JPH046559A - Method for measuring transmittance of pellicle - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ペリクルが装着されたフォトマスクにおいて
、ペリクルの透過率を測定する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for measuring the transmittance of a pellicle in a photomask equipped with a pellicle.
［従来の技術］
半導体装置製造などのフォトエツチング工程で使用され
るフォトマスクには、前記フォトマスク上の異物が投影
露光時に転写され、パターン不良を引き起こすことを防
止するために、一般的にペリクルが装着されている。[Prior Art] Photomasks used in photoetching processes such as semiconductor device manufacturing generally include a pellicle to prevent foreign matter on the photomask from being transferred during projection exposure and causing pattern defects. is installed.
第５図は、ペリクルが装着されたフォトマスクを示す図
である。ペリクル（５３）は、ニトロセルロースに代表
される透明薄膜からなり、アルミ合金などからなるペリ
クル枠（５２）を介して、フォトマスク（５１）から−
定の距離をおいて、前記フォトマスク（５１）上のパタ
ーン部を覆って固定される。前記ペリクル（５３）は、
露光や異物検査の際に光束を透過し徐々に劣化していく
。最近、高性能なｉ線専用ペリクルやｇ、ｉ共用ペリク
ル等が実用化されているが、特にｉ線縮小露光装置を用
いる場合、現在主流のｇ！！！縮小露光装置に比ベペリ
クルの劣化が激しい。ペリクルの劣化が激しくなると、
その部分におけるペリクルの透過率が低下し、異物検査
装置での異物検出能力の低下や縮小露光装置での照度低
下などにつながるために管理する必要がある。FIG. 5 is a diagram showing a photomask equipped with a pellicle. The pellicle (53) is made of a transparent thin film typified by nitrocellulose, and the pellicle (53) is made of a transparent thin film such as nitrocellulose.
The photomask (51) is fixed at a certain distance so as to cover the pattern portion on the photomask (51). The pellicle (53) is
During exposure and inspection for foreign objects, light passes through and gradually deteriorates. Recently, high-performance i-line only pellicles, g and i shared pellicles, etc. have been put into practical use, but especially when using i-line reduction exposure equipment, the current mainstream g! ! ! Pellicle deterioration is severe compared to reduction exposure equipment. When the deterioration of the pellicle becomes severe,
The transmittance of the pellicle in that area decreases, which leads to a decrease in the foreign particle detection ability of the foreign particle inspection device and a decrease in the illuminance of the reduction exposure device, so management is necessary.
第４図は、従来の反射板を装着したフォトマスクの概略
図である。FIG. 4 is a schematic diagram of a photomask equipped with a conventional reflector.
ペリクル（４１）は、まず、ペリクル枠（４３）に接着
され、更に、このペリクル枠（４３）がフォトマスク（
４４）に接着剤を介して接着固定されている。ここで反
射板（４５）を露光部分に設けることができないので、
このペリクルとペリクル枠に覆われる領域のパターニン
グされた領域（４２）の外側にペリクル（４１）の透過
率測定用の反射板（４５）が装着されている。The pellicle (41) is first glued to the pellicle frame (43), and then this pellicle frame (43) is attached to a photomask (
44) with an adhesive. Here, since the reflective plate (45) cannot be provided in the exposed area,
A reflection plate (45) for measuring the transmittance of the pellicle (41) is mounted outside the patterned area (42) of the area covered by the pellicle and the pellicle frame.
ペリクルの透過率測定方法は、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（波
長： ６３２．８ｎｍ）の入射光（４６）がペリクル（
４１）の非露光部を透過し、反射板（４５）によって反
射され、再びペリクル（４１）の非露光部を透過し検出
器（４８）によって、反射光（４７）の強度を検出し、
入射光（４６）の強度、反射板（４５）での光の減衰を
考慮した上で算出される。具体的な透過率の算出方法は
以下の通りである。The method for measuring the transmittance of a pellicle is that the incident light (46) of a He-Ne laser (wavelength: 632.8 nm) passes through a pellicle (
41), is reflected by a reflector (45), passes through the non-exposed part of the pellicle (41) again, and is detected by a detector (48) for the intensity of the reflected light (47),
It is calculated in consideration of the intensity of the incident light (46) and the attenuation of the light at the reflection plate (45). A specific method for calculating transmittance is as follows.
