JPH0445838A - 液体材料供給システムにおける気化器 - Google Patents
液体材料供給システムにおける気化器Info
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- JPH0445838A JPH0445838A JP15127090A JP15127090A JPH0445838A JP H0445838 A JPH0445838 A JP H0445838A JP 15127090 A JP15127090 A JP 15127090A JP 15127090 A JP15127090 A JP 15127090A JP H0445838 A JPH0445838 A JP H0445838A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、例えば半導体製造において用いる四塩化ケイ
素（ＳｉＣ，Ｃ，）などのガスを、液体材料を気化する
ことによって供給する液体材料供給システムにおける気
化器に関する。
素（ＳｉＣ，Ｃ，）などのガスを、液体材料を気化する
ことによって供給する液体材料供給システムにおける気
化器に関する。
従来、前記気化器として、第４図（Ａ）に示すように、
内部に液体材料■５が流れる金属製の細＠３１を、ヒー
タ３２を内蔵したヒータブロック３３に対してその一端
側から挿入し、ヒータ３２によって加熱するごとにより
細管３１内において液体材料りを気化し、ヒータブロッ
ク３３の他端側からガスＧを導出するようにしていた。
内部に液体材料■５が流れる金属製の細＠３１を、ヒー
タ３２を内蔵したヒータブロック３３に対してその一端
側から挿入し、ヒータ３２によって加熱するごとにより
細管３１内において液体材料りを気化し、ヒータブロッ
ク３３の他端側からガスＧを導出するようにしていた。
〔発明が解決しようとする課題ｊ
しかしながら１、上記従来技術においては、細管３１内
において気化によって生じたガスＧが、第３図（Ｂ）に
示すように、液体材料りの間に挟まれるようになること
があるが、細管３１内がこのような状態にあるときは圧
力変動が大きくなり、突沸が生しるなどして配管３１が
破壊されることがあるほか、配管３１が破壊されるに至
らないまでも、上流側の液体材料供給ラインにおＬＪる
液体供給が大きく乱されたり、またζ下流側のガス供給
ラインや半導体製造などにおいて不測の事態を招来する
ことがあった。
において気化によって生じたガスＧが、第３図（Ｂ）に
示すように、液体材料りの間に挟まれるようになること
があるが、細管３１内がこのような状態にあるときは圧
力変動が大きくなり、突沸が生しるなどして配管３１が
破壊されることがあるほか、配管３１が破壊されるに至
らないまでも、上流側の液体材料供給ラインにおＬＪる
液体供給が大きく乱されたり、またζ下流側のガス供給
ラインや半導体製造などにおいて不測の事態を招来する
ことがあった。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、一定流量で供給される液体の気化
に基づく圧力変動が極めて少なく、液体材料を安定に気
化してこれを安定に供給することができる液体材料供給
システムにおける気化器を提供することにある。
目的とするところは、一定流量で供給される液体の気化
に基づく圧力変動が極めて少なく、液体材料を安定に気
化してこれを安定に供給することができる液体材料供給
システムにおける気化器を提供することにある。
［課題を解決するための手段〕
上述の目的を達成するため、本発明に係る液体÷１料供
給システムにおける気化器は、ヒータを内蔵したヒータ
ブロック内に、内部に熱伝導性および百１腐食性の良好
な粉体を充填してなる気化室を形成し、この気化室の一
端側に、液体材料源に接続され、前記粉体の直径よりも
小さい内径を有する細径部を先端に備えた液体導入管と
、キャリアガス源に接続されたキャリアガス導入管とを
接続すると共に、前記細径部を前記粉体の充填された部
分に挿入する一方、前記気化室の他端側から、気化によ
って生じたガスをキャリアガスによって導出するように
した点に特徴がある。
給システムにおける気化器は、ヒータを内蔵したヒータ
ブロック内に、内部に熱伝導性および百１腐食性の良好
な粉体を充填してなる気化室を形成し、この気化室の一
端側に、液体材料源に接続され、前記粉体の直径よりも
小さい内径を有する細径部を先端に備えた液体導入管と
、キャリアガス源に接続されたキャリアガス導入管とを
接続すると共に、前記細径部を前記粉体の充填された部
分に挿入する一方、前記気化室の他端側から、気化によ
って生じたガスをキャリアガスによって導出するように
した点に特徴がある。
上記構成によれば、ヒータブロック内に形成された気化
室内に充填された粉体はヒータによって加熱される。そ
して、液体導入管内を流れる液体材料は細径部を経て加
熱された粉体内に導入されて粉体と接触し、その接触面
積が大きいため、液体材料は短時間のうちに気化して所
望のガスになる。従って、突沸が生ずることがなくなり
、」−流側の配管に悪影響が及ぼされることがなくなる
と共に、一定流量で供給される液体が気化しても圧力変
動が殆ど生ずることがな（、しかも、気化により発生じ
たガスはキャリアガスによって速やかに下流側に導出さ
れるので、常に安定した流量の気化ガスを供給すること
ができる。
室内に充填された粉体はヒータによって加熱される。そ
して、液体導入管内を流れる液体材料は細径部を経て加
熱された粉体内に導入されて粉体と接触し、その接触面
積が大きいため、液体材料は短時間のうちに気化して所
望のガスになる。従って、突沸が生ずることがなくなり
、」−流側の配管に悪影響が及ぼされることがなくなる
と共に、一定流量で供給される液体が気化しても圧力変
動が殆ど生ずることがな（、しかも、気化により発生じ
たガスはキャリアガスによって速やかに下流側に導出さ
れるので、常に安定した流量の気化ガスを供給すること
ができる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明する
。
。
第１図は本発明に係る気化器の一例を示し、この図にお
いて、１は例えばステンレス鋼など熱伝導性並びに耐腐
食性の良好な金属よりなるパイプで、例えばアルミニウ
ムなど熱伝導性の良好なヒータブｎ ツク２に開設され
た貫通孔３内を挿通ずるよ・うに設けられている。ヒー
タブロック２内にはヒータブロック２およびパイプ１を
加熱するためのヒータ４が内蔵されている。
いて、１は例えばステンレス鋼など熱伝導性並びに耐腐
食性の良好な金属よりなるパイプで、例えばアルミニウ
ムなど熱伝導性の良好なヒータブｎ ツク２に開設され
た貫通孔３内を挿通ずるよ・うに設けられている。ヒー
タブロック２内にはヒータブロック２およびパイプ１を
加熱するためのヒータ４が内蔵されている。
そして、パイプ１のヒータブロック２内の部分には、熱
伝導性並びに耐腐食性の良好な粉体５が充填されている
と共に、その上流側の入口側には液体導入管８（後述す
る）が挿入してあって、気化室６に形成しである。粉体
５としては例えばステンレス鋼やチタンなどの金属また
はＳｉＣなどのセラミックスを、直径が１００μｍ以上
、好ましくは１２０７１ｍ程度の粉体に形成したものが
用いられる。７Ａ、 ７Ｂは気化室６の両端部近傍に設
けられるメツシブ６体で、粉体５が気化室６から出ない
ようにするためにその網目の大きさは例えば２０μｍ程
度にしてあり、下流側のメツシュ体７Ｂはフィルタとし
ても機能する。
伝導性並びに耐腐食性の良好な粉体５が充填されている
と共に、その上流側の入口側には液体導入管８（後述す
る）が挿入してあって、気化室６に形成しである。粉体
５としては例えばステンレス鋼やチタンなどの金属また
はＳｉＣなどのセラミックスを、直径が１００μｍ以上
、好ましくは１２０７１ｍ程度の粉体に形成したものが
用いられる。７Ａ、 ７Ｂは気化室６の両端部近傍に設
けられるメツシブ６体で、粉体５が気化室６から出ない
ようにするためにその網目の大きさは例えば２０μｍ程
度にしてあり、下流側のメツシュ体７Ｂはフィルタとし
ても機能する。
８は液体材料りを気化室６内に導入するためのキャピラ
リのように細管（内径が例えば０．４ｍｍ）よりなる液
体導入管で、パイプ１の」二流側にこれと同心状に設け
られている。この液体導入管８の上流側は配管９を介し
て液体材料源（図外）に接続され、下流側は第２図にも
示すように、上流側のメツシュ体７Ａを貫通してこのメ
ソシュ体７八よりも下流側、すなわち、気化室６内に突
設され、先端には粉体５の直径よりも小さい内径（例え
ば０．１ｍｍ）を有する細径部１０が形成されており、
この細径部１０は粉体５が充填された部分に挿入されて
いる。
リのように細管（内径が例えば０．４ｍｍ）よりなる液
体導入管で、パイプ１の」二流側にこれと同心状に設け
られている。この液体導入管８の上流側は配管９を介し
て液体材料源（図外）に接続され、下流側は第２図にも
示すように、上流側のメツシュ体７Ａを貫通してこのメ
ソシュ体７八よりも下流側、すなわち、気化室６内に突
設され、先端には粉体５の直径よりも小さい内径（例え
ば０．１ｍｍ）を有する細径部１０が形成されており、
この細径部１０は粉体５が充填された部分に挿入されて
いる。
なお、細径部１０の下流側の先端とメツシュ体７＾との
距離、すなわち、液体導入管８の粉体５内への挿入長さ
は、例えば粉体充填部分の長さを１５０ｍｍとするとき
、１０〜１５卸が適当である。
距離、すなわち、液体導入管８の粉体５内への挿入長さ
は、例えば粉体充填部分の長さを１５０ｍｍとするとき
、１０〜１５卸が適当である。
再び第１図において、１１は配管９とパイプ１との接続
部分１２と気化室６との間においてパイプ１に接続され
るブロック状の管継手で、熱伝導性並びに耐腐食性の良
好な金属（例えばステンレス鋼）よりなり、その上流側
にはキャリアガス源（図外）に接続された曲がりくねっ
たキャリアガス導入管１３が接続されている。ここで用
いられるキャリアガスとしては、Ｈ２、Ｈｅ、Ｎ２など
がある。また、１４はヒータブロック２．管継手１１お
よびキャリアガス導入管１３を収容するための断熱構造
のハウジングである。１５は気化ガス導出口で、その下
流側には例えば半導体製造装置（図外）が接続されてお
り、また、１６はキャリアガス導入口である。
部分１２と気化室６との間においてパイプ１に接続され
るブロック状の管継手で、熱伝導性並びに耐腐食性の良
好な金属（例えばステンレス鋼）よりなり、その上流側
にはキャリアガス源（図外）に接続された曲がりくねっ
たキャリアガス導入管１３が接続されている。ここで用
いられるキャリアガスとしては、Ｈ２、Ｈｅ、Ｎ２など
がある。また、１４はヒータブロック２．管継手１１お
よびキャリアガス導入管１３を収容するための断熱構造
のハウジングである。１５は気化ガス導出口で、その下
流側には例えば半導体製造装置（図外）が接続されてお
り、また、１６はキャリアガス導入口である。
而して、上記構成の気化器の動作について説明すると、
先ず、ヒータ４を発熱させて気化室６内に充填された粉
体５を所定の温度に加熱する。この状態において、キャ
リアガスをキャリアガス導入管１３を経てパイプｌ内に
導入しながら液体導入管８を介して液体材料りを気化室
６に導入する。
先ず、ヒータ４を発熱させて気化室６内に充填された粉
体５を所定の温度に加熱する。この状態において、キャ
リアガスをキャリアガス導入管１３を経てパイプｌ内に
導入しながら液体導入管８を介して液体材料りを気化室
６に導入する。
このとき、液体材料１７は細径部１０を経て加熱された
粉体５内に導入されて粉体５と接触し、その接触面積が
大きいため、液体材料りは短時間のろうに気化し７て所
望のガスになる。この場合、液体導入管８内を流れてき
た液体材料Ｉ、はこれよりも小径の細径部１０を経て粉
体５側に流れ出るので、突沸することがなくスムーズに
気化が行われると共に、気化によって圧力上昇が生じて
も、その圧力は細径部１０によって緩和されるので、上
流側には圧力上昇圧が急激に伝わることがなく、従、っ
て、液体材料■、を供給するラインへの悪影響がなぐな
る。そして、前記気化により発生じたガスは、パイプ１
およびメツシュ体７八を経て気化室６内に導入されてい
るキャリアガスによって速やかに下流側に導出され、下
流側の半導体製造装置（図外）に気化ガスを供給するこ
とができる。そして、液体材料りの供給量を変えても、
第３図に示すように、常に安定した流量の気化ガスを供
給することができる。また、液体材料りの供給を停止し
た場合、キャリアガスによるパージ効果により、第３図
のｐ部分に示すように、速やかな立ち下がりが得られる
。
粉体５内に導入されて粉体５と接触し、その接触面積が
大きいため、液体材料りは短時間のろうに気化し７て所
望のガスになる。この場合、液体導入管８内を流れてき
た液体材料Ｉ、はこれよりも小径の細径部１０を経て粉
体５側に流れ出るので、突沸することがなくスムーズに
気化が行われると共に、気化によって圧力上昇が生じて
も、その圧力は細径部１０によって緩和されるので、上
流側には圧力上昇圧が急激に伝わることがなく、従、っ
て、液体材料■、を供給するラインへの悪影響がなぐな
る。そして、前記気化により発生じたガスは、パイプ１
およびメツシュ体７八を経て気化室６内に導入されてい
るキャリアガスによって速やかに下流側に導出され、下
流側の半導体製造装置（図外）に気化ガスを供給するこ
とができる。そして、液体材料りの供給量を変えても、
第３図に示すように、常に安定した流量の気化ガスを供
給することができる。また、液体材料りの供給を停止し
た場合、キャリアガスによるパージ効果により、第３図
のｐ部分に示すように、速やかな立ち下がりが得られる
。
また、上記実施例においては、ヒータブし１ツク２、管
継手１１およびキャリアガス導入管１３が断熱構造のハ
ウジング１４内に設けであるので、外周の温度に影響さ
れることなく、液体材料Ｉ、の気化が行われ、特に、キ
ャリアガス導入管１３がヒータブロック２からの輻射熱
によって加熱され、キャリアガスがある程度の温度に保
温されているので、気化ガスとの温度差がほとんどなく
、従って、気化ガスが冷却されて液化されるといったこ
とが防止される。
継手１１およびキャリアガス導入管１３が断熱構造のハ
ウジング１４内に設けであるので、外周の温度に影響さ
れることなく、液体材料Ｉ、の気化が行われ、特に、キ
ャリアガス導入管１３がヒータブロック２からの輻射熱
によって加熱され、キャリアガスがある程度の温度に保
温されているので、気化ガスとの温度差がほとんどなく
、従って、気化ガスが冷却されて液化されるといったこ
とが防止される。
上述の上流側においては、ヒータブロック２内にパイプ
１を挿通し、その挿通部分を気化室６としていたが、ヒ
ータブロック２に設けた貫通孔３そのものを気化室とし
、その上流側および下流側にパイプ１を接続するように
してもよい。また、細径部１０を含む液体導入管８を管
継手１１に対して着脱自在に取付けられるようにし、液
体材料りやその流量などに合わせた内径を有する液体導
入管８を使用できるようにしてもよい。
１を挿通し、その挿通部分を気化室６としていたが、ヒ
ータブロック２に設けた貫通孔３そのものを気化室とし
、その上流側および下流側にパイプ１を接続するように
してもよい。また、細径部１０を含む液体導入管８を管
継手１１に対して着脱自在に取付けられるようにし、液
体材料りやその流量などに合わせた内径を有する液体導
入管８を使用できるようにしてもよい。
〔発明の効果］
本発明に係る液体材料供給システムにおける気化器は以
上のように構成されるので、液体の気化に基づく圧力変
動が極めて少なく、液体材料を安定に気化してこれを安
定に供給することができ、また、液体材料を供給するラ
インに悪影響が及ぼされることがない。
上のように構成されるので、液体の気化に基づく圧力変
動が極めて少なく、液体材料を安定に気化してこれを安
定に供給することができ、また、液体材料を供給するラ
インに悪影響が及ぼされることがない。
第１図は本発明に係る液体材料（Ｊｊ給給入ステムおけ
る気化器の一例を示す図、第２図はその要部を拡大して
示す部分断面図、第３図は前記気化器の気化特性を示す
図である。 第４図は従来技術を説明するための図で、同図（Ａ）は
従来の気化器を示す図、同図（Ｂ）はその問題点を説明
するための図である。 ２・・・ヒータブロック、４・・・ヒータ、５・・・粉
体、６・・・気化室、８・・・液体導入管、１０・・・
細径部、１３・・キャリアガス導入管。
る気化器の一例を示す図、第２図はその要部を拡大して
示す部分断面図、第３図は前記気化器の気化特性を示す
図である。 第４図は従来技術を説明するための図で、同図（Ａ）は
従来の気化器を示す図、同図（Ｂ）はその問題点を説明
するための図である。 ２・・・ヒータブロック、４・・・ヒータ、５・・・粉
体、６・・・気化室、８・・・液体導入管、１０・・・
細径部、１３・・キャリアガス導入管。
Claims (1)
- ヒータを内蔵したヒータブロック内に、内部に熱伝導
性および耐腐食性の良好な粉体を充填してなる気化室を
形成し、この気化室の一端側に、液体材料源に接続され
、前記粉体の直径よりも小さい内径を有する細径部を先
端に備えた液体導入管と、キャリアガス源に接続された
キャリアガス導入管とを接続すると共に、前記細径部を
前記粉体の充填された部分に挿入する一方、前記気化室
の他端側から、気化によって生じたガスをキャリアガス
によって導出するようにしたことを特徴とする液体材料
供給システムにおける気化器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151270A JP2946347B2 (ja) | 1990-06-09 | 1990-06-09 | 液体材料供給システムにおける気化器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151270A JP2946347B2 (ja) | 1990-06-09 | 1990-06-09 | 液体材料供給システムにおける気化器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0445838A true JPH0445838A (ja) | 1992-02-14 |
| JP2946347B2 JP2946347B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=15515000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2151270A Expired - Lifetime JP2946347B2 (ja) | 1990-06-09 | 1990-06-09 | 液体材料供給システムにおける気化器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2946347B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011000518A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Tomokazu Kanda | セラミックス複合体を有するシリンダー装置及びそれを用いた塗液循環システム |
| CN112585298A (zh) * | 2018-07-24 | 2021-03-30 | 琳科技股份有限公司 | 气化器 |
| US11274367B2 (en) | 2018-07-24 | 2022-03-15 | Lintec Co., Ltd. | Vaporizer |
-
1990
- 1990-06-09 JP JP2151270A patent/JP2946347B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011000518A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Tomokazu Kanda | セラミックス複合体を有するシリンダー装置及びそれを用いた塗液循環システム |
| CN112585298A (zh) * | 2018-07-24 | 2021-03-30 | 琳科技股份有限公司 | 气化器 |
| CN112585298B (zh) * | 2018-07-24 | 2021-11-23 | 琳科技股份有限公司 | 气化器 |
| US11274367B2 (en) | 2018-07-24 | 2022-03-15 | Lintec Co., Ltd. | Vaporizer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2946347B2 (ja) | 1999-09-06 |
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