JPH043345A - 光情報記録媒体 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
録媒体に関するものである。
ムを用いる情報記録媒体(光情報記録媒体)が開発され
、実用化されている。この情報記録媒体は光ディスクと
称され、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さ
らには大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュー
タ用ディスク・メモリーとして使用されうるものである
。
・ディスク(CD))などは再生専用の光ディスクとし
て既に実用化されており、情報の書き込み可能なり R
A W (Direct Read Afterl1r
ite )型光ディスク、あるいは情報の書き換えが可
能な消去可能型光ディスクについても開発が進んでおり
、一部実用化されている。
ラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、こ
の上に設けられたBi、Sn、In、Te等の金属また
は半金属からなる記録層とを有する。光ディスクへの情
報の書き込みは、たとえばレーザービームを光ディスク
に照射することにより行なわれ、記録層の照射部分がそ
の光を吸収して局所的に温度上昇する結果、ピット形成
等の物理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じて
その光学的特性を変えることにより情報か記録される。
ムを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記
録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を
検出することにより情報が再生される。そして、上記光
ディスクへの情報の書き込みおよび読み取りのためのレ
ーサービームの照射は、通常ディスク表面の所定の位置
に行われる。このためレーザービームを案内して照射予
定位置に正確にたどる(〜般にトラッキングと呼ばれる
)ようにするため、例えば逆台形型のプレグルーブ(ト
ラッキングカイト)がディスク表面に設けられる。さら
に、データーの記録に必要なアドレス情報などのプレフ
ォーマット情報が、ディスクの通常内周側にプレピット
として形成されているのが一般的である。
ルーブ、および所望によりプレピット、が形成された基
板上に記録層等が設けられた基本構成を有する。
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、記録層を塗布法により簡単に
形成することができるという製造上の大きな利点を有し
ている。しかしながら、一般に光ディスクの記録材料中
で高感度であるとして有用とされているものは、金属類
でも色素類でもその反射率は30ないし40%である。
の欠点がある。
、一般に速い線速度で記録が行なわれるが、特に高い反
射率は要求されない。一方、コンパクト・ディスク(C
D)に採用されているCDフォーマット信号を用いて遅
い線速度で記録を行なうCD−DRAWでは、高い反射
率が要求される。すなわち、高い反射率を有することに
よって、情報が記録されたC D −D RAWを、市
販のCDプレーヤーにより再生できるという大きな優位
性か得られる。市販のCDプレーヤーは、情報として音
楽か記録されたCDの再生用プレーヤーとして広く用い
られている。
であるイミタゾキノキサリン系色素を用いて色素記録層
を形成することにより高い反射率が得られることが特開
平1−242287号公報に開示されている。しかしな
がら、レーザーにより該記録層に記録した該記録信号の
再生特性については充分に優れているとはいえない。ま
た、経時的に再生時のリードエラーが発生する場合があ
るとの問題がある。
射層を設けた情報記録媒体では、該色素記録層がレーザ
ー光を吸収し、それにより色素か融解するのに伴なって
プラスチック製の基板か加熱され、該基板は色素記録層
側に肉盛り変形しピットか形成されることが知られてい
る(日経エレクトロニクス、1989年 1月23日発
行、107頁参照)。
2およびEPO353394A2には、さらに反射率を
向上させるために色素記録層と金属反射層との間にエン
ハンス層を設けることが開示されている。エンハンス層
の材料としては、5iO1Sin2rSi3N4および
Aj2Nなどの無機物が記載されている。
上に反射層を設けた場合、および後者の色素記録層上に
、エンハンス層および反射層を設けた場合のどちらも色
素記録層は塗布により簡易に形成することができるが、
反射層およびエンハンス層はスパッタリングなどの蒸着
法で形成する必要があり、設備的にも高価なものとなり
、層を形成するためにも長時間を要するなど、製造上の
不利が大きい。
レス情報などのプレフォーマット情報が、通常基板の成
形時に基板の内周側にプレピットとして記録されている
。しがしながら、上記のように色素記録層上に金属反射
層を設けた場合は、プレピット信号が極めて小さなもの
となり再生か困難となるため、プレピット@域には色素
記録層を設けられないとの問題があり、このような光デ
ィスクの製造を煩雑なものにしている。
高い反射率を示す新規な光情報記録媒体を提供すること
を目的とする。
て60%以上の高い反射率を示す新規な光情報記録媒体
を提供することを目的とする。
が形成された光情報記録媒体であって、プレピット部の
信号を精確に読み取ることが可能な記録媒体を提供する
ことを目的とする。
生させずに記録することか可能な光情報記録媒体を提供
することを目的とする。
第一記録層上に、第二記録層および第記録層がこの順で
積層された二層構造の積層体の繰り返し単位が少なく一
単位設けられており、そして 基板上に、第一記録層、第二記録層および第三記録層が
この順で設けられており、そして第一記録層が、有機物
からなり且つ下記の条件(1)および(2): n1r≧1.a (1) k1r≦0.5 (2) を満足する層であり、 第二記録層が、有機物からなり且つ下記の条件(3)お
よび(4): n2r< 1 、 8 (3)k2r
≦o、s (4) を満足する層であり、 第三記録層か、有機物からなり且つ下記の条件(5)お
よび(6): n3r≧1.8(5) k3r≦0.5 (6) または(7): に3r≧1(7) [但し、” I r、n 2 rおよびn3rは、それ
ぞれ第一記録層、第二記録層および第三記録層の再生用
のレーザー波長における複素屈折率の実数部分を表わし
、k + r、k 2 rおよびに3rは、そわぞれ第
一記録層、第二記録層および第三記録層の再生用のレー
ザー波長における複素屈折率の虚数部分を表わす。] を満足する層であることを特徴とする光情報記録媒体に
ある。
りである。
記の条件 (8): n 3111+ k sm< 5 、 26
(8)[但し、n3.、およびに3asは、それぞれ第
三記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分
および虚数部分を表わす。] を満足する層である上記光情報記録媒体。
記の条件 (8)および (9):n 3.、+ k
3.< 5 、 26 (8)1≦n3r≦4
(9) [但し、n3+mおよびに3゜は、それぞれ第三記録層
の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚
数部分を表わし、n3rは、第三記録層の再生用のレー
ザー波長における複素屈折率の実数部分を表わす。] を満足する層である上記光情報記録媒体。
記の条件 (10) : n 3a十k 3m≧5.26 (10)[但し、
n3mおよびに3J、上記定義と同じ意味を表わす。] を満足する層である上記光情報記録媒体。
記の条件 (101、(目)および (12) :n
3rm” k 3+m≧5.26 (10)k3
es≧1.0 (11)n3r≦に3.
