JPH04779A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents

ガスレーザ発振装置

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JPH04779A
JPH04779A JP10018090A JP10018090A JPH04779A JP H04779 A JPH04779 A JP H04779A JP 10018090 A JP10018090 A JP 10018090A JP 10018090 A JP10018090 A JP 10018090A JP H04779 A JPH04779 A JP H04779A
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JP
Japan
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voltage
fet
high voltage
mos
smoothing circuit
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Pending
Application number
JP10018090A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Motomiya
均 本宮
Shuzo Yoshizumi
吉住 修三
Akio Tanaka
田中 昭男
Shigeki Yamane
茂樹 山根
Tsutomu Sugiyama
勤 杉山
Hidehiko Karasaki
秀彦 唐崎
Masashi Onishi
正史 大西
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、安定した信頼性のあるガスレーザ発振装置に
関する。
(従来の技術) 第2図(a)は従来の、軸流型ガスレーザ発振装置と呼
ばれる、絶縁体からなる放電管の光軸方向にレーザガス
を流し、放電管の両端に設けた電極間に高電圧を印加し
てレーザビームを発生させる、ガスレーザ発振装置の構
成を示す図である。1はガラス等の誘電体からなる放電
管、2,3は放電管1の内部に配置された電極、4はそ
れら電極2゜3に接続された高電圧電源部であり、たと
えば3゜kVの高電圧を上記画電極2および3の間に印
加している。5は電極2および3の間のレーザ放電空間
、6はレーザの全反射鏡、7は同じく部分反射鏡であり
、これらは上記レーザ放電空間5を介して対向配置され
て光共振器を構成している。
また、8は上記の部分反射鏡7から出力されるレーザビ
ームを表わし、矢印9はレーザガスの流れの方向で、レ
ーザガスは軸流型に形成されたレーザ装置の中を循環し
ている。10は送気管、11゜12は上記レーザ放電空
間5における放電、および送風機により上昇するレーザ
ガスの温度を低減させるための熱交換器、そして13は
送風機であり、通常、レーザ発振のためにはレーザ放電
空間5において、約100m/sec程度のガス流が得
られるように送風される。
従来の細流型ガスレーザ発振装置は上記のように構成さ
れ、まず電極2および3に高電圧電源部4から高電圧を
印加し、レーザ放電空間5にグロー放電を発生させる。
レーザ放電空間5を通過するレーザガスは、上記グロー
放電の放電エネルギーにより発振が励起され、その励起
されたレーザガスは全反射鏡6、および部分反射鏡7に
より構成された光共振器により共振状態となって、部分
反射鏡7からレーザビーム8として出力され、それはレ
ーザビーム加工等に用いられる。
第2図(b)は上記、高電圧電源部4の構成を示し、そ
の入力には通常、3相200vの商用交流電源が印加さ
れ、その交流入力を直流平滑回路14により整流した直
流電圧を、スイッチング制御回路15によって制御され
る高周波スイッチング素子16に印加して、その断続に
より高電圧高周波トランス17の一次巻線に入力する直
流電圧を断続させ、それにより二次巻線に昇圧された高
周波電圧を誘起させ、それを高電圧整流平滑回路18に
より直流高電圧の約30kVとして出力させる。
第2図(c)は上記、高周波スイッチング素子16を説
明する高電圧電源部4の部分図であり、高周波スイッチ
ング素子16はMOS−FET19をHブリッジとして
構成し、動作周波数fでスイッチングさせている。従っ
て、高電圧高周波トランス17の一次側には均等な電流
が流れ、対応する安定な高電圧が二次側に出力される。
(発明が解決しようとする課題) 上述したような従来のガスレーザ発振装置の高電圧電源
部4は、放電がアーク状態になったとき、高電圧高周波
トランス17の二次側は短絡状態に近くなり、過大な電
流が各MO3−FET19に流れ、それを破壊する問題
点を有している。
本発明は、上述従来の問題点に鑑み、適宜なインピーダ
ンスを有する高電圧高周波トランス17を用いて、高電
圧電源部の高周波スイッチング素子のMOS−FET1
9に流れる電流を抑制し、電流破壊を防止するガスレー
ザ発振装置の提供を目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は上記の目的を、電極を両端に設けた放電管内に
レーザガスを流送し、高電圧電源部から上記電極に高電
圧を印加してグロー放電させ、放電管の軸方向にレーザ
ビームを発生させる、軸流型ガスレーザ発振装置におい
て、上記、高電圧電源部を、商用交流電源を直流化する
直流平滑回路と、その出力を断続させる高周波スイッチ
ング素子と、高電圧高周波トランスと、および高電圧整
流平滑回路とにより構成し、上記高周波スイッチング素
子をMOS −FETのHブリッジ構成とし、上記、高
電圧高周波トランスの二次巻線短絡時の一次巻線側から
みたインダクタンスをし、上記高周波スイッチング素子
のスイッチング周波数をf、各MOS・FETのドレイ
ン・ソース間の最大定格電流を■、直流平滑回路の直流
出力電圧をEとするとき、上記高電圧高周波トランスの
上記インダクタンスLを、L≧E/27cfIをみたす
値に選定することにより達成する。
(作 用) 本発明における上記の高電圧電源部4はアーク放電時に
おいても、インダクタンスLにより明らかに高周波スイ
ッチング素子を構成するMOS・FET19の破壊を防
止することができるから、レーザビームを安定して出力
する信頼性の高いガスレーザ発振装置となる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第1図は本発明の一実施例要部の高電圧高周波トランス
の部分を示す断面図(a)、およびMOS・FETの破
壊率を示す特性図(b)であり、レーザ発振部の構成は
第2図(a)と同じであるから図示を省略する。
まず、第1図(a)において、20は高電圧高周波トラ
ンス17の一次巻線、21は二次巻線であり、22はフ
ェライトコアである。このような高電圧高周波トランス
I7の巻線において、本発明の場合は一次巻線20の巻
数を従来例よりも増大させる。
第1図(b)は、高電圧高周波トランス17の一次巻線
20の巻数に対する、高周波スイッチング素子16を構
成するMOS−FET19の破壊率を示す特性図であり
、一次巻線巻数(横軸)のP点は、高電圧高周波トラン
ス17の二次巻線短絡時の一次側からみたインダクタン
スをし、上記、高周波スイッチング素子16のスイッチ
ング周波数をf、各MO5−FET19のドレイン・ソ
ース間の最大定格電流を■、直流平滑回路14の直流出
力電圧をEとするとき、L=E/2πFIをみたすイン
ダクタンスLの値を示している。
これから明らかなように、一次巻線のインダクタンスL
をL≧E/2πf1を満足するように巻線の数を選べば
、MOS−FET19は電圧破壊から防止されることが
わかる。
すなわち、本発明は高周波スイッチング素子16をMO
S−FET19のHブリッジとして構成し、それにより
駆動される高電圧高周波トランスI7の一次巻線の巻数
をL≧E/2πfIを満足するインダクタンスLを持つ
ようにして−MOS−FET19の電圧破壊を防止する
ものであり、信頼性のあるレーザビームを安定に出力す
ることができる。
(発明の効果) 以上説明して明らかなように本発明は、ガスレーザ発振
回路の高電圧電源部を、直流平滑回路。
高周波スイッチング素子、高電圧高周波トランス、高電
圧整流平滑回路を設けて構成し、とくに上記、高周波ス
イッチング素子をMOS −FETのHブリッジとして
構成し、そのスイッチング出力が印加される高電圧高周
波トランスの一次巻線の巻数を最適値に選定することに
より、安定した信頼性のあるレーザビームを出力するガ
スレーザ発振装置であり、用いて大いに益するところが
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例要部の高電圧高周波トランス
の巻線を示す断面図(a)、およびMOS・FETの破
壊率を示す特性図(b)、第2図は従来のガスレーザ発
振器の構成図(a)、高電圧電源部のブロック図(b)
、および高電圧電源部の部分回路図(c)である。 1・・・放電管、 2,3・・・電極、 4・・・高電
圧電源部、 5・・・レーザ放電空間、6・・・全反射
鏡、 7・・・部分反射鏡、 8・・レーザビーム、 
10・・・送気管、 11゜12・・熱交換器、13・
・・送風機、 14・・直流平滑回路、 15・・・ス
イッチング制御回路、 16・・高周波スイッチング素
子。 17・・・高電圧高周波トランス、 18・・・高電圧
整流平滑回路、 19・・・MOS −FET、20・
・・一次巻線、 21・・・二次巻線、 22・・・ フェライトコア。 特許出願人 松下電器産業株式会社

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電極を両端に設けた放電管内にレーザガスを流送
    し、高電圧電源部から上記電極に高電圧を印加してグロ
    ー放電させ、放電管の軸方向にレーザビームを発生させ
    る、軸流型ガスレーザ発振装置において、上記高電圧電
    源部を、商用交流電源を直流化する直流平滑回路と、そ
    の出力を断続させる高周波スイッチング素子と、高電圧
    高周波トランスと、および高電圧整流平滑回路とにより
    構成し、上記高周波スイッチング素子をMOS・FET
    のHブリッジ構成とし、上記高電圧高周波トランスの二
    次巻線短絡時の一次巻線側からみたインダクタンスをL
    、上記高周波スイッチング素子のスイッチング周波数を
    f、各MOS・FETのドレイン・ソース間の最大定格
    電流をI、直流平滑回路の直流出力電圧をEとするとき
    、上記高電圧高周波トランスの上記インダクタンスLを
    、L≧E/2πfIをみたす値に選定したことを特徴と
    するガスレーザ発振装置。
  2. (2)インダクタンスLが、一次巻線巻数の増減によっ
    て、L≧E/2πfIをみたす値に設定された高電圧高
    周波トランスを用いることを特徴とする請求項(1)記
    載のガスレーザ発振装置。
JP10018090A 1990-04-18 1990-04-18 ガスレーザ発振装置 Pending JPH04779A (ja)

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