JPH0472571B2 - - Google Patents

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JPH0472571B2
JPH0472571B2 JP60273607A JP27360785A JPH0472571B2 JP H0472571 B2 JPH0472571 B2 JP H0472571B2 JP 60273607 A JP60273607 A JP 60273607A JP 27360785 A JP27360785 A JP 27360785A JP H0472571 B2 JPH0472571 B2 JP H0472571B2
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catalyst
disk
sector
bed
particles
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JP60273607A
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JPS61141923A (ja
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Ei Soaazu Suchiibun
Ii Hoeru Buruusu
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Chevron USA Inc
Original Assignee
Chevron Research and Technology Co
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Publication date
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Publication of JPH0472571B2 publication Critical patent/JPH0472571B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G69/00Auxiliary measures taken, or devices used, in connection with loading or unloading
    • B65G69/04Spreading out the materials conveyed over the whole surface to be loaded; Trimming heaps of loose materials
    • B65G69/0458Spreading out the materials conveyed over the whole surface to be loaded; Trimming heaps of loose materials with rotating means, e.g. tables, arms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/0015Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
    • B01J8/002Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ 発明の分野 本発明は粒状の材料を円筒状の床または容器内
へ一様に装入する方法および装置に関する。特
に、本発明は触媒の床の全円形区域の全体にわた
り触媒の粒子の多重同心リング内へ触媒を同時に
流すことで大直径の円筒状容器上に触媒の粒子ま
たはそれに類似したものを一様に分配することに
よる触媒反応床の触媒志向パツキン(COP)の
装入に関する。本発明は先ず第1に高い息角を有
している円柱状の押出し成形された触媒のごとき
触媒が高い触媒対容積比で床内に一様におさまる
ことを確実ならしめることに先ず向けられてい
る。
容器の全直径を横切る多数の同心リングにより
