JPH0470756A - 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液 - Google Patents

感光性平版印刷版の現像方法及び現像液

Info

Publication number
JPH0470756A
JPH0470756A JP2183369A JP18336990A JPH0470756A JP H0470756 A JPH0470756 A JP H0470756A JP 2183369 A JP2183369 A JP 2183369A JP 18336990 A JP18336990 A JP 18336990A JP H0470756 A JPH0470756 A JP H0470756A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
weight
group
parts
corrosion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2183369A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiro Shimura
志村 和弘
Masabumi Uehara
正文 上原
Akira Nogami
野上 彰
Shinya Watanabe
真也 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=16134565&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0470756(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2183369A priority Critical patent/JPH0470756A/ja
Priority to DE69128378T priority patent/DE69128378T2/de
Priority to EP91111335A priority patent/EP0466071B1/en
Priority to US07/727,110 priority patent/US5234796A/en
Publication of JPH0470756A publication Critical patent/JPH0470756A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版の現像方法及び現像液に関す
る。
〔従来の技術〕
従来、感光性平版印刷版は支持体としてアルミニウム板
を使用するのか一般的であり、現像液も高いpH値のア
ルカリ性現像液が使用されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このため、感光層が除去された部分のアルミニウム板の
表面が腐食され、親水性が損なわれ、印刷時に汚れやす
くなる。また、腐食によりスラッジが発生し、自動現像
機の汚れ及び現像処理される版へのスラッジの付着の原
因となる。そして、この現象はケイ酸塩の含有量が5i
n2に換算して1.0重量%以下と少なく、かつpHが
12.5以上の場合に特に顕著に現れる。
アルカリ性現像液によるアルミニウム支持体の腐食対策
技術として、特開昭58−59444号にはメタケイ酸
ナトリウムと無機リチウム化合物を含有するアルカリ性
現像液が開示されている。また、特開昭55−2SiO
0号には、周期律表第1[a、I[[a、mb族の元素
のイオン化可能な化合物を現像液に添加する技術が開示
されているが、ともに腐食防止効果が不充分である。
従って、本発明の目的は、ケイ酸塩の含有量(SiOz
換算)が少なく、かつpHの高い現像液による感光性平
版印刷版の溶出現像処理において、アルミニウム支持体
の腐食が防止され、非画像部の親水性が保たれ、アルミ
ニウム支持体の腐食によるスラッジの発生が改善される
感光性平版印刷版の現像方法及び現像液を提供すること
である。
〔問題点を解決するための手段〕
上記本発明の目的は、感光性平版印刷版を画像露光した
後、ケイ酸塩の含有量がSin、に換算して1.0重量
%以下であり、pHが12.5以上である現像液で現像
処理する方法において、該現像液に下記一般式(1)で
示されるアミンの少なくとも1種を0.1〜10重量%
含有させ、かつ該現像液のpHを12−5以上とするこ
とを特徴とする感光性平版印刷版の現像方法、並びにケ
イ酸塩を5i02に換算して1.0重量%以下及び下記
一般式(1)で示されるアミンの少なくとも1種を0.