(12)[但し、n3mおよびに3mは
、上記定義と同じ意味を表わす。] を満足する層である上記光情報記録媒体。
が設けられている上記光情報記録媒体。
0nの範囲にある上記光情報記録媒体7)上記条件(7
)、 (10) (11)および(12)を満足す
る第三記録層の層厚が、5〜40nmの範囲にある上記
光情報記録媒体 8)上記基板のプレグルーブのない表面に、プレピット
が設けられていることを特徴とする上記光情報記録媒体 9)第一記録層の複素屈折率の実数部分(屈折率) n
1rと第二記録層の複素屈折率の実数部分n2r、どの
差が0.5以上である上記光情報記録媒体。
条件(5)および(6)を満足する第三記録層の複素屈
折率の実数部分n3rとの屈折率の差が、0.5以上あ
ることを特徴とする上記光情報記録媒体。
くとも一層の消衰係数である複素屈折率の虚数部分(k
+r、 k2rまたはに3r)が0.01以上あること
を特徴とする上記光情報記録媒体。
も色素であることを特徴とする上記光情報記録媒体。
であることを特徴とする上記光情報記録媒体。
が0〜0.3の範囲にあることを特徴とする上記光情報
記録媒体。
ミタソキノキサリン系色素、チアゾール系色素、インド
レニン系色素、メロシアニン系色素およびフタロシアニ
ン系色素から選ばわる少なくとも一種であることを特徴
とする上記光情報記録媒体。
ミタゾキノキサリン系色素、チアソール系色素、インド
レニン系色素、メロシアニン系色素およびフタロシアニ
ン系色素から選ばれる少なくとも一種であることを特徴
とする上記光情報記録媒体。
を特徴とする上記光情報記録媒体。
ることを特徴とする上記光情報記録媒体。
ることを特徴とする上記光情報記録媒体。
の範囲にある半値幅および400〜4000λの範囲に
ある深さを有することを特徴とする上記光情報記録媒体
。
を特徴とする上記光情報記録媒体。
の屈折率と消衰係数(複素屈折率の実数部分と虚数部分
)を有する記録層三層を基板上に有する光情報記録媒体
である。このような構成を採ることによって、簡易な製
造方法により得られることができるという大きな利点を
有しながら且つ高い反射率を有する光情報記録媒体を得
ることができる。
長領域に亙って60%以上の高い反射率を示す光情報記
録媒体を得ることができる。
有する光ディスクに比べて、長いビットの信号を歪が極
めて小さい状態で記録することがてきる。さらに、プレ
ピット付きの金属反射層を有する光ディスクでは、プレ
ピット領域も記録領域も同じ層構成にした場合にプレピ
ット信号が再生できないとの問題があったが、本発明の
光情報記録媒体では、プレピット領域に記録領域と同し
三層構成の記録層を設けてもプレピットの信号を精確に
読み取ることができる。従って、プレピット領域と記録
領域とに同時釘記録層の形成が出来るため、プレピット
を有する光ディスクを簡易に製造することができる。
形成できる層構成であって、且つ高い反射率を示す光情
報記録媒体を得るため鋭意研究を重ね、本発明に到達し
たものである。
三層積層された基本構成を有し、三層がそれぞれ異なっ
た屈折率と消衰係数(複素屈折率の実数部分と虚数部分
)とを有する(但し、第一と第三は同してもよい)。
照しながら説明する。
、有機物からなる第二記録層13および有機物からなる
第三記録層14かこの順で設けられた基本構成を有する
光ディスクの断面図である。
プレピットが設けられたもので、通常プラスチック材料
からなるものが好ましい。基板の屈折率は一般に1.6
前後で、光の透過の程度を表わす消衰係数は0に近い。
且つ下記の条件(1)および(2):D1r≧1.8
(1) k1r≦0.5 (2) [但し、n1rは、第一記録層の再生用のレーザー波長
における複素屈折率の実数部分を表わし、k1rは、第
一記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率の
虚数部分を表わす。コを満足する複素屈折率の実数部分
(屈折率)と虚数部分(消衰係数)の値を有する。
≦k1r≦0.5、好ましくは11.0≧n1r≧2r
0および0≦k1r≦0.3、特に好ましくは10.0
≧n1r≧2r2および0≦k1r≦062である。
などを用いることができる。すなわち、色素等を溶剤に
溶解した塗布液をスピンコード法等により塗布すること
により形成することができる。第一記録層は高い屈折率
(n、、)と低い消衰係数(kIr)を有している。従
って、基板と第記録層と屈折率の差は大きく、基板と第
一記録層との界面での反射率は一般に30〜70%程度
得られる。消衰係数(kl、、)は低く反射した光以外
の殆どの光は透過する。
Is” k Im≧5.26 (13)[但し
、n1mおよびに1.、は、それぞれ第一記録層の極大
吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚数部分
を表わす。] を満足する場合、特に高い反射率が得られ易い 第二記録層は、有機物(好ましくは高分子化合物)から
なり且つ下記の条件(3)および(4):n2r< 1
、8 (3)k2r≦0.5
(4) [但し、n2rは、第二記録層の再生用のレーザー波長
における複素屈折率の実数部分を表わし、k2rは、第
二記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率の
虚数部分を表わす。]を満足する複素屈折率の実数部分
(屈折率)と虚数部分(消衰係数)の値を有する。
に2r≦0.5、好ましくは1,0≦02r、≦1.7
および0≦に2r≦0.3、特に好ましくは1.0≦n
2r≦1.6および0≦に2r≦0.1ある。
るいは色素などを用いることができ、これらを溶剤に溶
解した塗布液をスピンコード法等により塗布することに
より形成することができる。第二記録層は、屈折率(n
2r)は低く、第記録層との屈折率の差により第一記録
層と第二記録層との界面で光は少し反射する。この屈折
率の差は、0.5以上が好ましく、特に好ましくは1.
0以上である。このように差を大きくとることにより、
反射光以外の記録再生時に検出することができない散乱
光の量を小さくすることかできる。第二記録層の消衰係
数(k2r)は低いのて反射しなかった光の殆どは透過
する。この第二記録層は、いわゆるエンハンス層に当た
るもので、第一記録層と第三記録層に介在させることに
より反射率を向上させることができる。
下記の条件(5)および(6)、または(7)を満足す
る複素屈折率の実数部分(屈折率)と虚数部分(消衰係
数)の値を有する層である。
における複素屈折率の実数部分を表わし、k3.、は、
第三記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率
の虚数部分を表わす。]を満足する層は、複素屈折率の
実数部分と虚数部分が12r0≧n3r≧1.8および
0≦に3r≦0.5が一般的であり、11,0≧n3.
、≧2r0および0≦に3r≦0.3が好ましく、特に
10゜0≧n3r≧2r2および0≦に3r≦0.2が
好ましい。上記範囲は第一記録層の範囲と同じである。
たは (11) : n 3+m+ k 3m< 5 、 26 (
8)n 3.+ k 3.≧5.26 (10)
[但し、n3mおよびに3+aは、それぞれ第三記録層
の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚
数部分を表わす。] 上記条件 (8)を満たすことは、高反射率を維持しな
がら、特に記録再生特性を重視した場合に効果的てあり
、上記条件 (lO)を満たすことは、優れた記録再生
特性を維持しなから、特に広い波長範囲て高い反射率を
得たい場合に効果的であると言える。
下記の条件 (9): 1≦n3r≦4(9) [但し、n3rおよびk 3 rは、それぞれ第三記録
層の再生用のレーザー波長における複素屈折率の実数部
分および虚数部分を表わす。]を満足する層であること
が好ましい。
4.0≧n3r≧1.0および1.0≦に3r≦10で
あり、35≧n3r≧1.0および12≦に3r≦8.
0か好ましく、特に3.0≧n3.。
の条件 (11)および (12) :に3+m≧t
、o (II)n3r≦に3.
(12)[但し、n3r、k3rおよびに3゜は
、上記定義と同じ意味を表わす。] を満足する層であることが好ましい。
を設けた場合、広い波長領域に亙って顕著に高い反射率
が得ることができる。
般に10≧n3r≧0.5および1.0≦に3r≦10
であり、7≧n3r≧1および2≦に3r≦6が好まし
く、特に4≧n3r≧1.5および3≦に3r≦5が好
ましい。
、条件(5)および(6)を満足する層でも、条件(7
)を満足する層でも、どちらでも良い。
た塗布液をスピンコード法等により塗布することにより
形成することができる。
、第二記録層と第三記録層との界面では、基板と第一記
録層との界面での反射光量と同等以上の大きな反射光量
が得られる。こtは、第記録層の屈折率は、基板の屈折
率より小さく設定されているためである。第二と第三記
録層の屈折率の差は第一と第二記録層の差と同様、0.
5以上が好ましく、特に好ましくは1.0以上である。
高く、透過する光量は小さい。
3.)は高くなくても良いが、消衰係数(k3.、)が
高いことが必要である。すなわち、消衰係数が高いので
、第二記録層からのレーザー光はほとんど第三記録層を
透過せず、大部分の光は、反射され、高い反射率を示す
。
)および(12)も満足する)を満足する第三記録層は
、上記条件(7)を満足する第三記録層の中でも特に高
い反射率を示す。それは、前者の層の消衰係数か後者に
比へて相対的に広い波長領域で大きな値を示すためであ
る。
録層は全て塗布により形成することができる光情報記録
媒体であるにもかかわらず、従来色素記録層上に金属反
射層やエンハンス層をスパッタリング等により設けた場
合にのみ得られる高い反射率を獲得している。すなわち
、高い屈折率と低い消衰係数を有する第一記録層(通常
の色素記録層に当たる)、低い屈折率と極く低い消衰係
数を有する第二記録層(通常のエンハンス層に当たる)
そして第一記録層と同じ高い屈折率と低い消衰係数を有
するか、あるいは通常の金属などのように高い消衰係数
を有する第三記録層(通常の構成では反射層に当たる)
からなる構成を採ることによって、高い反射率を有する
光情報記録媒体を得ることかできる。上記前られる反射
率は、般に50%以上であり、60%以上が好ましく、
特に70%以上が好ましい。そして屈折率と消衰係数を
上記範囲内にすることによって、記録再生特性も損なう
ことはない。
反射層を有する光ディスクに比較して、長いビットの信
号を歪が極めて小さい状態で記録することができる。さ
らに、プレピット付きの金属反射層を有する光ディスク
では、プレピット領域も記録領域も同じ層構成にした場
合にプレピット信号が再生できないとの問題があった。
ット領域も記録領域も同じ三層構成の記録層を設けても
プレピットの信号を精確に読み取ることができる。従っ
て、プレピット領域と記録領域とに同時に記録層の形成
が出来るため、プレピットを有する光ディスクを簡易に
製造することができる。
第二と第三記録層を設けてもよく、製造工程上許されれ
ば第二と第三記録層との積層を一単位として複数回(好
ましくは2〜5回)81層を行なってもよい。このよう
にすることにより、さらに高い反射率を得ることができ
る。
造は、たとえば以下に述べるような材料を用いて行なう
ことができる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、ガラス、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:エボキ
シ樹脂;ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレ
フィンおよびポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性
、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリカー
ボネート、アモルファスポリオレフィンおよびポリメチ
ルメタクリレートを挙げることかできる。
号等の情報を表わす凹凸の形成の目的て、プレクループ
またはプレグルーブとプレピットか設けられる。プレピ
ットはプレグルーブのない内周側に形成されるのが一般
的である。基板材料がプラスチックの場合は、射出成形
あるいは押出成形などにより直接基板にプレグルーブお
よびプレピットが設けられことが好ましい。
等を形成することにより設けてもよい。
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種の千ツマ−(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層
の形成は、まず鯖密に作られた母型(スタンパ−)上に
上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混
合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたの
ち、基板または母型を介して紫外線の照射により液層を
硬化させて基板と液相とを固着させる。次いて、基板を
母型から剥離することによりプレグルーブ層の設けられ
た基板が得られる。ブレクループ層の層厚は一般に0.
05〜100μmの範囲にあり、好ましくは0.1〜5
0μmの範囲である。
.0μmの範囲で、好ましくは0.3〜0.8μmの範
囲、特に好ましくは0.4〜0.7μmの範囲であり、
そして深さか一般に400〜4000Xの範囲、好まし
くは600〜3000Xの範囲、そして特に好ましくは
600〜2000λの範囲である。
および(2): n1r≧t、s (1) k1r≦0.5 (2) [但し、n1rは、第一記録層の再生用のレーザー波長
にあける複素屈折率の実数部分(屈折率)を表わし、k
l、、は、第一記録層の再生用のレーザー波長における
複素屈折率の虚数部分(消衰係数)を表わす。] を満足する屈折率と消衰係数の値を有するものであれば
何でもよい。一般に吸収極大の波長が、レーザーの記録
または再生波長より50〜200nm程度短波長側にあ
る色素の中から選択される。好ましくは、シアニン系色
素、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色素および
ナフタロシアニン系色素である。
よび(4): n 2r< 1 、 8 (3)
k2r≦0.5 (4)[但し、
n2rは、第二記録層の再生用のレーザー波長における
複素屈折率の実数部分(屈折率)を表わし、k2rは、
第二記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率
の虚数部分(消衰係数)を表わす。] を満足する屈折率と消衰係数の値を有するものであわば
何でもよい。
化合物を挙げることができる。例えば、フェノール樹脂
、メラミン樹脂、アリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル・ポリ酢酸ビニル共重合体、ポリフッ化ビニリデン
、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイ
オノマー樹脂、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリス
チレン、アクリルニトリル・スチレン共重合体、ABS
樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリ
酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリアセタール、塩素
化ポリエチレン、塩素化ポリ−チル、ポリアミド、弗素
樹脂、ポリフェニレンオキシド、酢酸セルロース系樹脂
、硝酸セルロース系樹脂、酢酸酪酸セルロース系樹脂、
ポリブタジェン、アクリルニトリル樹脂、ポリエチレン
テレフタレートおよびポリブテンを挙げることかてきる
。
。そのような色素としては、一般に吸収極大の波長が、
レーザーの記録または再生波長より200nm程度以上
短波長側にある色素、あるいは1100n程度以上長波
長側にある色素の中から選択できる。好ましくは、シア
ニン系色素、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色
素およびナフタロシアニン系色素である。
および(6): n3r≧1.8 (5) k3r≦0.5 (6) または(7): に3r≧1(7) [但し、n3rは、第三記録層の再生用のレーサー波長
における複素屈折率の実数部分(屈折率)を表わし、k
3rは、第三記録層の再生用のレーザー波長における複
素屈折率の虚数部分(消衰係数)を表わす。] を満足する屈折率および消衰係数の値を有するものであ
れば何でもよい。
条件(8): n 3111 + k 3m < 5 、 26
(8)[但し、n3ssおよびに3mは、そわそれ
第三記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部
分および虚数部分を表わす。] を満足することが好ましく、特に下記の条件(9): 1≦n3r≦4(9) [但し、n3mおよびに3.は、それぞれ第三記録層の
最大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚数
部分を表わす。] を満足することか好ましい。
下記の条件 (10) : n 3.、十k 3m≧5.26 (10)
を満足することか好ましく、特に下記の条件(11)お
よび(12) : に3m≧t、o (11) n3r≦に3、 (]2) [但し、n3r、 3rsn3vaおよびに3a+は、
上記定に 義と同じ意味を表わす。] を満足することが好ましい。
に第一記録層と同じ材料を用いることかできる。
波長が、レーザーの記録または再生波長の付近にある色
素が好ましい。好ましくは、シアニン系色素、メロシア
ニン系色素、フタロシアニン系色素およびナフタロシア
ニン系色素である。
、それぞれ50〜10000λの範囲が数的で、好まし
くは100〜100OOXの範囲であり、特に好ましく
は400〜3000λの範囲である。
同時に下記条件 (13) : n 1a+ k let≧5.26 (13)を満
足する場合、あるいは 上記条件(5)および(6)を満足する第三記録層か、
同時に下記条件 (10) n 3.、+ k 3.≧5.26 (10)を満
足する場合は、共に層厚を50〜1000λの範囲にす
ることが好ましく、さらに100〜800大の範囲にす
ることが好ましい。
上記の条件(10)、 (11)および (12)
:n 3.、十k 3ea≧5.26 (11)k
3a≧t、o (12)n3r≦に3.
(13)を同時に満足する場合は、層厚を
400〜10000Xの範囲にすることが好ましく、さ
らに1000〜3000スの範囲にすることが好ましい
。
れる色素は、下記の中がら上記要件を満たすものを適宜
選択することがてきる。
色素などのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ビ
リリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなとの金属錯塩
系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、イン
ドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェ
ニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシア
ン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジイン
モニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることがで
きる。
る。
−”N (CH3) 2 CJ204(ただし、 nは2または3である) (たたし、Rは水素原子またはN(CH3)2である) [4] Φ” −L −”f (X−−)I/
−(たたし、Φおよび甲はそれぞれ芳香族環か縮合し
ていてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、
オキサゾール環残基、セレナソール環残基、イミダゾー
ル環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基
またはイミタゾキノキサリン環残基であり、Lはモノカ
ルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニン
またはテトラカルボシアニンを形成するための連結基で
あり、xI′′−はm価の陰イオンであり、mは1また
は2であり、さらにxl−はΦ、Lまたは宇土に置換し
て分子内塩を形成しても良く、またΦとし、またはLと
市とはさらに連結して環を形成しても良い) 上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては、
以下の1〜47を挙げることができる。
ドフェノール系色素: (ただし、R1とR2、R2とR3R3とR’、R’と
RS 、 R5とR6およびR6とR7の組合せのうち
少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環
または脂肪族環による環を形成し、該環を形成しないと
きのRl 、 R2R3、R4R5、R6およびR7は
それぞわ水素原子、ハロゲン原子またはm個の有機残基
であり、あるいはR1とR2B 3とR4、R4とRS
R5とR6およびR6とR7の組合せのうち少なく
とも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形
成してもよく、Aは二重結合によって結合した二価の有
機残基であり、Z−はアニオン残基である。なお、アズ
レン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子
で置き換えら(たたし、XおよびYはそれぞれ水素原子
、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハ
ロゲン原子であり、R1,R2およびR3はそれぞれ水
素原子、CI〜C2゜の置換または未置換のアルキル基
、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、
Aは一5O8NH−1−NHCO−または−CONH−
であり、この色素分子が金属に配位してし1ても良い) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1−R4はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二個の遷移金属原子である) (ただし、[Cat]は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi、Cu、C01Pdまた
はptであり、nは1または2である) (ただし、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル
基、ハロゲン原子または(ただし、[Cat]は錯塩を
中性ならしめるために必要な陽イオンであり、MはNi
、Cu、Co、Pdまたはptであり、nは!または2
である) 換または未置換のアルキル基またはアリール基である)
であり、Mは遷移金属原子であり、nはθ〜3の整数で
ある) 子またはメチル基であり、nは1〜4の整数であり、A
は第四級アンモニウム基である)びR2はそれぞれ1〜
3の整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチル
アミノ基、ヘンシイルアミノ基(置換ベンゾイルアミノ
基を含む)であり、Xlとx2、nlとn2JよびR1
とR2はそわそわ互いに同じてあフても異なっていても
よく、MはCrまたはCo原子であり、Yは水素、ナト
リウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム
(置換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環族アンモ
ニウムである)vi)ナフトキノン系、アントラキノン
系色素:(ただし、xlおよびx2はそれ+′わニトロ
基および/またはハロゲン原子であり、nlおよす (ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミン基である)(たたし、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ
基である)(ただし、Xはハロゲン原子てあり、nは0
〜10の整数である) (たたし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である)(ただし、Xはハロゲ
ン原子である) vii)インドリジン系色素: (式中、R1及びR4は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していても
よいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニル
アミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わし、R”及びR”は、そゎそ
れ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に
置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基
、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ基
、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有し
ていてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を
表わし、R2、R3,R6、Re及びR7は、それぞれ
独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置
換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を表わし、R2及びR3がアルキル基で
あるときR2とR3とは一緒になって環を形成してもよ
く、R5及びR6がアルキル基であるときR5とR6と
は一緒になって環を形成してもよく、X−はアニオンを
表わす。) 以下余白 Vjij) は同一でも異なっても良い。] 上記−数式で表わされる化合物の具体例として、下記の
[23]、 [24]および[25]を挙げることがで
きる。
ン原子またはm個の有機残基であり、あるいは隣接する
HkとRk+l(kは1〜15の範囲の整数で且つに≠
4n(nは1.2、または3である))の組み合せのう
ち少なくとも一つの組み合せで置換もしくは未置換の芳
香族を形成しても良く、MはSi、GeまたはSnを表
わし、Yはアリールオキシ基、アルコキシ基、トリアル
キルシロキシル基、トリアリールシロキシ基、トリチル
オキシ基またはアシロキシ基を表わし、そして二個のY
[23〕 [25] [24] 以 下 余 臼 上記第−記録層、第二記録層および第三記録層の層か色
素層の場合は次のように形成される。すなわち、色素層
の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を溶剤に
溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面
に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行な
う゛ことができる。
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロパ
ツール、n−ブタノール、ジアセトンアルコールなどの
アルコール、ジメチルホルムアミドなどのアミド、2r
2r3.3−テトラフロロプロパツール等フッ素系溶剤
などを挙げることができる。
内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素溶
剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含んで
いてもよい。
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、ゼラチン、テキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート
、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の
熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子物質を
挙げることができる。さらに、所望により架橋剤を併用
しても良い。
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
記録層、第二記録層および第三記録層の本発明の特定の
屈折率および消衰係数の範囲を逸脱しないように使用す
ることが必要である。結合剤に対する色素の比率は一般
に0.01〜99%(重量比)の範囲にあり、好ましく
は1.0〜95%(重量比)の範囲にある。
上記溶剤および塗布方法を用いて該記録層を形成するこ
とができる。
形成は、例えばスピンコードに用いるスピナーにノズル
を三つ取り付けて、塗布と乾燥を繰り返して連続的に行
なうことができる。従って、基板上に記録層の形成は極
めて容易に行なうことができる。
場合、極めて高い反射率を得ることかできるが、本発明
の塗布のみで製造が可能であることおよびプレピットの
再生が可能という効果を得ることができない。
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo
、W、Mn、Re。
、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、All、Ga、In
、Si% Ge、Te% Pb、Po、Sn、Bi、S
bなどの金属および半金属を挙げることができる。これ
らのうちで好ましいも゛のはAl1.Au、Crおよび
Niである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あ
るいは二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよ
い。
リングまたはイオンブレーティングすることにより基板
の上に形成することができる。反射層の層厚は一般には
100〜3000λの範囲にある。
ハ、Sin、5i02rSi3N4、MgF2,5nO
z等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはUV硬化性樹脂である。本発
明の効果を得るためには有機物質を塗布により設けるこ
とが好ましい。
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することかできる。
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し
、UV光を照射して硬化させることによっても形成する
ことができる。UV硬化性樹脂としては、ウレタン(メ
タ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポ
リエステル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレ
ートのオリゴマー類、(メタ)アクリル酸エステル等の
千ツマー類等さらに光重合開始剤等の通常のUV硬化性
樹脂を使用することができる。これらの塗布液中には、
更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加
剤を目的に応じて添加してもよい。
囲にある。また保護層は着色されても良い。
硬化性樹脂あるいはUV樹脂を加えて形成することによ
り、第三記録層が保護層を兼ねてもよい。
収縮による記録層の変形等を防止するため保護層上に緩
衝層を設けても良い。緩衝層の材料としては、高分子化
合物、金属類を使用することができる。上記緩衝層上に
さらに反射層を設けても良い。
ィスクを覆うことによって保護してもよい 本発明において、光情報記録媒体は上述した構成からな
る単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有す
る二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。また、本発明の記録
層は、CDなどの再生専用の光ディスクのアルミニウム
などの反射層の代わりに使用することもできる。
なわわる。
フォーマット信号の場合は、1,2〜1.4m/秒)で
回転させながら、半導体レーザー光などの記録用の光を
、基板側から該プレグルーブのグループにレーザー光を
照射してCDフォーマットのEFM信号などの信号を、
該グループの記録層にピットを形成することにより記録
する。一般に、記録光としては500〜900nm(好
ましくは750〜850nm)の範囲の発振波長を有す
る半導体レーザービームが用いられる。一般に1〜15
mWのレーザーパワーで記録される。
に近い場合は第三記録層のみにビットが形成され、そう
でない場合は第一記録層にビットおよび第三記録層も変
形すると考えられる。また、レーザーのエネルギーが大
きい時は第二記録層にもピット、変形が起こることも考
えられる。
て第二記録層に色素を用いた場合、第二記録層に記録す
ることが可能である。しかしなから、一般にとれか一層
のみに記録するのは困難て他の層への影響は避けられな
い。
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行な
われる。情報の記録は、ブレクループのグループまたは
グループ間のランドに行なわれる。
または定角速度で回転させながら半導体レーザー光を基
板側から照射してその反射光を検出することにより、3
ビーム法などによるトラッキング制御を行ないながら情
報を再生することかできる。
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。
ルに溶解して2r25重量%の第一記録層形成用塗布液
を調製した。
クツ製、No、668、)O,,6gをシクロヘキサン
15ccとn−ノナン10ccに溶解して第二記録層形
成用塗布液を調製した。
(外径:120mm、内径:15mm、厚さ:1.2m
m、トラックピッチ=1.6μm、クループの幅=0.
5μm、クループの深さ: 800X、グループ位置:
直径45mm〜116mmの範囲)上に、上記第一記録
層形成用塗布液をスピンコード法により回転数2000
rpmの速度で30秒間で塗布、乾燥して層厚が90
0Xの第一記録層を形成した。
コード法により回転数1400 rpmの速度で30秒
間で塗布、乾燥して層厚が100OXの第二記録層を形
成した。
コード法により回転数2000 rpmの速度で30秒
間で塗布、乾燥して層厚が900Xの゛第三記録層を形
成した。
ルを三つ取り付けて、塗布と乾燥を繰り返して連続的に
行なった。
第三記録層からなる光情報記録媒体(第1図参照)を製
造した。
した色素[cy−41]を下記の色素[前記色素: C
Y−38]に変えた以外は実施例1と同様にして光情報
記録媒体を製造した。
幅:0.65μm、グループの深さ:1300Xに変え
た以外は実施例1と同様にして光情報記録媒体を製造し
た。
mの範囲にビットの幅が0.65μmおよびクループの
深さが1300XからなるCDフォーマットのEFM信
号のビット(プレピット)を形成した以外は実施例1と
同様にして光情報記録媒体を製造した。
mの範囲にビットの幅が0.5μmおよびグループの深
さが1300スからなるCDフォーマットのEFM信号
のビット(プレピット)を形成した以外は実施例1と同
様にして光情報記録媒体を製造した。
二および第三記録層を形成せずに実施例1と同様にして
光情報記録媒体を製造した。
二および第三記録層を形成せずに実施例4と同様にして
光情報記録媒体を製造した。
二および第三記録層を形成せずに実施例5と同様にして
光情報記録媒体を製造した。
二および第三記録層を形成せず、第一記録層上にAuを
スパッタリングすることにより層厚1000又の反射層
を形成した以外は実施例4と同様にして光情報記録媒体
を製造した。
録層について下記のように複素屈折率の実数部分(屈折
率)および虚数部分(消衰係数)を測定した。
料を実施例と同様にして塗布にてカラス板に薄層(実施
例と同じ層厚)を形成し、780nmにおける反射率と
透過率を測定して、屈折率(n、)および消衰係数(k
、’)を求めた。
)および消衰係数(kl)も求めた。
+、84第二 ブタジェン/1000 1.50
0.00 −第三 CY−41/900 2r600
.06 2r08 1.84第 CY−4]/900 2r60 0,06 2r08
1.84(72] ) 第二 ブタジェン/1000 1.50 0.00
−第三 CY−38/900 2,101.80 1
.96 1.99[情報記録媒体の評価] 1)反射率(%)およびC/N(dB)上記で得られた
情報記録媒体について、光デイスク評価機(パルステッ
ク工業■製)を用いて、780nmの発振波長を有し、
記録時のレーザーパワー(記録パワー)6mW、線速度
1.3m/秒、変調周波数720kHzおよびデユーテ
ィ33%にて記録を行ない、そして反射率およびC/N
の測定をスペクトラムアナライザー(TR4135:ア
トパンテスト社製)を用いて、RBW = 30 k
Hz、VBW=100Hz、再生パワー0.5mWにて
行なった。
、信号部分と信号の無い部分(ミラー部)のそれぞれの
信号の強度を測定してその変調度(C)を次式より求め
た。
:ミラーの信号強度) 3)プレピットの読み取り 上記記録されたCDフォーマットのEFM(3号(プレ
ピット)を市販のCDプレーヤー(SLP777、松下
電器産業■製)を用いてプレピットの読み取りが可能か
どうかを試験した。
をプレピットとして記録した場合(実施例4と5)、読
み取りが可能であり、モしてIITという長いビットの
信号であっても高い変調度が得られる。
クでは、反射率が低く、C/Nも上記実施例より劣って
いる。CDフォーマットのEFM信号をプレピットとし
て記録した場合(参考例2と3)、11Tという長いピ
ットの信号では高い変調度が得られない。
比較例1の光ディスクでは、高い反射率か得られるが、
プレピットの信号を読み取ることができない。
第一記録層、第二記録層および第三記録層からなる本発
明の光ディスクは高い反射率と高次の実施例6〜8には
、特に広い波長領域で高い反射率を示す本発明の光情報
記録媒体の実施例を示す。
100ccに溶解して第一記録層形成用塗布液を調製し
た。
た。
100ccに溶解して第三記録層形成用塗布液を調製し
た。
ート基板上に、上記第一記録層形成用塗布液をスピンコ
ード法により、まず回転数30゜rpmの速度で塗布し
、回転数4000 rpmの速度で90秒間乾燥して層
厚が700又の第一記録層を形成した。
コード法により、まず回転数30 Orpmの速度で塗
布し、回転数200 Orpmの速度て9θ秒間乾燥し
て層厚が900λの第二記録層を形成した。
コード法により、まず回転数300 rpmの速度て塗
布し、回転数1500rpmの速度で90秒間乾燥して
層厚が1040λの第三記録層を形成した。
スピンコード用のノズルを三つ取り付けて、塗布と乾燥
を繰り返して連続的に行なった。
第三記録層からなる光情報記録媒体(第1図参照)を製
造した。
記色素[CY−19]に代えて前記色素[CY−35]
を用い、第一記録層の層厚を700λから600λに変
えた以外は実施例6と同様にして光情報記録媒体を製造
した。
記色素[CY−19] 2r0gに代えて前記色素[[
:Y−4] 1、Ogを用い、第一記録層を下記の塗布
条件で形成した以外は実施例6と同様にして光情報記録
媒体を製造した。
法により、まず回転数300 rpmの速度で塗布し、
回転数1000 rpmの速度で90秒間乾燥して層厚
が700λの第一記録層を形成した。
うに複素屈折率の実数部分(屈折率)および虚数部分(
消衰係数)を測定した。
ラス板に薄層(実施例と同じ層厚)を形成し、780n
mにおける反射率と透過率を測定して、屈折率(n、)
および消衰係数(k、)を求めた。また、各記録層の極
大吸収波長における、屈折率(n6)および消衰係数(
kl)も求めた。
773.79第三 CY−2/1040 0.512r
38 2r174.27第一 CY−35/600 2
r790.06 2r301.78第三 にY−2/1
040 0.512r38 2r174.27第一 C
Y−4/600 4.700.10 1,313.43
第三 CY−2/1040 0.512r38 2,1
74.27尚、第二記録層のnrとに、は、上記実施例
1と同じ値であった。
情報記録媒体について、光デイスク評価機(パルステッ
ク工業■製)を用いて、780nmの発振波長を有し、
記録時のレーザーパワー(記録パワー)6mW、線速度
1.3m/秒、変調周波数720kHzおよびデユーテ
ィ33%にて記録を行ない、そして反射率およびC/N
の測定をスペクトラムアナライザー(TR4135:ア
ドバンテスト社製)を用いて、RBW = 30 k
Hz、VBW=100Hz、再生パワー0.5mWにて
行なった。
52実施例7 71 760−860nm (
60;) 52実施例8 69 770−860
nm (605k) 52上記第3表および第4表よ
り明らかなように。
三記録層からなる本発明の光ディスクは、高反射率を示
すだけでなく、広い波長領域でも高反射率を維持してい
る。ざらにC/Hにおいても高い値を示している。
わ且つ広い波長領域で高い反射率を示すことから多くの
光ドライブに適用性があると考えられる。
ある。 :基板 :第−記録層 :第二記録層 :第三記録層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人 弁
理士 柳 川 秦 男第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に、第一記録層が設けられ、さらに該第一記
録層上に、第二記録層および第三記録層がこの順で積層
された二層構造の積層体の繰り返し単位が少なく一単位
設けられており、そして第一記録層が、有機物からなり
且つ下記の条件(1)および(2): n_1_r≧1.8(1) k_1_r≦0.5(2) を満足する層であり、 第二記録層が、有機物からなり且つ下記の条件(3)お
よび(4): n_2_r<1.8(3) k_2_r≦0.5(4) を満足する層であり、 第三記録層が、有機物からなり且つ下記の条件(5)お
よび(6): n_3_r≧1.8(5) k_3_r≦0.5(6) または(7): k_3_r≧1(7) [但し、n_1_r、n_2_rおよびn_3_rは、
それぞれ第一記録層、第二記録層および第三記録層の再
生用のレーザー波長における複素屈折率の実数部分を表
わし、k_1_r、k_2_rおよびk_3_rは、そ
れぞれ第一記録層、第二記録層および第三記録層の再生
用のレーザー波長における複素屈折率の虚数部分を表わ
す。] を満足する層であることを特徴とする光情報記録媒体。 2、上記条件(7)を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件(8): n_3_m+k_3_m<5.26(8) [但し、n_3_mおよびk_3_mは、それぞれ第三
記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分お
よび虚数部分を表わす。] を満足する層である請求項第1項記載の光情報記録媒体
。 3、上記条件(7)を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件(8)および(9): n_3_m+k_3_m<5.26(8) 1≦n_3_r≦4(9) [但し、n_3_mおよびk_3_mは、それぞれ第三
記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分お
よび虚数部分を表わし、n_3_rは、第三記録層の再
生用のレーザー波長における複素屈折率の実数部分を表
わす。] を満足する層である請求項第1項記載の光情報記録媒体
。 4、上記条件(7)を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件(10): n_3_m+k_3_m≧5.26(10)[但し、n
_3_mおよびk_3_mは、それぞれ第三記録層の極
大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚数部
分を表わす。] を満足する層である請求項第1項記載の光情報記録媒体
。 5、上記条件(7)を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件(10)、(11)および(12):n_3_
m+k_3_m≧5.26(10)k_3_m≧1.0
(11) n_3_r≦k_3_r(12) [但し、n_3_mおよびk_3_mは、それぞれ第三
記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分お
よび虚数部分を表わし、n_3_rおよびk_3_rは
、それぞれ第三記録層の再生用のレーザー波長における
複素屈折率の実数部分および虚数部分を表わす。] を満足する層である請求項第1項記載の光情報記録媒体
。 6、上記基板の表面に、プレグルーブおよびプレピット
が設けられている請求項第1項記載の光情報記録媒体。
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