同時に床が形成されるように、回転楕円体状の粒
子を含んだ高い息角を有する粒子の詰込み密度を
増大することが本発明の特定な目的である。たと
えば触媒のごとき粒子から成る多重リングが、頭
上の流れ管からの触媒の流れを分割して互いに半
径を異にする多数の半径方向の扇形体にする単一
の回転円板またはローターの一様な回転により、
形成される。その結果として、円板の分配表面の
各々の扇形体からの触媒粒子の退出速度が床また
は容器内の多数の種々の半径方向の投げ出し距離
を生成する。上記円板の全ての扇形体は同じ速度
で回転するので、触媒の同心リングが前記容器内
へ投げ込まれて互いに隣接した環状リングをなし
て同時に沈積する。このような環状リングは半径
方向の幅が好ましくも比較的に狭いがこの容器の
軸線から半径方向の距離が漸進的に異なつて、触
媒の床を一様に覆う多数の同心リングを形成す
る。
ロ 発明の背景 1つまたはそれ以上の固定した触媒床を有する
触媒反応器容器が一般に触媒分配器を用いること
が詰込まれる。このような技法は触媒志向パツキ
ング(しばしばCOP装入と呼ばれる)として知
られており且つ時に触媒床の浸透性と全密度との
一様性を生成するのに特に有用である。最近の触
媒的処理において、触媒の粒子は一般的に直径
1.59mmから6.35mmの円柱状のロツドの形に押出し
成形により製造されている。次いで上記ロツドは
6.35mmから12.7mmの長さに破断される。このよう
な押出し成形物は代表的にはアルミナ、シリカ−
アルミナまたは合成あるいは天然のゼオライト材
料から形成され且つ回転楕円体の触媒よりもかな
り低廉に生産される。だが、この種の押出し成形
物の粒子は高い息角、すなわち材料の自由に静止
した積重ねが安定する角度、を有している。その
結果これ等の粒子は大直径の円筒状の容器の全体
にわたり均等に分配することが困難である。さら
にその上に、製造と処理反応器への装入との両方
の間におけるチツピングと破断のみでなく、この
ような粒子の大きさの差異に起因し、これ等の粒
子は、その床が容器内の中心点から重力のみによ
り詰込まれるならば、「分類し」あるいは「分離
する」傾向がある。
COP装入の第1の目的は空間、したがつて、
触媒粒子での炭化水素の発熱反応中に生じ得る局
部的「ホツトスポツト」をできるだけ少くするこ
とである。さらにその上に固形粒子材料の詰込み
密度が増大されることで、容器内の反応物の流れ
分配が改善される。さらにまた、床の密度の増大
で、この反応器が生産を開始され且つ反応器を通
る流体の流れにより流体力を加えられた場合、床
の沈積が制限される。一般に、触媒の量を現存の
容器で数パーセント増大することができる。それ
とは逆に、新たな容器での同量の触媒に対して数
パーセント小さい反応器容積が必要とされる。
一般に、既知の触媒志向装入装置は一様な直径
を有する分配器円板と、この回転円板の頂部上の
多数の半径方向のブレードまたはひれ部材とを含
んでいた。一般にこの分配器は円錐形の部材であ
るかまたは平たい円形の板である。だが、触媒を
床の全横断面積に渡つて分配するためには、触媒
が投げ出される距離が円板の速度に比例するの
で、分配器の速度が変化されねばならない。この
円板が表面上に羽根を形成された平たい板である
場合、数個の孔が上記板に設けられていて、触媒
の粒子の一部が反応器容器の中心に向け回転部材
を通して直ぐ下方に落下するようにされている。
米国特許第3804273号Uhlの明細書には、単一
の円錐形表面を有する放射状の分配器で触媒の床
に装入するための装置が開示されている。床の全
直径に渡つて触媒を分配する唯一の方法は回転円
板の速度を増減することである。
ジヨンソンその他の米国特許 第3972686号の明細書には、羽根と、触媒の一
部が貫通して床の中心近くに落下する多数のみぞ
孔または孔とを有する平坦な円板が開示されてい
る;触媒の残部は容器の側面に向けて投げ出され
る。この方式もまた触媒が触媒反応器床の平面全
体を覆うように触媒を装入するのに回転円板の速
度を変化する必要がある。
この種の先行技術の配列の特定の缺点は、1つ
の速度において、表面上に落下した触媒の粒子を
類別する傾向のある円形または環状のマウンドに
投げ込まれることにある。大型の粒子は底部へ且
つ前記マウンドの外部へ落下しまた小型の粒子は
上記マウンド自体上に停止する。前記の回転円板
の速度を変えることでこれ等の難点がある程度ま
で軽減されるが装入割合が上記速度に比例するの
で、円板速度を低下することで反応器のための装
入時間が著しく増加する。他方において、円板速
度が過大となると、その結果として触媒が半径方
向の投げ出し距離を制御するのに十分な滞留時間
なしで上記円板から飛び出すことになる。さらに
その上に、上記床の内部は通常は従業者が実際に
装入器から触媒の床を見ることができない程にほ
こりに満ちあふれているので、所望の半径方向の
投げ出し距離を達成するように円板速度を制御す
ることほ困難である。したがつて与えられた床の
レベルで装入された触媒のドラムの個数により予
想される分配レベルを決定する必要がある。この
ような方法は多くの時間を要し且つ必ずしも床の
レベル装入を許すに十分な程精確ではない。実際
において、反応器の上方へ上記床を必要以上に高
い、たとえば152.4mmから304.8mm高い外側端縁で
床を満たし、次いで同様な量だけ外側端縁におけ
るよりも上方に中心レベルの高さを増大し且つ単
数または複数の床の深さがその反応器の隅から隅
まで増大されるにつれて、これを交互に繰返すこ
とが一般に行われている。容器が各別個な支持
「スクリン」により支持された数個の別個の床を
含み且つ下方の床が上方に横置する床支持体の中
心に設けられた通路を通して詰込まれねばならな
い場合はこの問題はさらに悪化される。かくして
目視点検はますます困難にされる。
ラウタテイその他の米国特許 第4306829号の明細書には反応器内の触媒粒子
またはサイロ内での穀物の貯蔵のための分配器が
開示されている。この分配器は駆動軸の長さに沿
つてフツクにより枢動自在に支持された可撓スト
ラツプを含んでいる。これ等のストラツプは補強
されなゴムから形成されてもよく且つ同じ長さの
ものであるかまたは給送ホツパの吐出口から遠ざ
かるにつれて漸進的に長くされている。これ等の
例はこの方式が直径60cmの反応器容器のモデルに
詰込むのには申し分がないと判明している。回転
ストラツプの有効な長さは駆動軸の速度と落下す
る触媒の粒子との相互作用に比例して直径が変わ
るように思われる。上記の諸配列の各各を使用し
ての容器への有効な装入は以上で述べられた理由
で比較的に小さい直径の反応器に制限される。
本発明の譲受人に譲渡されたフアナムの米国特
許第4433707号の明細書には、単一の駆動軸によ
り同速度で回転される互いに直径を異にする多数
の円板を用いての容器の中心からその外壁まで触
媒の粒子の均等な分配で各レベルにおいて反応器
容器を一様に詰込むための方法と装置とが開示さ
れている。望ましくも、供給ホツパー給送チユー
ブの最も近くに最大の直径を有する、3個の円錐
形円板が用いられている。上方の円板は下方の円
板の各々への触媒の給送を許す中心開口を有して
いる。上記円板が互いに直径を異にしているの
で、各々の円板は、駆動軸が一定速度で回転して
いれば、前記容器の周りの異なつた区域に触媒を
まき散らす。このような装置は、容器の頂部にて
あるいは数個の床の各の上方に適当な「ヘツド」
室が利用できる直径が比較的に小さく且つ床が深
い容器への触媒の吐き出しには全く申し分がな
い。だが、この方法もまたローターの速度を変え
ることなくわずかな数の環状リングを同時に横置
することに制限される。
***特許第2703329号(1978年3月)の明細書
には共有の駆動軸により回転される、互いに軸線
方向に離隔された多重円板を用いた他の粒子装入
システムが開示されている。この作動のモードは
前記フアンハム特許のものに類似している。
ハ 発明の要約 本発明の方法を実施するに当り、単一の触媒分
配器が詰込まれるべき床より上方の適当なレベル
に位置決めされる。次いで触媒が、触媒の実質上
円柱状の柱体が単一のローターまたは円板部材上
に落下するように位置決めされた給送チユーブを
有するホツパから、分配器に供給される。
かくして触媒の粒子はこの容器または床の中心
と同心をなくした触媒の多数の環状リングを形成
することで、実質上一様に高い密度で床の全直径
を横切つて単一の円板により分配される。このよ
うな作用は触媒から成る円柱体を単一の回転円板
上の種々の半径方向の長さを有する多数の弓形状
扇形体または部分内へ向きをそらせることで円板
速度を変えることなく達成される。できれば、
各々の弓形状の部分は前記容器の横断面積内の前
記床の環状区域の1つに比例した容積を有するこ
とが好ましい。この所望の容積は前記弓形状の扇
形体の半径方向の長さと、円板上の扇形体の隣り
合う辺によつて形成される開先角との両方により
形成される。円板の1つの好ましい形式におい
て、各々の隣接した弓形状の扇形体または部分は
実質上互いに相等しい幅を有していて、上記床内
に触媒から成るこのような環状リングを形成する
ように互いに異なる容積を有することが望まし
い。
前記容器の全横断面積次第で、給送チユーブか
ら流れる触媒の円柱容積は外側の環状柱体と内側
の円柱状柱体とに分割されることができる。好ま
しい一実施例においては、このことは前記円板の
主分配表面から前記給送チユーブ内へ上向きに且
つ内方へ延びた截頭円錐形の部材により達成され
ることができる。前記円錐形部材の大基底部と前
記主円板とは前記柱体に対し実質上直角をなし
た、半径方向の長さの異なる、他の多数の別個な
弓形状の流路へ触媒を供給する補助ホツパまたは
貯蔵容積をなしている。上記の他の多数の流路の
各々はまた単一のローターまたは円板により回転
される。これ等の流路の各々は上記の円板により
形成されるいずれの弓形状の部分の半径よりも短
いことが望ましい。
上記円板を一様に回転することで多数の弓形状
の流路の各々は互いに直径を異にする同心の環状
リングを横置する。これ等のリングはこの容器内
の触媒床支持体の表面面積を触媒で実質上被覆す
る。各々のリングは全てのレベルにおいて同時に
形成されるので、触媒の深さは全容器または床の
直径に渡つて一様であり且つその結果得られた触
媒の床は同じ容器または床容積に比べて平均の密
度が大である。
本発明のさらに他の目的および利点は、本明細
書の缺く可からざる部分をなしている添付図面に
ついてなされている本発明の好ましい実施例につ
いての以下の詳細な説明に照らして、当業者には
明白となるであろう。
ニ 本発明の好ましい実施例の説明 第1図には、触媒の粒子から成る同心のリング
を横置するのに好ましい形式の触媒装入装置12
を用いた、大直径触媒反応器容器10内への配向
された触媒の装入に対する本発明の方法の適用が
図解されている。第2図に示されているとおり、
同様な環状の幅または平均の半径方向の長さを有
するこのような多数の同心リング14が全直径を
横切つて同じ深さと密度まで、床16に触媒を詰
込むように容器10の全直径を同時に被覆する。
このような方法は沈積後には比較的に動かない触
媒の円柱状の押出し成形物粒子のごとき、大きい
息角を有している触媒を装入することを目的とし
ている。
特に第1図に図示されているように容器10は
各々が触媒支持構造体またはスクリン18上に形成
された多数の床16の含むことができる。図示さ
れているごとく、多数の支持構造体18が提供さ
れて、数個の互いに直列的に相互に連結された流
れ床16の各々が互いに上下をなして位置決めさ
れるようにされることができる。床16の各々が
その高さまたは深さの全体にわたり一様な密度で
詰込まれることを確実にするため、この触媒分配
装置の軸線方向の長さが比較的に短くされて、上
方支持構造体18の下方の前記床の頂部、または
容器10の頂部は頭上のスペースが殆んどまたは
全くないように、できるだけいつぱい詰込まれる
ようにされることが重要である。この理由で、本
発明にしたがつて構成された、触媒分配ローラー
部材20は板22により形成された第1の分配表
面を含み、またこの板22はその回転軸線30に
共有の頂点を有している多数の形状の弓扇形体2
4に分割されている。だが図示されているよう
に、ローターの動的安定性のため各々の扇形体は
隣接の扇形体のどれとも異なつた半径を有してい
る。前に述べられたとおり、このローターを動的
に釣合わせるため互いに面積の相等しい2つの扇
形体が互いに直径的に相対向して位置決めされて
いる。
第3図および第4図に図示されている特定の実
施例においては、半径方向のリブ部材26が扇形
体24を形成し且つ図示されているように互いに
異なる半径方向の長さを有している。リブ部材2
6は板22の分配用表面にほぼ垂直をなしてこれ
から軸線方向に延びている。個々の扇形体24
が、隣り合う辺と形成する、互いに相異なる開先
角を有していることと、上記の開先角はリブ26
の深さとともに床16の表面上の各々のリングへ
投げ出されることのできる触媒の全容積を決定す
ることとが特に注目されるべきである。各々の
個々の扇形体の全容積が床16の頂部上に投げ出
されるべき対応した触媒のリング14の面積に比
例することがとうぜん理解されるであろう。一般
に、扇形体24の上記容積は前記リングの周面積
と他の扇形体24により形成される隣接のリング
に関する各々のリングの幅とに比例するであろ
う。
第4図に特に図示されているように、板22と
個々の扇形体24とにより形成される分配表面に
分配器板22をたとえば、ハブ34とキーまたは
打込みピン36により取付けられている駆動軸3
2と実質上同軸をなす軸線30を有する給送チユ
ーブ28により供給される。
第1図に図示されているように、本発明の分配
装置は従来の触媒配向パツキング装置とともに用
いられることができる。図示されているように、
ホツパ38は触媒を装入され且つ重力により触媒
を供給チユーブ40を通して下方の給送ホツパ4
2へ給送する。ホツパ42は分配円板20より上
方に一定の触媒のヘツドを維持し且つできれば上
方のグリツド18に設けられている通路44をお
おつてあるいは容器10の上方フランジ46上
に、たとえば枢着された腕49により、支持され
ることが好ましい。次いで回転円板20は軸32
とローター20とを所望の速度で駆動するように
下方のホツパ42上に装架されたローカルなエア
ーモーター、または電気モーター48により駆動
されることができる。モーター48の駆動は空気
ホースまたは電気ケーブル50によりなされる。
さもなければ、外部のマーター(図示されていな
い)までフランジ46より上方に延びた駆動軸3
2により回転されてもよい。
大直径の容器内の触媒の分配における特定の問
題は容器の中心近くにおける触媒の分配を均等な
らしめることである。中心部分を含んだ、たとえ
ば2.44mから4.57mである容器の全直径に渡つて
触媒を均等に横置することはきわめてきわどい。
単に分配用の板の中心を通して触媒を投げ落し且
つ積重なつた中心の山から触媒を外方に転り落す
だけでは申し分のない結果は得られない。本発明
のこの好ましい実施例によれば、この問題は各々
が互いに半径方向の長さを異にする多数の矩形状
のチユーブまたはチヤンネル52,54,56お
よび58を用いることで解決されている。第5図
で明らかに理解されるとおり、これ等のチヤンネ
ルは、下方のカラー62上に支持されている板6
0とともに、付加的な環状の触媒分配リングを提
供する。板60は多数のねじ棒64とナツト66
とによりカラー62より下方に支持されて、板6
0がカラー62のフランジ68に関して適当に離
隔されることができるようにされている。板60
自身は頂部表面上に担持された半径方向の棒70
の作用による触媒のさらに他の分配器として役立
つている。板60の回転軸線から半径方向に離隔
された適当な導口72が最内方のリングへ流され
る触媒の量を制御する。
詳細には図示されていないが、給送チユーブ4
0が、円板86の上方且つ内方の端縁87を越え
て円柱状をなして流れる触媒の量と比べて、多数
の扇形体24へ環状をなして流れる触媒の量に比
例するように截頭一円錐形の円板86の円錐形表
面に関して調節自在に位置決めされることは理解
されるであろう。したがつて截頭円錐形の部分8
6と板22とにより形成される室88は触媒をチ
ユーブ52,54,56および58と板60とに
分配するのに役立つ。同様に、前記のとおり、6
0とカラー68との間の開口は棒70の助けで、
板60の端縁からまた導口72を通る触媒の全体
の流量を制御する。
第5図に最も明瞭に図示されているとおり、給
送チユーブ40から内部の円筒状部分内を流れて
いる触媒の供給は板22に設けられている方形の
開口84を通つて4つの矩形状のチユーブ52,
54,56および58へ流れまたは分配器板60
へ流れる触媒は同様に板22に設けられている4
つの円形開口90を通り抜ける。
各々が扇形体24のどの半径方向の通路よりも
短い、互いに半径方向における長さの異なるチユ
ーブ52,54,56および58を形成すること
で、この触媒の内径リングまたは環状部分は、触
媒が扇形体24により床または容器の外方部分へ
投げ込まれている際に同時に詰込まれる。またそ
れと同時に、開口90を通り抜けた触媒はカラー
68からの板60の間隔と棒70の半径方向の配
置と導口72の大きさとの制御によりこの床の最
内方部分に選択的に横置される。したがつて、こ
の実施例においては弓形状の扇形体24により横
置された10個のチユーブ52,54,56および
58により横置された4個と板60により横置さ
れた2個との計16個の別個なリングを形成する多
数の帯域への触媒の分配を単一のローターが可能
ならしめることが判るであうろう。
この配列において、カラー62および板60は
ねじ80により分配板22に分離可能に連結され
ている。チユーブ52,54,56および58は
板22の常置部分として形成される。そうではな
くて、全ローター構体がワンピースとして作られ
てもよいし、あるいはその他の部分が分配板22
に永久的に連結されあるいは分離自在に連結され
てもよい。板22が、所望ならば、平坦ではなく
て円錐形であつてもよいことは当業者には明らか
であろう。
単一の触媒分配円板またはローターが多数の流
路を含み、その各々の流路が容器10の全円周面
積を横切つてわずかであるが互いにほぼ相等しい
幅の、同心の環状リングを横置するように配列さ
れているので、できれば前記ローターは定速度で
回転されることが好ましい。前記の速度は、前記
ローターが容器の全横面積を覆つて触媒を投げる
ように、床の直径により決定される一定の値に調
整される。一度調節された後には、その速度は支
持体18から床16の頂部まで各の床の完全な詰
込みの間実質上一定に維持される。深さ全体にわ
たる床のこのように一様な横置の結果として、
個々の床内へまたは容器全体にわたつて装入され
ることのできる全触媒の容積の密度が増大される
ことになる。実際において、回転自在な円板の変
化する速度を用いて先行技術のCOP装入方法に
比して、容器の既知の容積内に装入されることの
できる触媒の全重量により決定されるような、約
10%の密度の増大が判明されている。容器を通り
抜ける炭化水素給送量の転化率が触媒のこのよう
な全容積に左右されるので、本発明は同じ生産物
の生産高に関し、反応器を通る炭化水素の高い給
送率かまたは同じ容積の容器における一定の給送
率での増大された炭化水素転化のいずれかを可能
ならしめる。これ等の条件の両方は触媒的転化の
ため炭化水素給送量を処理するのにきわめて望ま
しく且つこのような処理の際かなり金の節約を意
味する。
本発明の上記の実施例は大直径の反応器容器の
全横断面積を横切つての押出し成形触媒粒子の装
入に特に向けられている。だがその方法と装置と
はまた球形状またはヘレツト状の触媒またはたと
えばサイロ内の穀粒のごときその他の粒状の材料
の装入に適用可能である。硫黄吸収剤およびイオ
ン交換物質のごとき微粒子の形のその他の接触材
料もまたしばしば大直径容器内に装入される。本
発明は大直径容器内の固形の微粒子の床の全体に
わたり高密度を保証するためこのような設備に特
に有用である。
以上の説明から、上記装置および上記装置を作
動する方法における各種の変更および変化は当業
者には明らかであろう。また、このような全ての
変更または変化は添付の特許請求の範囲内に包含
されることが企図されている。
【図面の簡単な説明】
第1図は大直径の炭化水素反応器の一部断面に
よる立面図で、上記容器内に数枚の床の中の1つ
を形成するため多数の同心の触媒リングを横置す
るのに単ローター型分配器を用いる本発明の方法
を図解した図;第2図は第1図の矢印2−2の方
向に採られた断面による平面図で、触媒の微分子
の同心リングが本発明の単ローター型分配器によ
り投げ出し形成される態様を示した図;第3図は
第1図に図示されている第1の触媒分配器ロータ
ーの平面図で、第2図に図示されているような同
様な深さを有する触媒微粒子の多数の同心円を横
置するのに必要とされる半径方向の長さと弧のス
パンとの好ましい配列を特定的に示した図;第4
図は第3図のローターを4−4線に沿つて断面し
て矢印方向に見た断面による立面図で、ホツパー
給送チユーブから流れを上方の分配器板とロータ
ーにより担持された下方分配チヤンネルとに分割
するためのローターの円錐形部分の協同を図示し
た図;第5図はローター構体の下方部分を通り第
4図の5−5線に沿つて断面して矢印方向に見た
一部断面による平面図で、大直径容器の内方環状
リングを充填するのに特に有用である多重チユー
ブと分配孔への触媒の分配を図示した図;第6図
は第4図の6−6線に沿い矢印方向に見た下方分
配構体の平面図で、触媒の床の最内方部分を同時
に詰込むための下方の板による分配を特に示した
図;第7図は第1図から第6図までの図に示され
た全ローター構体の、各部を順次配列して示した
構成斜視図である。 10……大直径の触媒反応器容器;12……触
媒装入装置;14……同心リング;16……床;
18……支持構造体またはスクリン;20……分
配ローター部材;22……板;24……扇形体;
26……リブ;28……給送チユーブ;30……
軸線;32……軸;34……ハブ;36……打込
みピン;38……ホツパ;40……供給チユー
ブ;42……給送ホツパ;44……マンウエイ;
46……上方のフランジ;48……モーター;5
0……電気ケーブル;52,54,56および5
8……チヤンネル;60……板;62……下方の
カラー;64……ねじ山を切られたスタツド;6
6……ナツト;68……フランジ;70……半径
方向の棒;72……導口;76……オリフイス;
84……方形開口;86……截頭円錐形の円板;
87……内方端縁;88……室;90……開口。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 触媒の粒子を大直径の容器内の床の全横断面
    積に渡つて実質上一様な密度で上記容器内に装入
    する方法にして、 該容器の中心と実質上同心の軸線の周りを回転
    している単一の円板上に触媒粒子を送給すること
    と、 前記単一の回転円板の回転軸線に共有の頂点を
    有する多数の弓形状扇形体であつて、各々の扇形
    体が、前記床上に配置される触媒粒子のなす多数
    の同心リングのうちの対応するリングの面積に比
    例した半径方向の長さと該扇形体の隣り合う辺に
    よつて形成される開先角度とを有し、また上記円
    板上の前記弓形状の扇形体が互いに異なる半径を
    有して成る多数の弓形状扇形体内へ前記送給され
    た触媒粒子を半径方向に分配することと、 前記多数の半径方向および弓形状の流路の各々
    が前記多数の同心の環状リングを横置して、上記
    床の表面の横断面積を一様な深さの前記触媒の粒
    子で覆うように前記円板を一様に回転することと
    を含む方法。 2 特許請求の範囲第1項記載の方法において、
    送給される触媒粒子は、各々が前記弓形状の扇形
    体より短い半径方向の長さを有して前記回転円板
    により担持された多数の流れチヤンネルへ同時に
    導かれることを特徴とする方法。 3 触媒の粒子を供給ホツパから大直径の反応器
    の一面に半径方向に一様に分配するための触媒装
    入装置であつて、 触媒分配器円板の直ぐ上方に位置決めされて、
    これと実質上同軸をなした給送チユーブ装置を含
    んで、触媒の粒子を前記分配表面に供給するため
    反応器容器により支持可能であるホツパ装置と、 前記反応器容器内で回転自在であり且つ前記反
    応器の床より上方に支持されるようにされた前記
    円板と、 触媒を前記円板へ吐き出すためホツパ給送チユ
    ーブの軸線と実質上同軸をなして延びた駆動装置
    と、 前記駆動軸装置に垂直をなして前記円板を回転
    自在に支持するための装置とを含む触媒装入装置
    において、 前記円板の前記分配表面を多数の弓形状扇形体
    に分割するための装置を含み、各々の扇形体が前
    記円板部材の中心に共有の頂点を有し、また各々
    の扇形体が隣接の扇形体とは異なつた半径を有
    し、前記分割装置の各々が前記分配表面から軸線
    方向に延びた前記扇形体の各々の相互間に1つの
    半径方向のリブ部材を含み、また各々の扇形体が
    前記反応器容器の床の表面上に触媒粒子により形
    成される環状リングの面積に比例した開先角を有
    していることを特徴とする触媒装入装置。 4 特許請求の範囲第3項記載の触媒装入装置に
    おいて、前記扇形体の各々が実質上同じ半径と開
    先角とを有している互いに直径的に対向した扇形
    体を含む触媒装入装置。 5 特許請求の範囲第3項記載の触媒装入装置に
    おいて、前記円板の前記分配表面が前記円板から
    上向きに且つ内方に延びた截頭円錐形表面を付加
    的に含み、前記円錐形表面が前記扇形体のいずれ
    もの半径より小さい半径を有する大基底部を有し
    またその小基底部の半径は前記給送チユーブ装置
    の半径より小さくされ、 また前記円板の前記触媒分配表面への触媒の吐
    き出し量を制御するように前記供給チユーブ装置
    からの前記吐き出し開口と前記截頭円錐形の表面
    との間の軸線方向の距離を調節するための装置が
    配備される触媒装入装置。 6 特許請求の範囲第5項記載の触媒装入装置に
    おいて、前記截頭円錐形の表面の前記小基底部の
    半径範囲と前記円板の囲まれた容積が触媒の分配
    のための区画を形成し且つ前記円板が多数のチヤ
    ンネル部材を含み、その各々が前記分配表面以下
    に形成されてこれと共に回転自在である前記扇形
    体とは異なつた半径を有し且つ他の多数の環状リ
    ングを覆つている前記床へ触媒を供給するため前
    記囲まれた容積から前記多数のチヤンネル部材ま
    で形成されている給送装置を有する触媒装入装
    置。 7 触媒の粒子を大直径の容器内に前記容器内の
    床を横切り実質上一様な高い密度で装入する方法
    にして、 実質上円柱体をなして重力により降下している
    触媒の粒子を円柱体の外側部分により形成されて
    いる環状の柱体と、小直径の内側円柱体とに先ず
    分割することと、 前記円柱体と実質上同心をなした軸線の周りに
    回転している単一の円板上へ前記環状柱体の向き
    をそらせることと、 前記環状の柱体からの粒子を、各々が前記容器
    の床上に配置される触媒粒子により形成される環
    状リングの面積に比例した容積を有する前記単一
    の回転円板上の多数の弓形状扇形体で前記容積が
    前記弓形状の扇形体の半径方向の長さと前記円板
    状の前記扇形体の隣り合う辺によつて形成される
    開先角度とにより形成され、各々の隣接した弓形
    状の扇形体が互いに異なる半径を有するような複
    数の弓形状扇形体に半径方向に分割することと、 前記内側円柱体を前記柱体に実質上垂直をなし
    た多数の弓形状分離流路に分割し、前記多数の流
    路が互いに異なる半径方向の長さを有し且つ前記
    単一の円板と共に回転自在でありまた各々の流路
    が前記円板により形成された前記弓形状扇形体の
    中のいずれものの半径よりも短くされることと、 前記多数の半径方向で且つ弓形状の流路の且々
    が前記容器の全直径を横切り一様な深さと実質上
    同じ平均密度とを有する触媒の床で前記容器の表
    面横断面積を実質上覆うため互いに直径を異にす
    る多数の同心の環状リングを横置するように前記
    円板を一様に回転することから成る方法。
JP60273607A 1984-12-07 1985-12-06 微粒子材料を容器内に装入する方法と装置 Granted JPS61141923A (ja)

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