1〜10重量%含有し、かつpHが12.5〜13.5
であることを特徴とする感光性平版印刷版用現像液によ
って達成される。
一般式〔l) R,−NCR2)−J−OH 〔式中、R1及びR2は各々水素原子、−c2H4OH
基又は−〇、H4OH基を表し、Jは−C2H,−基又
は−C,H,−基を表す。〕 以下本発明について詳述する。
本発明に係る現像液が含有する前記一般式〔1〕で示さ
れるアルカノールアミンは、好ましくはモノエタノール
アミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、
モノプロパツールアミン、ジブロバノールアミン、トリ
プロパツールアミン等であり、特にトリエタノールアミ
ンが好ましい。
一般式(1)で示される化合物は、含有量が0.1重量
%未満ではアルミニウム腐食防止効果が少なく、一方1
0重量%を越えると感光性平版印刷版の特にポジ型の版
の画像として残るべき感光膜が膜減りしたり、製版作業
時にボールペンにより線を書くことがあるが、このボー
ルペンで書いた跡の現像時に本来ならば画像として残る
べき感光膜が欠落してしまう。
本発明に係る現像液において、ケイ酸塩の含有量はSi
n、に換算して1.0重量%以下であり、含有しなくて
もよい。ケイ酸塩としては、カリウム、ナトリウム又は
リチウムのアルカリ金属塩が好ましく、特カリウム塩が
好ましい。
本発明に係る現像液の効果はpHは12.5以上におい
て顕著であり、その上限は限定されないが、実用的には
pHの上限は通常13.5である。
本発明に係る現像液に用いるアルカリ剤とじては、ケイ
酸塩以外に、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン
酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第ニリン酸カリウ
ム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸アンモニウム
、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムなどのようす
無機アルカリ剤、モノ、ジ又はトリエタノールアミン及
び水酸化テトラアルキルのような有機アルカリ剤を併用
することができる。
本発明において、アルカリ剤としては水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、リン酸塩(例えば
、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸リチウム
等)又は炭酸塩(炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
リチウム等)を用いることが好ましい。
本発明に係る現像液は、上記成分以外に界面活性剤を含
有させることが好ましい。
該界面活性剤は、好ましくはアニオン界面活性剤、ノニ
オン界面活性剤及びカチオン界面活性剤から選ばれる少
なくとも1種である。
アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(Ca
−C2□)硫酸エステル塩類〔例えば、ラウリルアルコ
ールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコール
サルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサル
フェートのアンモニウム塩、rTeepol−81J 
 (商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムアルキル
サルフェートなど〕、脂肪族アルコールリン酸エステル
塩類(例えば、セチルアルコールリン酸エステルのナト
リウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例
えば、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シナ
フタリンジスルホン酸のナトリム塩、メタニトロベンゼ
ンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドの
スルホン酸塩類(例えば、c17Hx3CON (CH
2) CH,SO,Naなど)、二塩基性脂肪酸エステ
ルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウムスルホコハク
酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘ
キシルエステルなと゛)がある。これらの中で特にスル
ホン酸塩類が好適に用いられる。
ノニオン界面活性剤にはポリエチレングリコール型と多
価アルコール型であるが、どちらも使用できる。現像性
能の点からはポリエチレングリコール型のノニオン界面
活性剤が好ましく、その中でもエチレンオキン基(−C
H2CH20−)を3以上有し、かつHLB値(HLB
はHydrophile−LipophileBala
nceの略)が5以上(より好ましくは8〜20)のノ
ニオン界面活性剤がより好ましい。
また、ノニオン界面活性剤のうち、エチレンオキン基と
プロピレンオキン基の両者を有するものが特に好ましく
、そのなかでHLB値が8以上のものがより好ましい。
ノニオン界面活性剤の好ましい例として下記−般式〔1
〕〜〔8〕で表される化合物が挙げられる。
CI )  R−0−(CH,C)1.0)nH〔2〕
Rて>O(C12CJ(20)nH(3)   R−0
−(CH2CH2)m −(C)l、CH20)nH(
7)  u(ocJ4)y  (OCJa)x\/(C
JsO)X  (C,H,0)yH〔l〕〜〔8〕式に
