A〜IODは、それぞれ領域8’A〜8’Dの
ほぼ中央に位置するように配置され、ステージ5と同じ
基盤上に固定される。第2図(a)では顕微鏡10A〜
IODは図示されず、その視野中心A。−D、のみ示さ
れている。
微鏡10A〜IODは、それぞれ領域8’A〜8’Dの
ほぼ中央に位置するように配置され、ステージ5と同じ
基盤上に固定される。第2図(a)では顕微鏡10A〜
IODは図示されず、その視野中心A。−D、のみ示さ
れている。
第2図(a)で、9Sはテーブル8′上に載置された基
準マスクを示す。この基準マスク9Sは、例えば第7図
に示すような多数の電極パターン9pが配置されたマス
クであり、これら電極パターン9pは、いずれも基準マ
スク9S上の所定点に対する位置が予め他の手段で測定
されていて既知である。基準マスク9Sの縦横の長さは
充分に大きく設定しである。したがって、基準マスク9
sは同時に、すべての顕微鏡10A〜IODの視野内に
ある。
準マスクを示す。この基準マスク9Sは、例えば第7図
に示すような多数の電極パターン9pが配置されたマス
クであり、これら電極パターン9pは、いずれも基準マ
スク9S上の所定点に対する位置が予め他の手段で測定
されていて既知である。基準マスク9Sの縦横の長さは
充分に大きく設定しである。したがって、基準マスク9
sは同時に、すべての顕微鏡10A〜IODの視野内に
ある。
被測長物の測定に際し、最初、テーブル8′には第2図
(a)に示すように基準マスク9Sが載置される。この
状態で、この基準マスク9scこ対する各顕微鏡10A
〜IODの視野中心A。−Doの位置(座標)が測定さ
れる。この座標の測定が第2図(b)に示されている。
(a)に示すように基準マスク9Sが載置される。この
状態で、この基準マスク9scこ対する各顕微鏡10A
〜IODの視野中心A。−Doの位置(座標)が測定さ
れる。この座標の測定が第2図(b)に示されている。
第2図(b)は顕微鏡10Aの顕微鏡像の平面図である
。この図で、1゜AAは顕微鏡10Aの視野、Aoは第
2図(a)に示すものと同じ視野中心を示す。9sP、
Jは基準マスク9Sのパターンの1つであり、X軸、Y
軸方向にそれぞれi番目およびj番目のパターンである
。dX、dyはパターン93P1Jの右肩部の視野中心
A0に対するX軸、Y軸方向の距離を示す。
。この図で、1゜AAは顕微鏡10Aの視野、Aoは第
2図(a)に示すものと同じ視野中心を示す。9sP、
Jは基準マスク9Sのパターンの1つであり、X軸、Y
軸方向にそれぞれi番目およびj番目のパターンである
。dX、dyはパターン93P1Jの右肩部の視野中心
A0に対するX軸、Y軸方向の距離を示す。
今、テーブル8′を停止した状態で顕微鏡10Aの視野
10AAが第2図(b)に示すものであるとすると、こ
のパターン93P、の肩部と視野中心A0との距離dX
、dyが画素数のカウント(アドレス演算)により判る
。パターン9SPiJの肩部の位置は既知であるので、
視野中心A。の座標が求まる。次いで、同様の手段で視
野中心B。の座標を求め、続いて視野中心Co、Doの
座標を求める。これらの座標により、固定状態にある各
顕微鏡10A〜10Dの各視野中心間の相対位置関係が
得られる。
10AAが第2図(b)に示すものであるとすると、こ
のパターン93P、の肩部と視野中心A0との距離dX
、dyが画素数のカウント(アドレス演算)により判る
。パターン9SPiJの肩部の位置は既知であるので、
視野中心A。の座標が求まる。次いで、同様の手段で視
野中心B。の座標を求め、続いて視野中心Co、Doの
座標を求める。これらの座標により、固定状態にある各
顕微鏡10A〜10Dの各視野中心間の相対位置関係が
得られる。
このように、各視野中心A。−Doの座標を求めた後、
被測長物の測定が行なわれる。この測定を第3図を参照
しながら説明する。第3図はテーブル8′に被測長物を
載置した状態の平面図である。第3図で、第2図に示す
部分と同一部分には同一符号が付しである。9は被測長
物、M+ 、M2、M3は被測長物9の3つの隅部に付
されたマーク、0はマークMIの角部を示す。この例で
は被測長物9の各角部は直角であるとする。
被測長物の測定が行なわれる。この測定を第3図を参照
しながら説明する。第3図はテーブル8′に被測長物を
載置した状態の平面図である。第3図で、第2図に示す
部分と同一部分には同一符号が付しである。9は被測長
物、M+ 、M2、M3は被測長物9の3つの隅部に付
されたマーク、0はマークMIの角部を示す。この例で
は被測長物9の各角部は直角であるとする。
被測長物9が測定を行なうためテーブル8′に第3図に
示す状態で載置されたとすると、この状態で、測定者は
まずレーザ測長器を初期設定した後、移動台6を駆動し
てマークM1の角部を顕微鏡10Aの視野中心A。に移
