JPH0449540A - 情報記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の記録(書き込み)及び再生(読み取り)が可能な
色素を含む記録層を有する情報記録媒体に関するもので
ある。
情報の記録(書き込み)及び再生(読み取り)が可能な
色素を含む記録層を有する情報記録媒体に関するもので
ある。
[発明の技術向背Jル]
近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。
この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには人容呈静市画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。
スク、オーディオ・ディスク、さらには人容呈静市画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。
光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円板状の基板と、この上に設けられたBi、Sn
、In、Te等の金属または半金属:またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とをイ
1゛する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には
通常、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あ
るいは光ディスクの感度の向上なとの点から、高分子物
質からなる中間層が設けられることが多い。また、情報
記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記録層上に保護
層が設けられている。
らなる円板状の基板と、この上に設けられたBi、Sn
、In、Te等の金属または半金属:またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とをイ
1゛する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には
通常、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あ
るいは光ディスクの感度の向上なとの点から、高分子物
質からなる中間層が設けられることが多い。また、情報
記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記録層上に保護
層が設けられている。
そして、光ディスクへの情報の記録及び/又は再生は通
常F記の方法により行なわれる。
常F記の方法により行なわれる。
情報の記録はレーザビームをこの光ディスクに照射する
ことにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収
して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化
(たとえば、ピットの生成)が生じてその光学的特性を
変えることにより情報が記録される。情報の再生もまた
、レーザビームを光ディスクに照射することにより行な
われ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または
透過光を検出することにより情報が再生される。
ことにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収
して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化
(たとえば、ピットの生成)が生じてその光学的特性を
変えることにより情報が記録される。情報の再生もまた
、レーザビームを光ディスクに照射することにより行な
われ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または
透過光を検出することにより情報が再生される。
このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。
従来、色素を含む記録層は反射率が小さいという問題点
があったため、色素を含む記録層を有する情報記録媒体
に於いては、金属を含む反射層を記録層の上に設けて反
射率を増大させることが行なわれている。更に色素を含
む記録層と金属を含む反射層との間に無機化合物(例え
ば、5iO1Si02.Si3 N4.Al1Nなど)
を含むエンハンス層を設けて(ヨーロッパ特許公開公報
EP0353393A2参照)、反射率を増大させるこ
とも提案されている。
があったため、色素を含む記録層を有する情報記録媒体
に於いては、金属を含む反射層を記録層の上に設けて反
射率を増大させることが行なわれている。更に色素を含
む記録層と金属を含む反射層との間に無機化合物(例え
ば、5iO1Si02.Si3 N4.Al1Nなど)
を含むエンハンス層を設けて(ヨーロッパ特許公開公報
EP0353393A2参照)、反射率を増大させるこ
とも提案されている。
1−記のエンハンス層は、真空蒸着、RFスパッタリン
グなどの゛真空成膜技術により形成される。
グなどの゛真空成膜技術により形成される。
エンハンス層を上記のような真空成膜技術によって形成
する場合、特に厚い膜厚を必要とする場合は、成膜時間
が長時間になり生産性が悪いとか、長時間成膜条件ドに
曝される間に基板の温度が上昇し、そのために前置って
基板に形成されている有機物を含む層、特に色素を含む
記録層が劣化したり、基板か変形するという問題が発生
する。
する場合、特に厚い膜厚を必要とする場合は、成膜時間
が長時間になり生産性が悪いとか、長時間成膜条件ドに
曝される間に基板の温度が上昇し、そのために前置って
基板に形成されている有機物を含む層、特に色素を含む
記録層が劣化したり、基板か変形するという問題が発生
する。
一方、エンハンス層を塗布によって形成することができ
れば、上記のような問題点を回避できると共に、高価な
真空装置を使用することなく極めて簡便に容易にエンハ
ンス層を形成させることができので、非常に望ましい。
れば、上記のような問題点を回避できると共に、高価な
真空装置を使用することなく極めて簡便に容易にエンハ
ンス層を形成させることができので、非常に望ましい。
しかしながら、エンハンス層形成用塗布液を調製するた
めに使用する溶剤が、前置ワて基板に形成されている前
記記録層の色素を溶解し得る溶剤である場合には、エン
ハンス層形成用塗布液を塗布する際に、上記色素を溶解
し、上記記録層を破壊させることになる。
めに使用する溶剤が、前置ワて基板に形成されている前
記記録層の色素を溶解し得る溶剤である場合には、エン
ハンス層形成用塗布液を塗布する際に、上記色素を溶解
し、上記記録層を破壊させることになる。
従ワて、エンハンス層形成用塗布液を調製するために使
用する溶剤は、上記記録層の色素を溶解しないような溶
剤に制限され、それに伴なってエンハンス層を構成する
物質も、上記記録層の色素を溶解しないような溶剤に可
溶性の物質に制限されることになる。
用する溶剤は、上記記録層の色素を溶解しないような溶
剤に制限され、それに伴なってエンハンス層を構成する
物質も、上記記録層の色素を溶解しないような溶剤に可
溶性の物質に制限されることになる。
一般に上記色素はアルコール系溶剤に溶解し脂肪族又は
脂環式炭化水素系溶剤に溶解しないものが多く、このよ
うな場合には、エンハンス層を塗布によって設ける場合
、エンハンス層形成用塗布液の溶剤としては脂肪族又は
脂環式炭化水素系溶剤を使用する必要がある。従ってこ
の場合には、エンハンス層構成物質は脂肪族又は脂環式
炭化水素系溶剤に可溶性の有機高分子材料に制限される
。
脂環式炭化水素系溶剤に溶解しないものが多く、このよ
うな場合には、エンハンス層を塗布によって設ける場合
、エンハンス層形成用塗布液の溶剤としては脂肪族又は
脂環式炭化水素系溶剤を使用する必要がある。従ってこ
の場合には、エンハンス層構成物質は脂肪族又は脂環式
炭化水素系溶剤に可溶性の有機高分子材料に制限される
。
上記のような情報記録媒体において、エンハンス層構成
物質として最適の物質は、色素の種類、反射層構成物質
の種類、各層の層厚、各層の屈折率、これらの相互関係
、その他種々の要因によフて変わるものであり、出来る
だけ広範囲の物質の中から選択できることが望ましい。
物質として最適の物質は、色素の種類、反射層構成物質
の種類、各層の層厚、各層の屈折率、これらの相互関係
、その他種々の要因によフて変わるものであり、出来る
だけ広範囲の物質の中から選択できることが望ましい。
従って、上記記録層を形成する色素を溶解する溶剤を含
むエンハンス層形成用塗布液を使用して形成されたエン
ハンス層を有する情報記録媒体も要望される。
むエンハンス層形成用塗布液を使用して形成されたエン
ハンス層を有する情報記録媒体も要望される。
[発明の目的]
本発明は、基板上に設けられた前記のような色素を含む
記録層の上に、該色素を溶解し得る塗布液から形成され
たエンハンス層が設けられ、該エンハンス層の上に反射
層が設けられた、高し1反射率を有する情報記録媒体を
提供するこを目的とする。
記録層の上に、該色素を溶解し得る塗布液から形成され
たエンハンス層が設けられ、該エンハンス層の上に反射
層が設けられた、高し1反射率を有する情報記録媒体を
提供するこを目的とする。
[発明の要旨]
本発明は、基板上に、レーザ光により情報の記録及び再
生が可能な色素を含む記録層が設けられ、該記録層の上
に、金属又は半金属の単体又は合金からなり1〜20n
mの膜厚を有するバリア層が設けられ、該バリヤ層の上
に、該記録層の色素を溶解し得る塗布液から形成された
高分子化合物を含むエンハンス層が設けられ、該エンハ
ンス層の上に反射層が設けられてなる情報記録媒体であ
る。
生が可能な色素を含む記録層が設けられ、該記録層の上
に、金属又は半金属の単体又は合金からなり1〜20n
mの膜厚を有するバリア層が設けられ、該バリヤ層の上
に、該記録層の色素を溶解し得る塗布液から形成された
高分子化合物を含むエンハンス層が設けられ、該エンハ
ンス層の上に反射層が設けられてなる情報記録媒体であ
る。
本発明の好適な態様は下記の通りである。
(1)ト記バリア層が、Be、B、C,Mg、AI、S
i、sc、Ti、V% Cr、Mn。
i、sc、Ti、V% Cr、Mn。
Fe%Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge。
As、Se、Rb、Sr、Y、Zr、Nb。
Mo、Tc、Ru、Rh、Pd%Ag% Cd、I n
、Sn、Sb%Te、Cs、Ba、Hf。
、Sn、Sb%Te、Cs、Ba、Hf。
Ta、W% Re、Os、I r、Pt、Au、T1、
Pb、 Bi、 Po、At、 Fr、 Ra、ランタ
ノイド元素及びアクチノイド元素からなる群から選択さ
れた少なくとも一種の元素を含む単体又は合金からなる
ことを特徴とする上記情報記録媒体。
Pb、 Bi、 Po、At、 Fr、 Ra、ランタ
ノイド元素及びアクチノイド元素からなる群から選択さ
れた少なくとも一種の元素を含む単体又は合金からなる
ことを特徴とする上記情報記録媒体。
(2)上記バリア層がDCスパッタリングにより設けら
れた層であることを特徴とする一上記情報記録媒体。
れた層であることを特徴とする一上記情報記録媒体。
(3)1−記エンハンス層が、UV硬化性樹脂又は熱硬
化性樹脂を硬化させて得られたものであることを特徴と
する上記情報記録媒体。
化性樹脂を硬化させて得られたものであることを特徴と
する上記情報記録媒体。
(4)上記反射層の上に、保護層が設けられてなること
を特徴とする」二記情報記録媒体。
を特徴とする」二記情報記録媒体。
[発明の詳細な記述]
本発明の情報記録媒体は、基板[に、少なくとも、色素
を含む記録層、バリア層、エンハンス層、及び反射層が
設けられた基本構成を有する。
を含む記録層、バリア層、エンハンス層、及び反射層が
設けられた基本構成を有する。
上記基板は、ガラス、プラスチックなどから作られた基
板である。このプラスチックとしては従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することができる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメ
タクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂:ポリカーボネート
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
を挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネート
、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレートを挙
げることができる。また、上記基板の形状は、円盤状(
光ディスク)であってもよく、方形状(光カード)であ
ってもよい。
板である。このプラスチックとしては従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することができる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメ
タクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂:ポリカーボネート
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
を挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネート
、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレートを挙
げることができる。また、上記基板の形状は、円盤状(
光ディスク)であってもよく、方形状(光カード)であ
ってもよい。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善るよび記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質ニジランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(S i 02 、 A IL
t Os等)、無機弗化物(MgFz)などの無機物質
を挙げることができる。
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善るよび記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質ニジランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(S i 02 、 A IL
t Os等)、無機弗化物(MgFz)などの無機物質
を挙げることができる。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなと
の’44j法により基板表面に塗層11することにより
形成することができる。F塗層の層厚は一般に0.00
5〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10
μmの範囲である。
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなと
の’44j法により基板表面に塗層11することにより
形成することができる。F塗層の層厚は一般に0.00
5〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10
μmの範囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および/またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ツマ−(
またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および/またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ツマ−(
またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
次いで、基板なR1型から剥離することによりプレグル
ーブ層の設けられだ基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプラ
スチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などによ
り直接基板にプレグルーブおよび/またはプレピットが
設けられてもよい。
ーブ層の設けられだ基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプラ
スチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などによ
り直接基板にプレグルーブおよび/またはプレピットが
設けられてもよい。
基板(またはプレグルーブ層等)上には、レーザ光によ
り情報の記録(書き込み)及び再生(読み取り)が可能
な色素を含む記録層が設けられる。
り情報の記録(書き込み)及び再生(読み取り)が可能
な色素を含む記録層が設けられる。
上記色素は特に限定されるものではなく、どのようなも
のでも良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン
系色素、メロシアニン系色素、ビリリウム系色素、チオ
ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系
色素、キノン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウ
ム系色素、金属錯塩系色素などを挙げることができる。
のでも良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン
系色素、メロシアニン系色素、ビリリウム系色素、チオ
ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系
色素、キノン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウ
ム系色素、金属錯塩系色素などを挙げることができる。
色素は単一の色素であってもよく、また−、、種以上の
色素の混合物であってもよい。
色素の混合物であってもよい。
また、特にシアニン系色素、メロシアニン系色素等を用
いる場合に、1−記金属錯塩系色素、アミニウム系色素
、ジインモニウム系色素等のクエンチャ−色素を一緒に
用いることが好ましい。その場合、クエンチャ−色素を
全色素1モル部に対して0.01〜0.5モル部含むこ
とが好ましい。
いる場合に、1−記金属錯塩系色素、アミニウム系色素
、ジインモニウム系色素等のクエンチャ−色素を一緒に
用いることが好ましい。その場合、クエンチャ−色素を
全色素1モル部に対して0.01〜0.5モル部含むこ
とが好ましい。
本発明において記録層の形成は、上記色素、さらに所望
により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで
この塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾
燥することにより行なうことができる。
により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで
この塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾
燥することにより行なうことができる。
一上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなど
のエーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロ
パツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチル
ホルムアミドなどのアミド、2,2,3゜3−テトラフ
ロロ−1−プロパツール等フッソ系溶剤などを挙げるこ
とができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、
50容量%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環
式炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系
溶媒を含んでいてもよい。
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなど
のエーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロ
パツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチル
ホルムアミドなどのアミド、2,2,3゜3−テトラフ
ロロ−1−プロパツール等フッソ系溶剤などを挙げるこ
とができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、
50容量%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環
式炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系
溶媒を含んでいてもよい。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質:およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質:およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。色素の良好な配向状態を形成するためには、スピンコ
ード法を用いることが好ましい。さらにスピコート時に
、スピンナーの回転数を500〜5000r、p、m、
の範囲にて、そして乾燥時間を5〜180秒の範囲にて
行なうことが好ましい。
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。色素の良好な配向状態を形成するためには、スピンコ
ード法を用いることが好ましい。さらにスピコート時に
、スピンナーの回転数を500〜5000r、p、m、
の範囲にて、そして乾燥時間を5〜180秒の範囲にて
行なうことが好ましい。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
色素記録層の層厚は一般には200〜3000λ、好ま
しくは、500〜2000Xの範囲である。
しくは、500〜2000Xの範囲である。
本発明におけるバリア層は、金属又は半金属の単体又は
合金からなり1〜20nmの膜厚を有するものである。
合金からなり1〜20nmの膜厚を有するものである。
このバリア層を形成する物質は、金属又は半金属の単体
又は合金であるが、Be、B、C1Mg、AI、Si、
5c1Ti、V、Cr、Mn%Fe、 co、Ni%C
u、Zn%Ga。
又は合金であるが、Be、B、C1Mg、AI、Si、
5c1Ti、V、Cr、Mn%Fe、 co、Ni%C
u、Zn%Ga。
Ge、As% Se% Rh% Sr、Y、Zr。
Nb、 Mo、Tc、 Ru、 Rh、 Pd
、 Ag。
、 Ag。
Cd、 In、 Sn% Sb、 Te、 C
s、 Ba。
s、 Ba。
Hf、 Ta、 W% Re 、 Os、 Ir
、 Pt。
、 Pt。
Au、TI 、 Pb、 Bi、 Po、 At
、 Fr、Ra、ランタノイド元素及びアクチノイド
元素からなる群から選択された少なくとも一種の元素を
含む単体又は合金であることが好ましい。バリア層を形
成する物質としては、特に、C,AI、Si、Ti、C
r、Ni、Cu、Zn、Zr。
、 Fr、Ra、ランタノイド元素及びアクチノイド
元素からなる群から選択された少なくとも一種の元素を
含む単体又は合金であることが好ましい。バリア層を形
成する物質としては、特に、C,AI、Si、Ti、C
r、Ni、Cu、Zn、Zr。
Mo、Rh、Pd、Ag、I n、Sn、Sb。
Te、Ta、Pt、Au、TI及びBiからなる群から
選択された少なくとも一種の元素を含む単体又は合金で
あることが好ましく、更に特に、C,AI、Ni%Cu
、Zn、Pt及びAuからなる群から選択された少なく
とも−・種の元素を含む単体又は合金であることが好ま
しい。
選択された少なくとも一種の元素を含む単体又は合金で
あることが好ましく、更に特に、C,AI、Ni%Cu
、Zn、Pt及びAuからなる群から選択された少なく
とも−・種の元素を含む単体又は合金であることが好ま
しい。
−ト記バリア層は、スパッタリング(例えば、直流スパ
ッタリング、高周波スパッタリング、マグネトロンスパ
ッタリング、イオンビームスパッタリング)により形成
されたものが好ましく、特に直流(DC)スパッタリン
グにより形成されたものが、バリア層形成時に基板や記
録層へ実質的に悪影響を及ぼすことがないので好ましい
。上記スパッタリングの条件としては、ターゲット−基
板距離を11 (am)としスパッタリングガス圧をP
(Pa)とするとき、1とPとが下記式:%式% を満足し、速度が0.1〜1100n/秒であるような
条件であることが好ましい。スパッタリングガス圧は、
10−2〜100Paの範囲内であることが好ましい。
ッタリング、高周波スパッタリング、マグネトロンスパ
ッタリング、イオンビームスパッタリング)により形成
されたものが好ましく、特に直流(DC)スパッタリン
グにより形成されたものが、バリア層形成時に基板や記
録層へ実質的に悪影響を及ぼすことがないので好ましい
。上記スパッタリングの条件としては、ターゲット−基
板距離を11 (am)としスパッタリングガス圧をP
(Pa)とするとき、1とPとが下記式:%式% を満足し、速度が0.1〜1100n/秒であるような
条件であることが好ましい。スパッタリングガス圧は、
10−2〜100Paの範囲内であることが好ましい。
また、−F記バリア層の膜厚は1〜20nmであるが、
1.5〜15nm、特に、2〜106mであることが好
ましい。バリア層の膜厚が上記範囲よりも厚いと、バリ
ア層の透過率が小さくなるために、エンハンス層の作用
効果が十分発揮できず、情報記録媒体の変調度が低下す
るので好ましくない。
1.5〜15nm、特に、2〜106mであることが好
ましい。バリア層の膜厚が上記範囲よりも厚いと、バリ
ア層の透過率が小さくなるために、エンハンス層の作用
効果が十分発揮できず、情報記録媒体の変調度が低下す
るので好ましくない。
また、バリア層の膜厚が上記範囲よりも薄いと、バリア
層の作用効果が減少する。本発明の情報記録媒体におけ
るバリア層の膜厚は上記のように小さいので、バリア層
をスパッタリングによって形成しても、基板や事前に基
板に設けられている層に対して実質的に悪影響を及ぼす
ことがない。
層の作用効果が減少する。本発明の情報記録媒体におけ
るバリア層の膜厚は上記のように小さいので、バリア層
をスパッタリングによって形成しても、基板や事前に基
板に設けられている層に対して実質的に悪影響を及ぼす
ことがない。
バリア層を形成する対象物の表面及び/又はバリア層の
表面を、プラズマ処理(例えば、グロー放電処理、逆ス
パツタリング等)すると、バリア層と他の層との密着性
が向上するので好ましい。
表面を、プラズマ処理(例えば、グロー放電処理、逆ス
パツタリング等)すると、バリア層と他の層との密着性
が向上するので好ましい。
本発明におけるエンハンス層は、記録層の色素を溶解し
得る塗布液から形成された高分子化合物を含む層であっ
て、情報記録媒体の反射率を向上させることができるも
のであれば、どのような物質からなるものであってもよ
い。エンハンス層を形成する物質としては、UV硬化性
樹脂又は熱硬化性樹脂を硬化させて得られたもの、熱可
塑性樹脂等であることか好ましい。
得る塗布液から形成された高分子化合物を含む層であっ
て、情報記録媒体の反射率を向上させることができるも
のであれば、どのような物質からなるものであってもよ
い。エンハンス層を形成する物質としては、UV硬化性
樹脂又は熱硬化性樹脂を硬化させて得られたもの、熱可
塑性樹脂等であることか好ましい。
UV硬化性樹脂は、UV光により硬化する樹脂成分の千
ツマ−及び/又はオリゴマーと、更に光重合開始剤等が
、トルエン、ジアセトンアルコール、酢酸エチル、酢酸
ブチル、ブタノールなどのような溶剤中に溶解乃至分散
したものであり、これをそのまま若しくは適当な溶剤(
例えば、イソプロピルアルコールのようなアルコール類
)に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し
、UV光を照射して硬化させることによってエンハンス
層を形成することができる。UV硬化性樹脂の樹脂成分
としては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(
メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレー
ト等の(メタ)アクリレートのオリゴマー類、(メタ)
アクリル酸エステル等の千ツマー類等を挙げることがで
きる。
ツマ−及び/又はオリゴマーと、更に光重合開始剤等が
、トルエン、ジアセトンアルコール、酢酸エチル、酢酸
ブチル、ブタノールなどのような溶剤中に溶解乃至分散
したものであり、これをそのまま若しくは適当な溶剤(
例えば、イソプロピルアルコールのようなアルコール類
)に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し
、UV光を照射して硬化させることによってエンハンス
層を形成することができる。UV硬化性樹脂の樹脂成分
としては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(
メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレー
ト等の(メタ)アクリレートのオリゴマー類、(メタ)
アクリル酸エステル等の千ツマー類等を挙げることがで
きる。
また、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などは、上記のよう
な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗
布し、必要に応じて加熱し、乾燥することによってエン
ハンス層を形成することができる。
な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗
布し、必要に応じて加熱し、乾燥することによってエン
ハンス層を形成することができる。
エンハンス層の層厚は、一般には30〜3001mの範
囲、特に60〜200nmの範囲であることが好ましい
。エンハンス層の層厚が上記範囲から外れるとエンハン
スの効果が小さくなる。
囲、特に60〜200nmの範囲であることが好ましい
。エンハンス層の層厚が上記範囲から外れるとエンハン
スの効果が小さくなる。
本発明の情報記録媒体において、反射層は、情報記録媒
体の反射率を向上させ、情報の再生時におけるS/Nの
向上及び記録時における感度の向上ることができるもの
であれば、どのような物質から形成されてもよい。
体の反射率を向上させ、情報の再生時におけるS/Nの
向上及び記録時における感度の向上ることができるもの
であれば、どのような物質から形成されてもよい。
反射層の材料としては、金属及び半金属を挙げることが
できる。金属及び半金属としては、Mg、Se、Y、T
i、Zr、Hf、V、Nb。
できる。金属及び半金属としては、Mg、Se、Y、T
i、Zr、Hf、V、Nb。
Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、co、Ni
、Ru、Rh、Pd、I r%Pt。
、Ru、Rh、Pd、I r%Pt。
Cu、Ag%Au、Zn、Cd、AIl、、Ga。
In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn。
Biなどを例示することができる。
反射層は、L記のような金属又は半金属を蒸着、スパッ
タリングまたはイオンブレーティングすることにより形
成することができる。
タリングまたはイオンブレーティングすることにより形
成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000λの範囲、好
ましくは、500〜2000又の範囲である。
ましくは、500〜2000又の範囲である。
本発明の情報記録媒体においては、更に、記録層および
情報記録媒体全体を物理的および化学的に保護する目的
で保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板の
記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
るために設けてもよい。
情報記録媒体全体を物理的および化学的に保護する目的
で保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板の
記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
るために設けてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、S i O,S i 02 、 S 13 N4、
Mg F2.5no2等を挙げることができる。また、
有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV
硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはUV硬化
性樹脂である。特に上記有機物質は、塗布により保護層
を設けることができるので好ましい。
は、S i O,S i 02 、 S 13 N4、
Mg F2.5no2等を挙げることができる。また、
有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV
硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはUV硬化
性樹脂である。特に上記有機物質は、塗布により保護層
を設けることができるので好ましい。
L記有機物質を使用して保護層を形成する場合には、前
記エンハンス層の形成について記載したのと同様の方法
によって保護層を形成することができる。保護層形成用
の塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸
収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。本
発明では、U■硬化性樹脂を用いることが好ましい。
記エンハンス層の形成について記載したのと同様の方法
によって保護層を形成することができる。保護層形成用
の塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸
収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。本
発明では、U■硬化性樹脂を用いることが好ましい。
保護層の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲にあ
る。
る。
上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加圧で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
−Fにラミネートすることにより形成することができる
。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法に
より設けられてもよい。
加圧で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
−Fにラミネートすることにより形成することができる
。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法に
より設けられてもよい。
本発明の情報記録媒体の構造を、添付する図面を参照し
て説明する。
て説明する。
第1図は、本発明の情報記録媒体の一実施態様の基板及
び各層の構成を模式的に示す断面図である。
び各層の構成を模式的に示す断面図である。
第1図において、情報記録媒体10は、基板11の上に
記録層12が形成され、その上にバリア層13が形成さ
れ、その七にエンハンス層14が形成され、その上に反
射層15が形成され、その上に保護層16が形成されて
いる。
記録層12が形成され、その上にバリア層13が形成さ
れ、その七にエンハンス層14が形成され、その上に反
射層15が形成され、その上に保護層16が形成されて
いる。
基板11は、アルコール系溶剤に影響されないプラスチ
ックから作られたものである。記録層12は、色素をア
ルコール系溶剤に溶解して調製した記録層形成用塗布液
をスピンコードすることによって形成したものである。
ックから作られたものである。記録層12は、色素をア
ルコール系溶剤に溶解して調製した記録層形成用塗布液
をスピンコードすることによって形成したものである。
バリア層13はAuを直流スパッタリングすることによ
って形成したものである。エンハンス層14は、UV硬
化性樹脂をイソプロピルアルコールに溶解して調製した
エンハンス層形成用塗布液をスピンコードし、UV光を
照射することによって硬化させて形成したものである。
って形成したものである。エンハンス層14は、UV硬
化性樹脂をイソプロピルアルコールに溶解して調製した
エンハンス層形成用塗布液をスピンコードし、UV光を
照射することによって硬化させて形成したものである。
反射層15は、金属をDCスパッタすることによって形
成したものである。保j層16は、UV硬化性樹脂をス
ピンコードし、UV光を照射することによって硬化させ
て形成したものである。
成したものである。保j層16は、UV硬化性樹脂をス
ピンコードし、UV光を照射することによって硬化させ
て形成したものである。
情報記録媒体10を製造する際に、バリア層13を設け
ることなく、エンハンス層14を記録層12の上に直接
塗布により形成させると、エンハンス層形成用塗布液中
のUV硬化性樹脂に含まれる面記のような種々の溶剤や
UV硬化性樹脂を希釈するために使用した溶剤(例えば
、イソプロピルアルコール)中に記録層の色素が溶解し
、記録層が破壊され、情報記録媒体を得ることができな
い(比較例1参照)。しかしながら、バリア層13が設
けられていると、エンハンス層14の形成時に記録層1
2はエンハンス層形成用塗布液中の上記のような溶剤の
作用を受けることがないので、記録層12とエンハンス
層14とが十分それぞれの機能を果たすことができ、優
れた情報記録媒体になる(実施例1参照)。
ることなく、エンハンス層14を記録層12の上に直接
塗布により形成させると、エンハンス層形成用塗布液中
のUV硬化性樹脂に含まれる面記のような種々の溶剤や
UV硬化性樹脂を希釈するために使用した溶剤(例えば
、イソプロピルアルコール)中に記録層の色素が溶解し
、記録層が破壊され、情報記録媒体を得ることができな
い(比較例1参照)。しかしながら、バリア層13が設
けられていると、エンハンス層14の形成時に記録層1
2はエンハンス層形成用塗布液中の上記のような溶剤の
作用を受けることがないので、記録層12とエンハンス
層14とが十分それぞれの機能を果たすことができ、優
れた情報記録媒体になる(実施例1参照)。
上記のことから明らかなように、本発明の情報記録媒体
はエンハンス層の形成物質を色素記録層と無関係に最適
に選択し、生産性高く容易に製造することができる。バ
リア層は前記のように一般にスパッタリングにより形成
されるが、バリア層は薄いものであり短時間に形成でき
るので、基板及び他の層に対して悪影響を与えない。
はエンハンス層の形成物質を色素記録層と無関係に最適
に選択し、生産性高く容易に製造することができる。バ
リア層は前記のように一般にスパッタリングにより形成
されるが、バリア層は薄いものであり短時間に形成でき
るので、基板及び他の層に対して悪影響を与えない。
本発明の情報記録媒体において、基板又は下塗層が記録
層塗布液によって好ましくない影響を受ける恐れがある
場合は、基板又は下塗層の表面に1前記のようなバリア
層を設けることもできる。
層塗布液によって好ましくない影響を受ける恐れがある
場合は、基板又は下塗層の表面に1前記のようなバリア
層を設けることもできる。
次ぎに本発明の実施例を示す。
[実施例1]
下記のようにして第1図に示す断面桔造を有する情報記
録媒体を製造した。
録媒体を製造した。
基板11として、グループが設けられた円板状のポリカ
ーボネート基板(外径:120mm、内径: 15mm
、厚さ:1.2mm、グループ幅二0.6μm1グルー
プの深さ:10100nを用意した。
ーボネート基板(外径:120mm、内径: 15mm
、厚さ:1.2mm、グループ幅二0.6μm1グルー
プの深さ:10100nを用意した。
ド記構造式の色素:
n−C4H9n−cJg
l04−
1.8重量部を、2,2,3.3−テトラフロロプロパ
ツール100重量部に溶解して調製した記録層塗布液を
、上記基板11上に、スピンコード法により回転数10
00 r、p、m、の速度で30秒間塗布した後、1分
間乾燥して、層厚1100nの記録層12を形成した。
ツール100重量部に溶解して調製した記録層塗布液を
、上記基板11上に、スピンコード法により回転数10
00 r、p、m、の速度で30秒間塗布した後、1分
間乾燥して、層厚1100nの記録層12を形成した。
記録層12のトに、Auを、スパッタガスとしてArを
使用し、ターゲット−基板距11:95mm、 スパッ
タガス圧: 2Pa、レー):2nm/秒、480Wで
DCスパッタリングして、膜厚が5nmのバリア層13
を形成した。
使用し、ターゲット−基板距11:95mm、 スパッ
タガス圧: 2Pa、レー):2nm/秒、480Wで
DCスパッタリングして、膜厚が5nmのバリア層13
を形成した。
バリア層13の1に、UV硬化性樹脂(商品名:UV3
070、スリーボンド社製)5重量部をイソプロピルア
ルコール95重量部に溶解して調製したバリア層形成用
塗布液を、スピンコード法により回転数1500 r、
p、m、の速度で塗布した後、高圧水銀灯にて紫外線を
照射して硬化させ、層厚1100nのエンハンス層14
を形成した。
070、スリーボンド社製)5重量部をイソプロピルア
ルコール95重量部に溶解して調製したバリア層形成用
塗布液を、スピンコード法により回転数1500 r、
p、m、の速度で塗布した後、高圧水銀灯にて紫外線を
照射して硬化させ、層厚1100nのエンハンス層14
を形成した。
エンハンス層14の上に、バリア層の形成と同じ条件で
Auをスパッタリングして、膜厚が1100nの反射層
15を形成した。
Auをスパッタリングして、膜厚が1100nの反射層
15を形成した。
反射層15の上に、UV硬化性樹脂(商品名:UV30
70、スリーボンド社製)をスピンコート法により回転
数2000 r、p、m、の速度で塗布した後、高圧水
銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚2μmの保護
層16を形成した。
70、スリーボンド社製)をスピンコート法により回転
数2000 r、p、m、の速度で塗布した後、高圧水
銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚2μmの保護
層16を形成した。
得られた情報記録媒体について、下記の方法により、ミ
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
[ミラー反射率]
未記録でグループのない領域を再生したときの、レーザ
光の入射光のエネルギーと反射光のエネルギーとを測定
し、その比を百分率で求めた。
光の入射光のエネルギーと反射光のエネルギーとを測定
し、その比を百分率で求めた。
[C/N測定方法コ
情報記録媒体の記録層に、波長780nmの半導体レー
ザ光を使用し、定線速度1.3m/秒、記録パワー6m
Wで、変調周波数720kH2(デユーティ:33%)
の単一信号を記録した。
ザ光を使用し、定線速度1.3m/秒、記録パワー6m
Wで、変調周波数720kH2(デユーティ:33%)
の単一信号を記録した。
」、記記録された信ぢ−を再生パワー0.2mW、定線
速度1.3m/秒の条件で、スペクトルアナライザー(
RBW: 10kHz、VBW: Zo。
速度1.3m/秒の条件で、スペクトルアナライザー(
RBW: 10kHz、VBW: Zo。
Hz)にてキャリヤーとノイズの出力レベルの比(C/
N”)を測定した。
N”)を測定した。
[3T変調度]
1−記条件で記録された情報を再生したときの、直流再
生波形の反射光レベルの極大値をA、極小値をBとし、
プレグルーブのない領域での反射光レベルをRとして、 変調度= (A−B)/RX100% で求めた。
生波形の反射光レベルの極大値をA、極小値をBとし、
プレグルーブのない領域での反射光レベルをRとして、 変調度= (A−B)/RX100% で求めた。
[比較例1]
バリア層13を形成しなかった他は実施例1におけると
同様にして、基板及びバリア層以外の各層が実施例1で
得られた情報記録媒体と同じ物質で同じ構成である情報
記録媒体を製造した。
同様にして、基板及びバリア層以外の各層が実施例1で
得られた情報記録媒体と同じ物質で同じ構成である情報
記録媒体を製造した。
得られた情報記録媒体について、前記の方法により、ミ
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
[比較例2]
バリア層13の膜厚を0.5nmに変えた他は実施例1
におけると同様にして、実施例1で得られた情報記録媒
体と同じ物質で同じ構成である情報記録媒体を製造した
。
におけると同様にして、実施例1で得られた情報記録媒
体と同じ物質で同じ構成である情報記録媒体を製造した
。
得られた情報記録媒体について、前記の方法により、ミ
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
[比較例3]
バリア層13の膜厚を50nmに変えた他は実施例1に
おけると同様にして、実施例1で得られた情報記録媒体
と同じ物質で同じ構成である情報記録媒体を製造した。
おけると同様にして、実施例1で得られた情報記録媒体
と同じ物質で同じ構成である情報記録媒体を製造した。
得られた情報記録媒体について、前記の方法により、ミ
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
[比較例4]
バリア層13及びエンハンス層14を形成しなかった他
は実施例1におけると同様にして、基板及びバリア層以
外の各層が実施例1で得られた情報記録媒体と同じ物質
で同じ構成である情報記録媒体を製造した。
は実施例1におけると同様にして、基板及びバリア層以
外の各層が実施例1で得られた情報記録媒体と同じ物質
で同じ構成である情報記録媒体を製造した。
得られた情報記録媒体について、前記の方法により、ミ
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
ラー反射率、C/N値及び3T変調度を測定した。その
結果を第1表に示す。
第 1 表
第1表の結果から明らかなように、実施例1で得られた
情報記録媒体は、ミラー反射率、C/N及び3T変調度
が何れも優れた値であるのに対して、比較例1及び比較
例2で得られた情報記録媒体は、色素記録層が侵されて
しまい不適当であり、比較例3て得られた情報記録媒体
は、ミラー反射率及びC/Nは高いものの、3T変調度
が低いものであり、比較例4で得られた情報記録媒体は
、エンハンスの効果がないので反射率の低いものである
。
情報記録媒体は、ミラー反射率、C/N及び3T変調度
が何れも優れた値であるのに対して、比較例1及び比較
例2で得られた情報記録媒体は、色素記録層が侵されて
しまい不適当であり、比較例3て得られた情報記録媒体
は、ミラー反射率及びC/Nは高いものの、3T変調度
が低いものであり、比較例4で得られた情報記録媒体は
、エンハンスの効果がないので反射率の低いものである
。
[発明の効果]
本発明の情報記録媒体は、色素を含む記録層とこの色素
を溶解し得る塗布液から形成されたエンハンス層との間
に前記のように特定されたバリア層が設けられているた
めに、エンハンス層を形成する際に記録層が悪影響を受
けることがなく、反射率、C/N、変調度などが何れも
優れているという顕著に優れた効果を奏するものである
。
を溶解し得る塗布液から形成されたエンハンス層との間
に前記のように特定されたバリア層が設けられているた
めに、エンハンス層を形成する際に記録層が悪影響を受
けることがなく、反射率、C/N、変調度などが何れも
優れているという顕著に優れた効果を奏するものである
。
第1図は、本発明の情報記録媒体の−・実施態様の基板
及び各層の構成を模式的に示す断面図である。 10:情報記録媒体、 11:基板、 12:記録層、 13:バリア層、 14:エンハンス層、 15:反射層、 16:保護層。
及び各層の構成を模式的に示す断面図である。 10:情報記録媒体、 11:基板、 12:記録層、 13:バリア層、 14:エンハンス層、 15:反射層、 16:保護層。
Claims (1)
- 1、基板上に、レーザ光により情報の記録及び再生が可
能な色素を含む記録層が設けられ、該記録層の上に、金
属又は半金属の単体又は合金からなり1〜20nmの膜
厚を有するバリア層が設けられ、該バリヤ層の上に、該
記録層の色素を溶解し得る塗布液から形成された高分子
化合物を含むエンハンス層が設けられ、該エンハンス層
の上に反射層が設けられてなる情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2160380A JPH0449540A (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2160380A JPH0449540A (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0449540A true JPH0449540A (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=15713714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2160380A Pending JPH0449540A (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0449540A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008155819A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Toyoda Gosei Co Ltd | コンソールリッド及びその製造方法 |
US7672215B2 (en) | 2003-04-14 | 2010-03-02 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and recording/reading method therefor |
-
1990
- 1990-06-19 JP JP2160380A patent/JPH0449540A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7672215B2 (en) | 2003-04-14 | 2010-03-02 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and recording/reading method therefor |
US7907503B2 (en) | 2003-04-14 | 2011-03-15 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and recording/reading method therefor |
JP2008155819A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Toyoda Gosei Co Ltd | コンソールリッド及びその製造方法 |
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