Ｉ ＊Ｔ ＋”Ｒ＝ Ｉ Ｒ・・・■■１：入射光の
強度、■、二反射光の強度Ｔ、：ペリクルの透過率、Ｒ
：反射板の反射率■の式においてＩ
（反射光の強度）は、
反射板の反射率）は、
おくことにより、Ｔ。I *T +”R= I R...■■1: Intensity of incident light, ■, Intensity of reflected light T,: Transmittance of pellicle, R
: In the formula for the reflectance of the reflector (■), I (intensity of reflected light) is: Reflectance of the reflector) is T by setting.
求めることができる。You can ask for it.
（入射光の強度）、■。(Intensity of incident light), ■.
測定により求め、Ｒ（
定数として予め求めて
（ペリクルの透過率）を
［発明が解決しようとする課題］
しかし、前述の従来方法では、以下のような課題を有す
る。[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned conventional method has the following problems.
ペリクルの透過率測定方法におい、て、その入射角度に
より実際には、投影露光や異物検査によって表面劣化し
ている部分の外側を測定している。透過率測定の必要性
は、ペリクルの表面劣化による透過率の変化を測定する
ことより投影露光や異物検査の時に最適な光束の強度補
正をするためにペリクルの露光部を直接測定する必要が
ある。In the pellicle transmittance measurement method, the incident angle actually measures the outside of the portion where the surface has deteriorated due to projection exposure or foreign matter inspection. The need for transmittance measurement is to measure the change in transmittance due to surface deterioration of the pellicle, and it is necessary to directly measure the exposed part of the pellicle in order to make the optimal intensity correction for the light flux during projection exposure and foreign object inspection. .
そこで本発明は、このような課題を解決するもので、そ
の目的とするところは、ふおとマスクに装着したペリク
ルの投影露光や異物検査により表面劣化される部分を直
接、透過率測定することにある。The present invention is intended to solve these problems, and its purpose is to directly measure the transmittance of the portion of the pellicle attached to the foot mask whose surface is degraded by projection exposure or foreign object inspection. It is in.
［課題を解決するための手段］
（１）ペリクルを装着したフォトマスクにおいて、ペリ
クルに覆われる領域にある、前記フォトマスクの少なく
とも１ケ所に反射板を設け、透過率を測定するための光
束をあるム定の角度で前記反射板へ入射し、その入射光
または、反射光の何れか一方を前記ペリクルの露光領域
を透過し、他の一方を露光領域外を通過させ、前記反射
板によって反射された前記光束のべυクル透過後の強度
を測定し、更に前記光束のペリクル入射前の強度と前記
反射板の反射率から前記ペリクルの露光領域の透過率を
算出することを特徴とする。[Means for Solving the Problems] (1) In a photomask equipped with a pellicle, a reflecting plate is provided at at least one location on the photomask in an area covered by the pellicle, and a light beam for measuring transmittance is provided. The light is incident on the reflector at a certain angle, and either the incident light or the reflected light is transmitted through the exposure area of the pellicle, and the other is passed outside the exposure area and reflected by the reflector. The present invention is characterized in that the intensity of the light beam transmitted through the pellicle is measured, and the transmittance of the exposed area of the pellicle is calculated from the intensity of the light beam before it enters the pellicle and the reflectance of the reflector.
（２）請求項１記載のペリクルの透過率測定方法におい
て、反射板にγ−Ａ１２０３の誘電体皮膜を用いた誘電
体ミラーを使用することを特徴とする。(2) A method for measuring transmittance of a pellicle according to claim 1, characterized in that a dielectric mirror using a dielectric film of γ-A1203 is used as a reflection plate.
（３）請求項１記載のペリクルの透過率測定方法におい
て、透過率を測定するための光束の入射角度を任意に変
化させることにより、入射光、反射光共に露光領域外の
ペリクルを透過する事により前記ペリクルの露光領域以
外の透過率を測定した後、入射光の入射角度を変化させ
、入射光または、反射光のどちらか一方を前記ペリクル
の露光領域を透過し、前記ペリクルの露光領域外の透過
率測定結果を基に、前記ペリクルの露光領域の透過率を
測定することを特徴とする。(3) In the method for measuring transmittance of a pellicle according to claim 1, by arbitrarily changing the incident angle of the light flux for measuring transmittance, both incident light and reflected light can be transmitted through the pellicle outside the exposure area. After measuring the transmittance outside the exposed area of the pellicle, the incident angle of the incident light is changed, and either the incident light or the reflected light is transmitted through the exposed area of the pellicle, and the transmittance outside the exposed area of the pellicle is measured. The method is characterized in that the transmittance of the exposed region of the pellicle is measured based on the transmittance measurement results of.