おいて、 Rは水素原子又は 1価の有機基を表す。該有機基としては、例えば直鎖も
しくは分岐の炭素数1〜3oの、置換基(例えばアリー
ル基(フェニル等))を有していてもよいアルキル基、
アルキル部分が上記アルキル基であるアルキルカルボニ
ル基、置換基(例えばヒドロキンル基、上記のようなア
ルキル基等)を有していてもよいフェニル基等が挙げら
れるaalb%C% m% n、x及びyは各々1〜4
oの整数を表す。
次に、ノニオン界面活性剤の具体例を示す。
ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオ
キンエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステ
アリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル
、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンセチルエーテル、ポリオキ
ンエチレンポリオキシプロピレンベヘニルエーテル、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルオキシエチレ
ンオクチルフェニルエーテル、ホリオキンエチレンステ
アリルアミン、ポリオキ、エチレンオレイルアミン、ポ
リオキンエチレンステアリン酸アミド、ポリオキ/エチ
レンオレイン酸アミド、ポリオキンエチレンヒマン油、
ポリオキンエチレンアヒ゛エチルエーテル、ポリオキン
エチレンラノリンエーテル、ポリオキンエチレンモノラ
ウレート、ポリオキ/エチレンモノステアレー−、l−
、ポリオキ/エチレングリセリルモノオレート、ポリオ
キンエチレングリセルモノステアレート、ポリオキ/エ
チレンプロピレングリコールモノステアレート、オキ/
エチレンオキ/プロピレンブロックポリマー ジスチレ
ン化フェノールポリエチレンオキント付加物、トリベン
ジルフェノールポリエチレンオキノド付加物、オクチル
フェノールポリオキ/エチレンポリオキンプロピレン付
加物、グリセロールモノステアレート、ソルビタンモノ
ラウレート、ポリオキンエチレンソルビタンモノラウレ
ート等。
ノニオン界面活性剤の重量平均分子量は300〜100
00の範囲が好ましく、500〜5000の範囲が特に
好ましい。ノニオン型界面活性剤は1種を単独で含有さ
せても、又2種以上を併用してもよい。
カチオン界面活性剤はアミン型と第四アンモニウム塩型
に大別されるが、これらの何れをも用いることができる
アミン型の例としては、ポリオキンエチレンアルキルア
ミン、N−アルキルプロピレンアミン、Nアルキルポリ
エチレンポリアミン、N−アルキルポリエチレンポリア
ミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニド、長鎖アミン
オキノド、アルキルイミダシリン、■−ヒドロキ/エチ
ルー2−アルキルイミダシリン、■−アセチルアミノエ
チルー2−アルキルイミダゾリ′ン、2−アルキル−4
−メチル−4−ヒドロキノメチルオキサゾリン等がある
また、第四アンモニウム塩型の例としては、長鎖第1ア
ミン塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキ
ルジメチルエチルアンモニウム塩、アルキルジメチルア
ンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルキノリニウム塩
、アルキルイソキノリニウム塩、アルキルピリジニウム
硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウム塩、アンルア
ミノエチルジエチルアミン塩、アンルアミノエチルメチ
ルジエチルアンモニウム塩、アルキルアミドプロピルジ
メチルベンジルアンモニウム塩、を肪酸ポリエチレンポ
リアミド、アンルアミノエチルピリジニウム塩、アノル
コラミノポルミルメチルピリジニウム塩、ステアロオキ
シメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタノールアミン
、脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、トリオキンエチ
レン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸ジブチルアミ
ノエタノール、セチルオキンメチルピリジニウム塩、p
−インオクチルフェノキンエトキンエチルジメチルベン
ジルアンモニウム塩等がある。(上記化合物の例の中の
 「アルキル」とは炭素数6〜20の、直鎖または一部
置換されたアルキルを示し、具体的には、ヘキ/ル、オ
クチル、セチノヘ ステアリル等の直鎖アルキルが好ま
しく用いられる。)これらの中では、特に水溶性の第四
アンモニウム塩型のカチオン界面活性剤が有効で、その
中でも、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキル
ジメチルベンジルアンモニウム塩、エチレンオキンド付
加アンモニウム塩等が好適である。また、カチオン成分
をくり返し単位として有する重合体も広い意味ではカチ
オン界面活性剤であり、本発明のカチオン界面活性剤に
金色される。特に、親油性七ツマ−と共重合して得られ
I;第四アンモニウム塩を含む重合体は好適に用いるこ
とができる。
該重合体の重量平均分子量は300〜50000の範囲
であり、特に好ましくは500〜5000の範囲である
これらのカチオン界面活性剤は単独で使用するほか、2
種以上を併用してもよい。
界面活性剤は現像液に0.01〜10重量%の範囲で含
をさせるのが好ましい。
本発明に係る現像液には、有機溶剤、無機還元剤、キレ
ート剤等を添加することができる。
有機溶媒としては20℃おける水に対する溶解度が10