動させ、その座標を視野中心A。の座標と当該移動距離
Xつ、Y2とから求める。同様の手段で、マークM2の
角部と視野中心B。との一致によりマークM2の角部の
座標が求められ、さらに、マークM3の角部と視野中心
C8との一致によりマークM3の角部の座標が求められ
る。これら各マークM、〜M3の角部の座標から、マー
クM1.M2の角部を結ぶ直線をX軸、当該直線に対し
てマークM3の角部から下ろした垂線をY軸、それらの
交点を原点とする新らたな座標軸が設定される。図示の
場合、この座標軸の原点0はマークM、の角部となる。
示す状態で載置されたとすると、この状態で、測定者は
まずレーザ測長器を初期設定した後、移動台6を駆動し
てマークM1の角部を顕微鏡10Aの視野中心A。に移
動させ、その座標を視野中心A。の座標と当該移動距離
Xつ、Y2とから求める。同様の手段で、マークM2の
角部と視野中心B。との一致によりマークM2の角部の
座標が求められ、さらに、マークM3の角部と視野中心
C8との一致によりマークM3の角部の座標が求められ
る。これら各マークM、〜M3の角部の座標から、マー
クM1.M2の角部を結ぶ直線をX軸、当該直線に対し
てマークM3の角部から下ろした垂線をY軸、それらの
交点を原点とする新らたな座標軸が設定される。図示の
場合、この座標軸の原点0はマークM、の角部となる。
次いで、さきに求められていた視野中心A0〜D0の座
標値が新らたな座標軸の座標値に変換される。
標値が新らたな座標軸の座標値に変換される。
以上の座標値の計算や変換は周知の手法により制御装置
17″に備えられたマイクロコンピュータの演算手段に
より実行される。
17″に備えられたマイクロコンピュータの演算手段に
より実行される。
このような処理がなされた後、被測長物9上の2点間の
距離の測定が行なわれる。例えば、点P。
距離の測定が行なわれる。例えば、点P。
と点P、の2点間を測定する場合、測定者は点PCをそ
の属する領域の顕微鏡10Cの視野内に移動させ、レー
ザ測長器によりその移動距離xc、Ycが読まれる。制
御装置17″は、視野中心C0の座標と移動距離Xc、
Ycから、前記新らしい座標軸に対する点P、の座標を
演算する。全く同様に、測定者は点P、を顕微鏡10D
の視野内に移動さ せ、これにより点P、の座標が演算
される。制御装置17“は演算された点PC,P、の座
標に基づいて、画点間の距離を演算する。
の属する領域の顕微鏡10Cの視野内に移動させ、レー
ザ測長器によりその移動距離xc、Ycが読まれる。制
御装置17″は、視野中心C0の座標と移動距離Xc、
Ycから、前記新らしい座標軸に対する点P、の座標を
演算する。全く同様に、測定者は点P、を顕微鏡10D
の視野内に移動さ せ、これにより点P、の座標が演算
される。制御装置17“は演算された点PC,P、の座
標に基づいて、画点間の距離を演算する。
このように、本実施例では、テーブル8′を4つの領域
に区分し、各領域に対向して顕微鏡を配置するようにし
たので、移動台のストロークは1つの領域の範囲内に留
めることができ、これにより、精度の低下を防止するこ
とができる。ここで、従来装置に比較し、顕微鏡および
カメラを3つ増加させ、かつ、制御装置の機能も増加さ
せる必要があるが、このためのコスト増は、長ストロー
クの装置を製造する場合の製造コスト増に比較して遥か
に低い値である。
に区分し、各領域に対向して顕微鏡を配置するようにし
たので、移動台のストロークは1つの領域の範囲内に留
めることができ、これにより、精度の低下を防止するこ
とができる。ここで、従来装置に比較し、顕微鏡および
カメラを3つ増加させ、かつ、制御装置の機能も増加さ
せる必要があるが、このためのコスト増は、長ストロー
クの装置を製造する場合の製造コスト増に比較して遥か
に低い値である。
なお、上記実施例の説明では、レーザ測長器を使用した
例について述べたが、リニアエンコーダを使用してもよ
いのは当然である。また、チーフルの領域は4つてなく
適宜の数に区分してもよいが、その形状は正方形に近い
ものが望ましい。さらに、位置合わせの基準は顕微鏡の
視野中心でなく、視野内の設定された点とすることがで
きる。
例について述べたが、リニアエンコーダを使用してもよ
いのは当然である。また、チーフルの領域は4つてなく
適宜の数に区分してもよいが、その形状は正方形に近い
ものが望ましい。さらに、位置合わせの基準は顕微鏡の
視野中心でなく、視野内の設定された点とすることがで
きる。
以上述べたように、本発明では、テーブルを複数領域に
区分し、各領域に対向してそれぞれ顕微鏡を設けるよう
にしたので、小さなストロークで長い距離を測定するこ
とができ、ひいては、高い測定精度を維持することがで
きる。
区分し、各領域に対向してそれぞれ顕微鏡を設けるよう
にしたので、小さなストロークで長い距離を測定するこ