［実施例］
（１）第１図は、本発明測定方法の一実施例を示す図で
ある。[Example] (1) Fig. 1 is a diagram showing an example of the measuring method of the present invention.
従来技術と同様に、ペリクル（１１）は、ペリクル枠（
１３）に接着されており、更にこのペリクル枠（１３）
がフォトマスク（１４）に接着固定されている。このフ
ォトマスクのペリクルとペリクル枠に覆われる領域のパ
ターニングされている部分（１２）の外側に円形の反射
板が取り付けられている。この図において、実際に透過
率が問題になる領域は、露光や異物検査などで劣化の激
しいペリクル（１９）面である。つまり、劣化の激しい
ペリクル（１９）面の外側は露光や異物検査の際に問題
とならない。Similar to the prior art, the pellicle (11) has a pellicle frame (
13), and this pellicle frame (13)
is adhesively fixed to the photomask (14). A circular reflection plate is attached to the outside of the patterned portion (12) of the photomask in the area covered by the pellicle and pellicle frame. In this figure, the area where transmittance actually becomes a problem is the pellicle (19) surface, which is severely degraded during exposure, foreign matter inspection, and the like. In other words, the outside of the pellicle (19) surface, which is severely degraded, does not pose a problem during exposure or foreign matter inspection.
透過率測定用の１０μｍに絞られたＨｅ−Ｎｅレーザー
の入射光束（１６）図の様に斜めから入射し、反射板（
１５）によって反射させる。反射光（１７）は、投影露
光や異物検査で劣化したペリクル面（１９）を透過し検
出器（１８）で反射光の強度が検出される。The incident light beam of the He-Ne laser focused to 10 μm for transmittance measurement (16) is incident obliquely as shown in the figure, and the reflection plate (
15). The reflected light (17) passes through a pellicle surface (19) that has deteriorated due to projection exposure or foreign object inspection, and the intensity of the reflected light is detected by a detector (18).
このことにより、以下のような利点が得られる。This provides the following advantages.
第１図に示した測定方法により、入射光（１６）がある
一定角度から入射されるため、反射光は、本来、最も劣
化の激しいペリクル面（１９）を透過する。このため、
従来の測定方法によるペリクル（１１）の透過率を予め
測定しておき、それを定数とし、更に反射板（１５）で
の入射光束（１６）の減衰を考慮することにより、劣化
の激しいペリクル面（１９）の透過率を算出することが
できる。According to the measurement method shown in FIG. 1, since the incident light (16) is incident from a certain angle, the reflected light originally passes through the pellicle surface (19), which is the most degraded. For this reason,
By measuring the transmittance of the pellicle (11) in advance using the conventional measurement method, using it as a constant, and taking into account the attenuation of the incident light flux (16) at the reflector (15), it is possible to measure the pellicle surface, which is severely deteriorated. The transmittance of (19) can be calculated.
具体的な透過率の算出方法は、以下の通りである。A specific method for calculating transmittance is as follows.
Ｉ １本Ｔ Ｉ”Ｔ ２”Ｒ＝ Ｉ Ｒ・ ・ ・
■工１：入射光の強度、■Ｒ＝反射光の強度Ｔ、：露光
エリヤ外のペリクルの透過率Ｔ２：劣化の激しい露光エ
リヤのペリクルの透過率
Ｒ：反射板の反射率
■の式において１．（入射光の強度）、工。I 1 piece T I”T 2”R= I R・・・
■Work 1: Intensity of incident light, ■R=Intensity of reflected light T,: Transmittance of the pellicle outside the exposed area T2: Transmittance of the pellicle in the exposed area with severe deterioration R: Reflectance of the reflector plate ■In the formula: 1. (Intensity of incident light), Eng.
（反射光の強度）は、測定により求め、Ｒ（反射板の反
射率）は、定数として予め求めておく。また、Ｔ、（ペ
リクルの透過率）を従来技術により、測定しておけばＴ
２（劣化の激しい露光エリヤのペリクルの透過率）を算
出することができる。劣化の激しいペリクル面の透過率
を算出することにより、異物検査装置や縮小露光装置に
おいて、使用光源の最適な強度補正ができるためにより
安定した検査や露光をすることができる。(Intensity of reflected light) is determined by measurement, and R (reflectance of the reflector) is determined in advance as a constant. In addition, if T, (transmittance of the pellicle) is measured using conventional technology, then T
2 (the transmittance of the pellicle in the exposed area where the deterioration is severe) can be calculated. By calculating the transmittance of the pellicle surface, which is subject to severe deterioration, it is possible to perform optimal intensity correction of the light source used in a foreign object inspection device or a reduction exposure device, thereby enabling more stable inspection and exposure.
これとは、逆に第２図のように入射光束（２７）を劣化
の激しいペリクル面（２９）から入射し、反射光を露光
領域外のベリクール面（２１）を透過することによって
、劣化の激しいペリクル面の透過率を算出する方法によ
っても同様の効果が得られる。On the contrary, as shown in Figure 2, the incident light beam (27) enters from the pellicle surface (29) where the deterioration is severe, and the reflected light is transmitted through the pellicle surface (21) outside the exposure area, thereby reducing the deterioration. A similar effect can be obtained by calculating the intense transmittance of the pellicle surface.
（２）前述の実施例において、反射板にγ−Ａｌ、０３
の誘電体皮膜を用いることにより、反射板の反射率をほ
ぼ１００％にすることができるため、前述の０式でのＲ
（反射板の反射率を省略することができる。(2) In the above embodiment, γ-Al, 03
By using a dielectric film of , the reflectance of the reflector can be made almost 100%, so R
(The reflectance of the reflector can be omitted.
（３）第３図は、前述の本実施例において、１０μｍに
絞ったＨｅ−Ｎｅレーザーの入射光（３６）の入射角度
を任意に変化させることにより、まず露光領域外の劣化
していないペリクル面（３１）に入射光、反射光を透通
させ、透過率を従来の技術の０式ように算出し、そのペ
リクル（３１）の透過率を定数とした後に、入射光束（
３６）の入射角度を変化させ、露光などにより劣化の激
しいペリクル面（３９）に反射光束（３７）を透過させ
ることにより、前述の方法で算出した定数を０式に代入
することにより、より正確な劣化部分のペリクル（３９
）の透過率を算出することができる。(3) Figure 3 shows that in the above-mentioned embodiment, by arbitrarily changing the incident angle of the He-Ne laser incident light (36) focused to 10 μm, the undeteriorated pellicle outside the exposure area is first removed. Incident light and reflected light are transmitted through the surface (31), and the transmittance is calculated using the conventional formula 0. After setting the transmittance of the pellicle (31) as a constant, the incident light flux (
By changing the incident angle of 36) and transmitting the reflected light beam (37) through the pellicle surface (39), which is severely degraded by exposure, etc., the constant calculated using the method described above can be substituted into the equation 0, making it more accurate. The deteriorated part of the pellicle (39
) can be calculated.
以上、本発明の一実施例を述べたが、これ以外にも １）γ−ＡＬ２０２以外の誘電体被膜を用いる。One embodiment of the present invention has been described above, but there are other embodiments as well. 1) Use a dielectric film other than γ-AL202.
２）測定光に露光波長を用いる。2) Use the exposure wavelength for the measurement light.
３）反射板を複数個、設けることにより測定精度をあげ
る。3) Increase measurement accuracy by providing multiple reflectors.
４）実施例（３）とは逆に、劣化したペリクル面を透過
した反射光の強度を測定した後に、劣化していないペリ
クル面を測定して、劣化したペリクル面の透過率を測定
する。4) Contrary to Example (3), after measuring the intensity of the reflected light transmitted through the deteriorated pellicle surface, the undeteriorated pellicle surface is measured, and the transmittance of the deteriorated pellicle surface is measured.
などについても、本実施例と同様の利点が得られること
はいうまでもない。It goes without saying that the same advantages as in this embodiment can be obtained also with respect to the above.