重量%以下のもの、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブ
チルアセート、乳酸ブチル、しプリン酸ブチルのような
カルボン酸エステル:エチルブチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類;エ
チレングリコールモツプチルエーテル、エチレングリコ
ールベンシルエーテル ルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカル
ビノール、n−アミルアルコール、メチルアミンアルコ
ールのようなアルコール類:キンレンのようなアルキル
置換芳香族炭化水素,メチレンジクロライド、エチレン
ジクロライド、モノクロベンゼンのような!・ロゲン化
炭化水素などがある。これらの有機溶媒は一種以上を用
いてもよu”。
有機溶剤の現像液中の含有量は少なくとも0605〜1
0重量%の範囲が可能である。
無機の還元剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウ
ム、亜硫酸水素カリウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリ
ウム、亜リン酸カリウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜
リン酸水素カリウム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜硫
酸水素カリウム等のリン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナ
トリウム、亜/゛チオン酸ナトリウム等を挙げることが
できる。
還元剤は現像液中に少なくとも0.1〜20重量%の範
囲で含有させることができる。
キレート剤としては、特開昭58−75152号公報記
載のEDTA, NTA等のキレート剤が挙げられる。
本発明の現像液組成物には前記の他に以下のような添加
剤を加えることかできる。例えば特開昭58−7515
2号公報記載のNaCQ. KCQ, KBr等の中性
塩、特開昭59−121336号公報記載の(Co(N
H+))aCL等の錯体、特開昭56−142528号
公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロ
ライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分
子電解質、特開昭58−59444号公報記載の塩化リ
チウム等の無機リチウム化合物、特公昭50−3444
2号公報記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合
物、特開昭59−75255号公報記載のSi. Ti
等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241
号公報記載の有機硼素化合物、特開昭63−18814
2号公報記載の有機カルボン酸等が挙げられる。
本発明方法において、現像温度は20〜40°Cの範囲
が好ましく、現像時間は5〜40秒の範囲が好ましい。
本発明が適用される感光性平版印刷版は、アルカリ性の
現像液で溶出現像し、アルミニウム支持体の腐食を生じ
る可能性のあるものであり、例えば、感光性成分として
0−キノンジアジド化合物を用いた感光性層、あるいは
感光性成分としてジアゾ化合物を用いた感光性層を陽極
酸化処理を施したアルミニウム支持体上に設けた感光性
平版印刷版、さらに具体的には、特開昭62−1757
57号公報第5左下欄第18行〜第7頁右上欄第11行
に記載されているような感光性平版印刷版が包含され、
また、陽極酸化処理を施したアルミニウム支持体上に光
導電体層を設け、該層上にトナー画像を形成の後、非画
像部の光導電体層をアルカリ性現像液で溶出現像するタ
イプの感光性平版印刷版が包含される。
〔実施例〕 以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明する
実施例1 自動現像機PSK−910 (コニカ(株)製)に下記
現像液Aをセントし、PS版SHP−N (コニカ(株
)製、サイズ1003mmX 800mm)にポジ用フ
ィルムを密着して2kWメタルハライドランプを光源と
して8、0kW/m”の条件で70cmの距離から60
秒間露光を行った。このようにして100版の感光性平
版印刷版を27°C、20秒で現像処理した。
現像液A 水                 88.25重量
部安息香酸           1.03重量部ノニ
オン界面活性剤 (エマルゲン147、花王(株)製’I  O.04重
量部Aケイ酸カリウム(SiOz:27%、K2O:1
3.5%)2、58重量部 炭酸カリウム         1.03重量部50%
KOH水溶液         3.07重量部ジェタ
ノールアミン      3.00重量部Sin、濃度
: 0.697重量%     pH: 12.89実
施例2 第1図番こ示す自動現像機で下記現像液Bを用いて実施
例1と同様の実験を行った。第1図におけるポンプ5b
と50の送液量は濃厚現像液が希釈水で6倍に希釈され
るように設定した。
現像液B(濃厚液) 水                 21.64重量
部β−アニリノエタノール     0.30重量部プ
ロピレングリコール     2,52重量部p−t−
ブチル安息香酸      7.80重量部50%KO
821,4811i量部 エマルゲン147        0.24重量部Aケ
イ酸カリウム       18.60重量部亜硫酸カ
リウム        15.42重量部トリエタノー
ルアミン     12.00重量部6倍希釈液(使用
液)のSiO□濃度: 0.837重量%pH:13.