とができ、ひいては、高い測定精度を維持することがで
きる。
第1図は本発明の実施例に係る測長装置の系統図、第2
図(a)はテーブルに基準マスクを載置した状態の平面
図、第2図(b)は顕微鏡像の平面図、第3図はテーブ
ルに被測長物を載置した状態の平面図、第4図は液晶表
示装置の電極の配置図、第5図は従来の測長装置の系統
図、第6図(a)、(b)は顕微鏡像の平面図、第7図
は従来の他の測長装置の系統図である。 6・・・・・・移動台、8′・・・・・・テーブル、I
OA〜IOD・・・・・・顕微鏡、14A〜14D・・
・・・・カメラ、17″・・・・・・制御装置、18・
・・・・・切換器 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 (a) (b)
図(a)はテーブルに基準マスクを載置した状態の平面
図、第2図(b)は顕微鏡像の平面図、第3図はテーブ
ルに被測長物を載置した状態の平面図、第4図は液晶表
示装置の電極の配置図、第5図は従来の測長装置の系統
図、第6図(a)、(b)は顕微鏡像の平面図、第7図
は従来の他の測長装置の系統図である。 6・・・・・・移動台、8′・・・・・・テーブル、I
OA〜IOD・・・・・・顕微鏡、14A〜14D・・
・・・・カメラ、17″・・・・・・制御装置、18・
・・・・・切換器 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 (a) (b)
Claims (2)
- (1)被測長物を載置するテーブルと、このテーブルの
表面をほぼ等しい形状、面積で複数領域に区分したとき
の1つの領域の形状とほぼ等しく僅かに大きな面積をも
ち、かつ、前記テーブルを移動させる移動台と、この移
動台を移動可能に支持するベースと、前記複数領域のそ
れぞれに対向配置され前記ベースに連結された複数の顕
微鏡と、前記テーブルの移動量を測定する測定手段と、
この測定手段により測定された移動量に基づいて前記被
測長物の2点間の長さを演算する演算手段とで構成した
ことを特徴とする測長装置 - (2)被測長物を載置するテーブルと、このテーブルの
表面をほぼ等しい形状、面積で複数領域に区分したとき
の1つの領域の形状とほぼ等しく僅かに大きな面積をも
ち、かつ、前記テーブルを移動させる移動台と、この移
動台を移動可能に支持するベースと、前記複数領域のそ
れぞれに対向配置され前記ベースに連結された複数の顕
微鏡と、前記テーブルの移動量を測定する測定手段と、
この測定手段により測定された移動量に基づいて前記被
測長物の2点間の長さを演算する演算手段とで構成され
ている測長装置を用い、位置が既知である多数パターン
より成る板体を前記テーブルに載置し、前記各顕微鏡の
視野内にあるパターンに基づいて前記各顕微鏡の相対位
置を求めておき、次いで前記テーブルに被測長物を載置
し、この被測長物の予め定められた3つの点により直交
座標を設定し、前記顕微鏡位置を前記直交座標の座標値
に変換した後、2つの測定点のそれぞれをそれらの属す
る領域の顕微鏡の視野内に移動させ、これら移動量とこ
れら移動に関与した顕微鏡の座標値に基づいて前記各測
定点間の距離を演算することを特徴とする測定方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19291490A JP2921938B2 (ja) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | 顕微鏡装置およびこの装置による測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19291490A JP2921938B2 (ja) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | 顕微鏡装置およびこの装置による測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0480609A true JPH0480609A (ja) | 1992-03-13 |
JP2921938B2 JP2921938B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=16299079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19291490A Expired - Fee Related JP2921938B2 (ja) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | 顕微鏡装置およびこの装置による測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2921938B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8263220B2 (en) | 2004-08-06 | 2012-09-11 | Nitto Denko Corporation | Work subject material, surface protection sheet and method of working |