［発明の効果］
以上のように本発明によれば、
（１）ペリクルを装着したフォトマスクにおいて、ペリ
クルに覆われる領域にある、前記フォトマスクの少なく
とも１ケ所に反射板を設け、透過率を測定するための光
束をある一定の角度で前記反射板へ入射し、その入射光
または、反射光の何れか一方を前記ペリクルの露光領域
を透過し、他の一方を露光領域外を通過させ、前記反射
板によって反射された前記光束のペリクル透過後の強度
を測定し、更に前記光束のペリクル入射前の強度と前記
反射板の反射率から前記ペリクルの露光領域の透過率を
算出する。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, (1) In a photomask equipped with a pellicle, a reflective plate is provided at at least one location on the photomask in an area covered by the pellicle, and the transmittance is increased. A light flux for measurement is incident on the reflector at a certain angle, either the incident light or the reflected light is transmitted through the exposure area of the pellicle, and the other is passed outside the exposure area, The intensity of the light beam reflected by the reflector after passing through the pellicle is measured, and the transmittance of the exposed area of the pellicle is calculated from the intensity of the light beam before it enters the pellicle and the reflectance of the reflector.
（２）請求項１記載のペリクルの透過率測定方法におい
て、反射板にγ−Ａ１２０３の誘電体皮膜を用いた誘電
体ミラーを使用する。(2) In the method for measuring transmittance of a pellicle according to claim 1, a dielectric mirror using a dielectric film of γ-A1203 is used as a reflection plate.
（３）請求項１記載のペリクルの透過率測定方法におい
て、透過率を測定するための光束の入射角度を任意に変
化させることにより、入射光、反射光共に露光領域外の
ペリクルを透過する事により前記ペリクルの露光領域以
外の透過率を測定した後、入射光の入射角度を変化させ
、入射光または、反射光のどちらか一方を前記ペリクル
の露光領域を透過し、前記ペリクルの露光領域外の透過
率測定結果を基に、前記ペリクルの露光領域の透過率を
測定することにより、
本来、投影露光装置や異物検査装置により、光束が透過
され、最も劣化が激しく透過率変化が大きいペリクル面
を直接測定することができるという効果を有するもので
ある。(3) In the method for measuring transmittance of a pellicle according to claim 1, by arbitrarily changing the incident angle of the light flux for measuring transmittance, both incident light and reflected light can be transmitted through the pellicle outside the exposure area. After measuring the transmittance outside the exposed area of the pellicle, the incident angle of the incident light is changed, and either the incident light or the reflected light is transmitted through the exposed area of the pellicle, and the transmittance outside the exposed area of the pellicle is measured. By measuring the transmittance of the exposed area of the pellicle based on the transmittance measurement results of This has the effect that it is possible to directly measure the
第１図、第２図、第３図は、本実施例の測定方法を用い
たペリクルを装着したフォトマスクの断面図である。
第４図は、従来技術の測定方法によるペリクルを装着し
たフォトマスクの断面図である。
第５図は、ペリクルを装着したフォトマスクの図である
。
ペリクル
クロムパターン面
ペリクル枠
フォトマスク
反射板
入射光束
反射光束
検出器
劣化の激しいペリクル面
２１ ・
２２ ・
２３ ・
２４ ・
２５ ・
２６ ・
２７ ・
２８ ・
２９ ・
３２ ・
３３ ・
３４ ・
３５ ・
３７ ・
３８ ・
３９ ・
４１ ・
４２ ・
・・ペリクル
・・クロムパターン面
・・ペリクル枠
・・フォトマスク
・・反射板
・・入射光束
・・反射光束
・・検出器
・・劣化の激しいペリクル面
・・ペリクル
・・クロムパターン面
・・ペリクル枠
・・フォトマスク
・反射板
・・入射光束
・・反射光束
・・検出器
・・劣化の激しいペリクル面
・・ペリクル
・・クロムパターン面
第 １ 図
４５ ・
４６ ・
４７ ・
４８ ・
５２ ・
５３ ・
・・ペリクル枠
・・フォトマスク
・反射板
・・入射光束
・・反射光束
・検出器
・・フォトマスク
・ペリクル枠
・・ペリクル
以上
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人弁理土鈴木喜三部（他１名）
第
第
図
第
図1, 2, and 3 are cross-sectional views of a photomask equipped with a pellicle using the measurement method of this embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view of a photomask equipped with a pellicle according to a conventional measurement method. FIG. 5 is a diagram of a photomask equipped with a pellicle. Pellicle Chrome pattern surface Pellicle frame Photomask Reflector Incident light beam Reflection Light beam detector Severely deteriorated pellicle surface 21 ・ 22 ・ 23 ・ 24 ・ 25 ・ 26 ・ 27 ・ 28 ・ 29 ・ 32 ・ 33 ・ 34 ・ 35 ・ 37 ・ 38・ 39 ・ 41 ・ 42 ・ ... Pellicle ... Chrome pattern surface ... Pellicle frame ... Photomask ... Reflection plate ... Incident light flux ... Reflected light flux ... Detector ... Severely deteriorated pellicle surface ... Pellicle ...・Chromium pattern surface ・Pellicle frame ・Photomask ・Reflector ・・Incoming light beam ・・Reflected light beam ・・Detector ・Pellicle surface with severe deterioration ・Pellicle ・Chromium pattern surface No. 1 Figure 45 ・ 46 ・ 47・ 48 ・ 52 ・ 53 ・ ...pellicle frame, photomask, reflector, incident light beam, reflected light beam, detector, photomask, pellicle frame, and above pellicle Applicant Seiko Epson Corporation Attorney's Office Kizobe Suzuki (and 1 other person) Fig. Fig. Fig.
Claims (3)
クルに覆われる領域にある、前記フォトマスクの少なく
とも１ケ所に反射板を設け、透過率を測定するための光
束をある一定の角度で前記反射板へ入射し、その入射光
または、反射光の何れか一方を前記ペリクルの露光領域
を透過し、他の一方を露光領域外を通過させ、前記反射
板によって反射された前記光束のペリクル透過後の強度
を測定し、更に前記光束のペリクル入射前の強度と前記
反射板の反射率から前記ペリクルの露光領域の透過率を
算出することを特徴とするペリクルの透過率測定方法。(1) In a photomask equipped with a pellicle, a reflecting plate is provided at at least one location on the photomask in an area covered by the pellicle, and a light beam for measuring transmittance is directed to the reflecting plate at a certain angle. Intensity of the light flux after passing through the pellicle, which is reflected by the reflecting plate, by passing either the incident light or the reflected light through the exposure area of the pellicle, and passing the other light outside the exposure area. A method for measuring transmittance of a pellicle, characterized in that the transmittance of the exposed area of the pellicle is calculated from the intensity of the light beam before it enters the pellicle and the reflectance of the reflector.
た誘電体ミラーを使用することを特徴とする請求項１記
載のペリクルの透過率測定方法。(2) The method for measuring transmittance of a pellicle according to claim 1, characterized in that a dielectric mirror using a dielectric film of γ-Al_2O_3 is used as the reflection plate.
変化させることにより、入射光、反射光共に露光領域外
のペリクルを透過する事により前記ペリクルの露光領域
以外の透過率を測定した後、入射光の入射角度を変化さ
せ、入射光または、反射光のどちらか一方を前記ペリク
ルの露光領域を透過し、前記ペリクルの露光領域外の透
過率測定結果を基に、前記ペリクルの露光領域の透過率
を測定することを特徴とする請求項１記載のペリクルの
透過率測定方法。(3) By arbitrarily changing the incident angle of the light flux for measuring transmittance, both incident light and reflected light were transmitted through the pellicle outside the exposed area, and the transmittance of the pellicle outside the exposed area was measured. After that, the incident angle of the incident light is changed, and either the incident light or the reflected light is transmitted through the exposure area of the pellicle, and the pellicle is exposed based on the transmittance measurement results outside the exposure area of the pellicle. 2. The method for measuring transmittance of a pellicle according to claim 1, wherein the transmittance of a region is measured.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2108004A JPH046559A (en) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | Method for measuring transmittance of pellicle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2108004A JPH046559A (en) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | Method for measuring transmittance of pellicle |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH046559A true JPH046559A (en) | 1992-01-10 |
Family
ID=14473545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2108004A Pending JPH046559A (en) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | Method for measuring transmittance of pellicle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH046559A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8480986B2 (en) | 1998-02-06 | 2013-07-09 | Daimler Ag | Catalytic reduction of NOx |
| US8833062B1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-16 | Daimier Ag | Catalytic reduction of NOx |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP2108004A patent/JPH046559A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8480986B2 (en) | 1998-02-06 | 2013-07-09 | Daimler Ag | Catalytic reduction of NOx |
| US8833062B1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-16 | Daimier Ag | Catalytic reduction of NOx |
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