o。
実施例3 第2図に示す自動現像機で下記現像液Cを用いて実施例
1と同様の実験を行った。
現像液C 水                88.42重量部
β−アニリノエタノール     0,02重量部プロ
ピレングリコール     2.00重量部p−t−ブ
チル安息香酸      1.08重量部50%KOH
水溶液        2.33重量部エマルゲン14
7       、 0.04重量部Aケイ酸カリウム
       2.01重量部亜硫酸カリウム    
    2,10重量部トリエタノールアミン    
 2.00重量部SiO2濃度+ 0.543重量% 
    pH:12.90比較例1 現像液Aの代わりに下記現像液りを用u” i 1m力
)は実施例1と同様の実験を行った。
現像液り 水                91.25重量部
安息香酸           1.03重量部エマル
ゲン147        0.04重量部Aケイ酸カ
リウム       2.58重量部炭酸カリウム 50%KOH水溶液 SiO□濃度: 0.697重量% 比較例2 現像液Bの代わりに下記現像液E は実施例2と同様の実験を行った。
現像液E(濃厚液) 水 β−アニリノエタノール プロピレングリコール p−t−ブチル安息香酸 50%KOH エマルゲン147 Aケイ酸カリウム 亜硫酸カリウム 6倍希釈液(使用液)のSin2濃度:1.03重量部 3.07重量部 pH:12.90 を用いI;ほか 33.64重量部 0.30重量部 2.52重量部 7.80重量部 21.48重量部 0゜24重量部 18.60重量部 15.42重量部 0.837重量% pH:13.01 比較例3 現像液Cの代わりに下記現像液Fを用いたほかは実施例
3と同様の実験を行った。
現像液F 水                 90.42重量
部β−アニリノエタノール     0.02重量部プ
ロピレングリコール     2.00重量部p−t−
ブチル安息香酸      1608重量部50%KO
H2,33重量部 エマルゲン147        0.04重量部Aケ
イ酸カリウム       2.01重量部亜硫酸カリ
ウム        2.10重量部SiO2濃度+ 
0.543重量%     pH:12.92実施例1
〜3及び比較例4〜6の各実験に使用されt;各現像液
中の腐食によって溶出したAt量を測定した。測定法は
WDXによりAt蛍光X線を測定し、検量線を作成して
求めt;。また、上記各現像液をlO日間lQのサンプ
ル瓶に入れ密閉状態で保存した後の析出物の量を目視判
定した。これらの析出物の欄の記号の意味 ○・・・回収した疲労液タンクの底に析出物力(全くな
い。
△・・・回収した疲労液タンクの底に析出物がうつすら
とある。
×・・・回収しI;疲労液タンクの底に析出物力ζ多量
にある。
0ΔはOと△との中間、Δ×は△と×との中間を意味す
る。
表1から、本発明の一般式〔1〕で示されるアミン化合
物を含有させた現像液中のAl量力く少なし1こと、及
び析出物が少ないことが分かる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、アルミニウム支持体を有する感光性平
版印刷版をケイ酸塩の含有量(SiO2換算)が少なく
、かつ高pHのアルカリ性現像液で現像する場合のアル
ミニウム支持体の腐食が減少し、それによる現像液中の
スラツジの発生が減少する。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例及び比較例に使用した自動現像機の概略
構成図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光性平版印刷版を画像露光した後、ケイ酸塩の
    含有量がSiO_2に換算して1.0重量%以下であり
    、pHが12.5以上の現像液で現像処理する方法にお
    いて、該現像液に下記一般式〔1〕で示されるアミンの
    少なくとも1種を0.1〜10重量%含有させることを
    特徴とする感光性平版印刷版の現像方法。 一般式〔1〕 R_1−N(R_2)−J−OH 〔式中、R_1及びR_2は各々水素原子、−C_2H
    _4OH基又は−C_3H_6OH基を表し、Jは−C
    _2H_4−基又は−C_3H_6−基を表す。〕
  2. (2)ケイ酸塩をSiO_2に換算して1.0重量%以
    下と、下記一般式〔1〕で示されるアミンの少なくとも
    1種を0.1〜10重量%含有し、かつpHが12.5
    〜13.5であることを特徴とする感光性平版印刷版用
    現像液。 一般式〔1〕 R_1−N(R_2)−J−OH 〔式中、R_1及びR_2は各々水素原子、−C_2H
    _4OH基又は−C_3H_5OH基を表し、Jは−C
    _2H_4−基又は−C_3H_6−基を表す。〕
JP2183369A 1990-07-11 1990-07-11 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液 Pending JPH0470756A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2183369A JPH0470756A (ja) 1990-07-11 1990-07-11 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液
DE69128378T DE69128378T2 (de) 1990-07-11 1991-07-08 Verfahren zum Entwickeln von Offsetdruckplatten sowie Entwicklungslösung dafür
EP91111335A EP0466071B1 (en) 1990-07-11 1991-07-08 Method of developing presensitized offset printing plates and developing solution used in that method
US07/727,110 US5234796A (en) 1990-07-11 1991-07-09 Method of developing presensitized offset printing plates and developing solution used in that method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2183369A JPH0470756A (ja) 1990-07-11 1990-07-11 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0470756A true JPH0470756A (ja) 1992-03-05

Family

ID=16134565

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2183369A Pending JPH0470756A (ja) 1990-07-11 1990-07-11 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5234796A (ja)
EP (1) EP0466071B1 (ja)
JP (1) JPH0470756A (ja)
DE (1) DE69128378T2 (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NZ247942A (en) * 1992-06-29 1994-08-26 Grace W R & Co Composition comprising aqueous-processable polymer binder and a non-migrating surface active agent and its use as a slip film in a photo-curable element; manufacture of printing reliefs
US5308745A (en) * 1992-11-06 1994-05-03 J. T. Baker Inc. Alkaline-containing photoresist stripping compositions producing reduced metal corrosion with cross-linked or hardened resist resins
DE69416564T2 (de) * 1993-04-28 1999-07-15 Toray Industries Positiv arbeitender elektronenstrahlresist
EP0732628A1 (en) 1995-03-07 1996-09-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate
US5766826A (en) * 1996-10-11 1998-06-16 Eastman Kodak Company Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US5897985A (en) * 1996-10-11 1999-04-27 Kodak Polychrome Graphics, Llc Potassium silicate developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US5811221A (en) * 1997-05-30 1998-09-22 Kodak Polychrome Graphics, Llc Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
US5853963A (en) * 1997-08-11 1998-12-29 Applied Chemical Technologies, Inc. Life extension of photoresist developer solutions
KR100573560B1 (ko) * 1997-10-30 2006-08-30 가오가부시끼가이샤 레지스트용현상액
JPH11249322A (ja) * 1998-03-05 1999-09-17 Jsr Corp 感放射線性組成物用アルカリ性現像液
KR20010013818A (ko) * 1998-04-15 2001-02-26 게스레이 마크 포토레지스트 현상액 및 현상 방법
DE60236006D1 (de) * 2001-06-28 2010-05-27 Alonim Holding Agricultural Co Verfahren zum anodisieren von magnesium und magnesiumlegierungen und zur herstellung von leitfähigen schichten auf einer anodisierten oberfläche
JP4230130B2 (ja) * 2001-07-04 2009-02-25 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法
JP2005049542A (ja) 2003-07-31 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法及び現像液
CN100476597C (zh) * 2003-12-30 2009-04-08 东友精密化学株式会社 感放射线性组合物用低泡沫显影液
US20080299491A1 (en) * 2007-05-31 2008-12-04 Miller Gary R Highly alkaline developer composition and methods of use
US7883833B2 (en) 2007-06-20 2011-02-08 Eastman Kodak Company Use of highly alkaline developer regenerator composition
US20140083322A1 (en) * 2012-09-24 2014-03-27 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Method of removing impurities from plating liquid
US20150018262A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 Zep Ip Holding Llc Aluminum-Safe Surface Presoak Cleaner and Process
JP2019038192A (ja) * 2017-08-25 2019-03-14 花王株式会社 三次元物体前駆体処理剤組成物

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3140186A1 (de) * 1981-10-09 1983-04-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten
DE3230171A1 (de) * 1982-08-13 1984-02-16 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Waessrig-alkalische loesung und verfahren zum entwickeln von positiv-arbeitenden reproduktionsschichten
JPS62159148A (ja) * 1986-01-07 1987-07-15 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性平版印刷版用現像液組成物および現像方法
DE3800359A1 (de) * 1987-01-08 1988-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
DE3884825D1 (de) * 1987-02-16 1993-11-18 Konishiroku Photo Ind Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gemeinschaftlich verarbeitungsfähig für den Negativ-Typ und den Positiv-Typ und Entwicklerzusammensetzung für lichtempfindliches Material.

Also Published As

Publication number Publication date
DE69128378T2 (de) 1998-05-28
EP0466071A2 (en) 1992-01-15
EP0466071B1 (en) 1997-12-10
US5234796A (en) 1993-08-10
DE69128378D1 (de) 1998-01-22
EP0466071A3 (en) 1992-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0470756A (ja) 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液
EP0080042B1 (en) Method for the development of photoresist layers, and developer
US5106724A (en) Developer for light-sensitive lithographic printing plate capable of processing commonly the negative-type and the positive-type and developer composition for light-sensitive material
JPH08262742A (ja) オフセット印刷版現像用アルカリ性水溶液
US6143479A (en) Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates
US4945030A (en) Method for developing lithographic plates comprising a developer comprising ethylene oxide/propylene oxide block copolymers
GB2123162A (en) Developing solution for light-sensitive printing plates
US4379830A (en) Developer for positive photolithographic articles
US6391530B1 (en) Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors
US3891438A (en) Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
EP0405986A2 (en) method of processing presensitized lithographic printing plate
US20070196776A1 (en) Stable High Ph Developer
JPS63202742A (ja) 有機溶剤不含の現像剤組成物及び写真素子を処理する方法
US5278030A (en) Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
FI97573B (fi) Säteilylle herkkien koostumusten kehittäminen
JPH08234448A (ja) 感光性平版印刷版の現像方法
JP2881484B2 (ja) 感光性平版印刷版用現像液
JPH04287046A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
EP1204003B1 (en) Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors
JPH0391750A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JPH03155552A (ja) 感光性平版印刷版の現像処理方法
JPH08202047A (ja) 感光性平版印刷版用現像液または現像補充液の調液方法および希釈方法
JPH04163554A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JP3016988B2 (ja) ハロゲン化銀感光材料用処理液
JPH07113777B2 (ja) 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法