WO2018062169A1 (ja) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 日本電産リード株式会社 | 測長装置 |
-
1990
- 1990-07-23 JP JP19291490A patent/JP2921938B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8263220B2 (en) | 2004-08-06 | 2012-09-11 | Nitto Denko Corporation | Work subject material, surface protection sheet and method of working |
WO2018062169A1 (ja) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 日本電産リード株式会社 | 測長装置 |
US10760895B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-09-01 | Nidec-Read Corporation | Length measurement device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2921938B2 (ja) | 1999-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3511450B2 (ja) | 光学式測定装置の位置校正方法 | |
US10415955B2 (en) | Measuring system | |
CN101334267A (zh) | 数字影像测头矢量坐标变换标定与误差修正方法及其装置 | |
CN105180841B (zh) | 一种新型微型元件三维测量***及其测量方法 | |
CN102937418A (zh) | 一种扫描式物体表面三维形貌测量方法及装置 | |
KR20200105498A (ko) | 3차원 재구성 시스템 및 3차원 재구성 방법 | |
CN1945204A (zh) | 镜面物体表面三维轮廓测量装置和方法 | |
CN1618005A (zh) | 一种三维形状测量的传感装置及其测量方法 | |
CN107339935B (zh) | 用于全视角扫描测量***的靶标空间交会测量方法 | |
JPH07190741A (ja) | 測定誤差補正法 | |
CN112082511A (zh) | 一种基于转台的大物体快速标定测量方法 | |
JP2001221749A (ja) | 観察装置及び観察方法 | |
JP2007085912A (ja) | 位置測定方法及び位置測定装置並びに位置測定システム | |
CN115371545A (zh) | 激光跟踪仪姿态测量校准装置及方法 | |
JPH11351841A (ja) | 非接触三次元測定方法 | |
CN113091653A (zh) | 基于五棱镜测量直线导轨角自由度误差的装置及方法 | |
JPH0480609A (ja) | 顕微鏡装置およびこの装置による測定方法 | |
JP4791568B2 (ja) | 3次元測定装置 | |
CN103869627A (zh) | 用于投影光刻机的调焦调平方法 | |
JP2005172610A (ja) | 3次元測定装置 | |
CN113432551A (zh) | 基于多轴精密运动机构的微小零件三维形貌测量方法 | |
CN115482276A (zh) | 一种基于相移偏折测量***的高精度标定方法 | |
Wu et al. | A novel precise guiding method for visual guiding theodolite measurement in volume space | |
US10955239B2 (en) | Positioning device and positioning method, color film coating machine | |
CN107632407B (zh) | 一种柱透镜成像***的校准装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |