JPH0443222B2 - - Google Patents
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- JPH0443222B2 JPH0443222B2 JP59156347A JP15634784A JPH0443222B2 JP H0443222 B2 JPH0443222 B2 JP H0443222B2 JP 59156347 A JP59156347 A JP 59156347A JP 15634784 A JP15634784 A JP 15634784A JP H0443222 B2 JPH0443222 B2 JP H0443222B2
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Classifications
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- G—PHYSICS
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0232—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using shutters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/08—Beam switching arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J2001/4242—Modulated light, e.g. for synchronizing source and detector circuit
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
〔発明の利用分野〕
本発明は近赤外ダブルビーム分光光度計に係
り、特に、熱輻射によるゼロ点の変動を少くして
測光正確度を向上させるに好適な近赤外分光光度
計に関する。 〔発明の背景〕 近赤外分光光度計の光検知器は波長1μから2.5μ
の範囲で感度を有する。一方、室温（約300〓）
での物質は12μをピークとして熱線を輻射する
が、わずか10℃程度の変動でも波長2μでの輻射
熱線のエネルギーは約２倍も異なる。このこと
は、測定すべき試料の温度が分光光度計の温度と
異なつたり、分光光度計の回転や、シヤツターが
温度を持つたりすると、０（零）点を測定するた
めにシヤツターを入れたときと、実際に測定する
ためにシヤツターがないときとの温度差を光検知
器が検知し、該温度差が測定誤差分となつて測定
精度を狂わせるという欠点を有していた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、熱輻射の影響を最小限にして
測定誤差の生じることのない近赤外分光光度計を
提供することにある。 〔発明の概要〕 本発明による近赤外分光光度計では光源からの
射出光を試料光束と対照光束とに分割する回転反
射鏡を分光器の後方に配置し、かつ回転羽根とし
て形成される光遮断用マスクを光源と分光器との
間に設け、上記回転反射鏡と光遮断用マスクとを
一定の角度関係で回転駆動すると共に、回転反射
鏡から光検知手段に至る光路上に輻射熱発生源と
なる回転体を介在させないように構成したことを
特徴とするものである。 このように構成することにより光検知手段とし
ての光検知器の受光タイミングが試料光、対照光
及びゼロレベルのいずれの期間においても光遮断
用マスク及び試料から発せられる輻射熱が偏在せ
ずに同じ大きさとして得られ、その故測定上、輻
射熱の影響を抑制することができる。 〔発明の実施例〕 本発明の実施例を説明する前に本発明するに至
つた背景について説明する。 第２図Ａにおいて、光源１から出射した光は分
光器２の入射スリツト３に入射し、分散子４によ
つて分散されたあと出射スリツト５から単色光と
なつて出射する。単色光は回転反射鏡６、および
反射鏡７により試料光束Ｓと対照光束Ｒに別けら
れ、反射鏡８、および回転反射鏡９により光検知
器１０に入射して電気量に変換される。光検知器
１０は単色光の他に分光光度計各部からの熱輻射
を受け、また暗電流もあるので、ゼロレベルを常
に検知する必要がある。そのため回転反射鏡６、
または回転反射鏡９に光しや断用のマスク１１が
とりつけてあり、光検知器１０の出力電流の時
間的変動は第２図Ｂに示される如きグラフのよう
になる。分光光度計では（Ｓ−Ｚ）／（Ｒ）−Ｚ
を演算し、その結果が測光値（透過度）になる。
ここにＳは試料光の光検知器出力を示し、Ｒは対
照光の光検知器出力を示し、Ｚは光検知器のゼロ
レベルをそれぞれ示す。第２図は理想的な測光方
式を示しており、この場合の測光精度は光検知器
以降の光電的特性にのみ依存する。 ところで、測定すべき試料は必ずしも分光光度
計の温度（一般的には室温）とは常に一致した値
にするものではない。測定の目的によつては試料
の温度を高温に保つことすらある。この場合、試
料自体、あるいは試料保持機構が周囲温度以上に
なつており、熱輻射は周囲と異なる。例えば、周
囲温度が300〓（27℃）で、試料温度が310〓（37
℃）である場合は波長2μでの熱輻射は2.2倍にも
なる。従つて光検知器１０にも試料の輻射熱が照
射する。もし、第３図Ａに示すように、温度が高
い状態の試料１２が試料側に置かれると、試料の
熱輻射は試料側光束の時間帯だけ光検知器１０に
照射する。従つて、光検知器１０の出力電流は
第３図Ｂに示すようになる。すなわち光検知器１
０としては試料光出力Ｓと輻射熱による出力電流
Ｈとの合成した電流（Ｓ＋Ｈ）を試料光出力電流
として出力することになる。第３図の光学系で、
試料光出力電流Ｓと輻射熱による出力電流Ｈを弁
別するためには試料１２より前方で、回転反射鏡
６よりもあとの間に光シヤツター１３を入れ、輻
射熱による出力電流Ｈだけを検知し、演算処理中
で輻射熱による出力電流Ｈ分を減ずるしか方法は
ない。しかしこの方法でも後述するように測定試
料の透過度が1.5μ以上波長で立ち上がつてくる試
料では光シヤツター１３の熱輻射（1μの波長）
の影響を受けて光シヤツター１３を入れたときは
測定値があり、光シヤツター１３がない状態にな
ると測定値が出ないことになり、試料の測定には
ならず、測定値が狂う。又、光シヤツター１３も
測定のときは取り除かねばならず、常時入れるこ
とができないので、あくまでも暫定的な対策であ
る。 第４図Ａには、試料１２からの熱輻射の影響を
除去する測光方式が示されている。すなわち、出
射スリツト５を通つて出てきた単色光は回転反射
鏡６、反射鏡７，１４，１５により試料光束と対
照光束に別けられ、反射鏡１６，１７，１８，１
９により光検知器１０で受光される。回転反射鏡
６には光マスク１１がもうけられている。この
時、試料１２からの輻射熱は定常的に光検知器１
０に照射されており、光検知器１０の出力電流
は第４図Ｂに示されるように、対照光束Ｒ、試料
光束Ｓ、光検知器１０のゼロレベルＺのいずれの
タイミングでも、輻射熱による出力電流Ｈだけ浮
き上がる。試料１２の温度は一般に１秒以下の短
時間で１℃以上変動することはない。従つて、回
転反射鏡６によるチヨツピング周期が0.1秒以下
であれば、その間の温度変化による輻射熱量の変
化はほとんど判別できない。したがつて、１周期
の対照光束Ｒ、試料光束Ｓ、光検知器１０のゼロ
レベルＺ中の輻射熱による出力電流Ｈは一定と考
えて良く、 ｛（Ｓ＋Ｈ）−（Ｚ＋Ｈ）｝／｛（Ｒ＋Ｈ）−（Ｚ＋Ｈ
）｝＝（Ｓ−Ｚ）／（Ｒ−Ｚ）………(1) となり、求めるべき値の透過度が得られる。 第４図Ａにおける測光系の特徴は、試料部と光
検知器１０の間に回転反射鏡を有しないことであ
る。 しかし、第４図Ａの測光系は熱輻射に対して万
全の測光系ではない。第４図Ａにおいて、回射反
射鏡は一般にガラス材にアルミ等の反射率の高い
物質を蒸着したもので、光マスク１１は黒色板で
ある。一方、ガラスや反射率の高い金属は放射能
（エミツシビテイ）が非常に低く、反面黒色板は
１に近い。既ち光マスク１１自体も熱輻射が強
い。また、この光マスク１１は回転モータと機構
的に連絡しているので、容易に温度が上昇する。 第５図Ａにおいて、回転反射鏡６の光マスク部
から放射する熱輻射をＨとすると、光検知器１０
の出力電流は第５図Ｂのようになり、ゼロ信号
がＨ分だけ浮き上がる。一方、反射鏡やガラス板
の温度上昇もあるが、放射能が極めて抵いので、
対照光束Ｒ、試料光束Ｓ分の浮き上がりは無視で
きる。 このように、光マスク部からの熱輻射は、試料
側光路と対照側光路の光束をへて光検知器１０に
到達するため、試料側光路に信号光（単色光）を
完全にカツトする試料を入れても対照側光路を通
る熱輻射が検知され、Ｈ／２だけ浮き上がる。そ
こで、試料側光路を室温のシヤツターを入れて
（Ｚ＋Ｈ／２）を検知し、以降（Ｚ＋Ｈ／２）を
ゼロ信号として用いれば測定誤差はなくなる。 これまでの近赤外分光光度計ではこのような演
算処理による輻射熱の影響除去が主流であつた。 しかし、この方式では、試料側光路Ｓを経由す
る輻射熱は測定試料の透過度に比例することを前
提としている。例えば透過度ｘの試料を設定した
場合、試料側光路Ｓを経由する輻射熱の信号量は
（Ｈ／２）・ｘであることが体禎条件である。しか
し、現実に測定する試料は全波長域にわたつて一
定の透過度を持つとは限らず、選択的な波長にお
いてのみ透過度が低くなることがある。この場合
には測定結果が極めて異常になる。以下、その現
象について解析する。 第６図はブランクの黒体輻射の波長特性を示す
物体の温度がＴ〓、波長λcmのときの黒体の１cm2
の面積が立体角πラジアンに放射する輻射エネル
ギーＪは次式で求められる。 Ｊ＝2πC1／λ5・１／ｅC2／λ・Ｔ−１ ………(2) C1＝5.955×10-13watt・cm2 C2＝1.432cm・grad 300〓（27℃）と310〓（37℃）のときのＪを
1μ〜2.5μの範囲で求めた結果が第１表に示され
る。 第１表において、ΔJは各波長ごとのJ310゜−
J300゜の差を示す。
り、特に、熱輻射によるゼロ点の変動を少くして
測光正確度を向上させるに好適な近赤外分光光度
計に関する。 〔発明の背景〕 近赤外分光光度計の光検知器は波長1μから2.5μ
の範囲で感度を有する。一方、室温（約300〓）
での物質は12μをピークとして熱線を輻射する
が、わずか10℃程度の変動でも波長2μでの輻射
熱線のエネルギーは約２倍も異なる。このこと
は、測定すべき試料の温度が分光光度計の温度と
異なつたり、分光光度計の回転や、シヤツターが
温度を持つたりすると、０（零）点を測定するた
めにシヤツターを入れたときと、実際に測定する
ためにシヤツターがないときとの温度差を光検知
器が検知し、該温度差が測定誤差分となつて測定
精度を狂わせるという欠点を有していた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、熱輻射の影響を最小限にして
測定誤差の生じることのない近赤外分光光度計を
提供することにある。 〔発明の概要〕 本発明による近赤外分光光度計では光源からの
射出光を試料光束と対照光束とに分割する回転反
射鏡を分光器の後方に配置し、かつ回転羽根とし
て形成される光遮断用マスクを光源と分光器との
間に設け、上記回転反射鏡と光遮断用マスクとを
一定の角度関係で回転駆動すると共に、回転反射
鏡から光検知手段に至る光路上に輻射熱発生源と
なる回転体を介在させないように構成したことを
特徴とするものである。 このように構成することにより光検知手段とし
ての光検知器の受光タイミングが試料光、対照光
及びゼロレベルのいずれの期間においても光遮断
用マスク及び試料から発せられる輻射熱が偏在せ
ずに同じ大きさとして得られ、その故測定上、輻
射熱の影響を抑制することができる。 〔発明の実施例〕 本発明の実施例を説明する前に本発明するに至
つた背景について説明する。 第２図Ａにおいて、光源１から出射した光は分
光器２の入射スリツト３に入射し、分散子４によ
つて分散されたあと出射スリツト５から単色光と
なつて出射する。単色光は回転反射鏡６、および
反射鏡７により試料光束Ｓと対照光束Ｒに別けら
れ、反射鏡８、および回転反射鏡９により光検知
器１０に入射して電気量に変換される。光検知器
１０は単色光の他に分光光度計各部からの熱輻射
を受け、また暗電流もあるので、ゼロレベルを常
に検知する必要がある。そのため回転反射鏡６、
または回転反射鏡９に光しや断用のマスク１１が
とりつけてあり、光検知器１０の出力電流の時
間的変動は第２図Ｂに示される如きグラフのよう
になる。分光光度計では（Ｓ−Ｚ）／（Ｒ）−Ｚ
を演算し、その結果が測光値（透過度）になる。
ここにＳは試料光の光検知器出力を示し、Ｒは対
照光の光検知器出力を示し、Ｚは光検知器のゼロ
レベルをそれぞれ示す。第２図は理想的な測光方
式を示しており、この場合の測光精度は光検知器
以降の光電的特性にのみ依存する。 ところで、測定すべき試料は必ずしも分光光度
計の温度（一般的には室温）とは常に一致した値
にするものではない。測定の目的によつては試料
の温度を高温に保つことすらある。この場合、試
料自体、あるいは試料保持機構が周囲温度以上に
なつており、熱輻射は周囲と異なる。例えば、周
囲温度が300〓（27℃）で、試料温度が310〓（37
℃）である場合は波長2μでの熱輻射は2.2倍にも
なる。従つて光検知器１０にも試料の輻射熱が照
射する。もし、第３図Ａに示すように、温度が高
い状態の試料１２が試料側に置かれると、試料の
熱輻射は試料側光束の時間帯だけ光検知器１０に
照射する。従つて、光検知器１０の出力電流は
第３図Ｂに示すようになる。すなわち光検知器１
０としては試料光出力Ｓと輻射熱による出力電流
Ｈとの合成した電流（Ｓ＋Ｈ）を試料光出力電流
として出力することになる。第３図の光学系で、
試料光出力電流Ｓと輻射熱による出力電流Ｈを弁
別するためには試料１２より前方で、回転反射鏡
６よりもあとの間に光シヤツター１３を入れ、輻
射熱による出力電流Ｈだけを検知し、演算処理中
で輻射熱による出力電流Ｈ分を減ずるしか方法は
ない。しかしこの方法でも後述するように測定試
料の透過度が1.5μ以上波長で立ち上がつてくる試
料では光シヤツター１３の熱輻射（1μの波長）
の影響を受けて光シヤツター１３を入れたときは
測定値があり、光シヤツター１３がない状態にな
ると測定値が出ないことになり、試料の測定には
ならず、測定値が狂う。又、光シヤツター１３も
測定のときは取り除かねばならず、常時入れるこ
とができないので、あくまでも暫定的な対策であ
る。 第４図Ａには、試料１２からの熱輻射の影響を
除去する測光方式が示されている。すなわち、出
射スリツト５を通つて出てきた単色光は回転反射
鏡６、反射鏡７，１４，１５により試料光束と対
照光束に別けられ、反射鏡１６，１７，１８，１
９により光検知器１０で受光される。回転反射鏡
６には光マスク１１がもうけられている。この
時、試料１２からの輻射熱は定常的に光検知器１
０に照射されており、光検知器１０の出力電流
は第４図Ｂに示されるように、対照光束Ｒ、試料
光束Ｓ、光検知器１０のゼロレベルＺのいずれの
タイミングでも、輻射熱による出力電流Ｈだけ浮
き上がる。試料１２の温度は一般に１秒以下の短
時間で１℃以上変動することはない。従つて、回
転反射鏡６によるチヨツピング周期が0.1秒以下
であれば、その間の温度変化による輻射熱量の変
化はほとんど判別できない。したがつて、１周期
の対照光束Ｒ、試料光束Ｓ、光検知器１０のゼロ
レベルＺ中の輻射熱による出力電流Ｈは一定と考
えて良く、 ｛（Ｓ＋Ｈ）−（Ｚ＋Ｈ）｝／｛（Ｒ＋Ｈ）−（Ｚ＋Ｈ
）｝＝（Ｓ−Ｚ）／（Ｒ−Ｚ）………(1) となり、求めるべき値の透過度が得られる。 第４図Ａにおける測光系の特徴は、試料部と光
検知器１０の間に回転反射鏡を有しないことであ
る。 しかし、第４図Ａの測光系は熱輻射に対して万
全の測光系ではない。第４図Ａにおいて、回射反
射鏡は一般にガラス材にアルミ等の反射率の高い
物質を蒸着したもので、光マスク１１は黒色板で
ある。一方、ガラスや反射率の高い金属は放射能
（エミツシビテイ）が非常に低く、反面黒色板は
１に近い。既ち光マスク１１自体も熱輻射が強
い。また、この光マスク１１は回転モータと機構
的に連絡しているので、容易に温度が上昇する。 第５図Ａにおいて、回転反射鏡６の光マスク部
から放射する熱輻射をＨとすると、光検知器１０
の出力電流は第５図Ｂのようになり、ゼロ信号
がＨ分だけ浮き上がる。一方、反射鏡やガラス板
の温度上昇もあるが、放射能が極めて抵いので、
対照光束Ｒ、試料光束Ｓ分の浮き上がりは無視で
きる。 このように、光マスク部からの熱輻射は、試料
側光路と対照側光路の光束をへて光検知器１０に
到達するため、試料側光路に信号光（単色光）を
完全にカツトする試料を入れても対照側光路を通
る熱輻射が検知され、Ｈ／２だけ浮き上がる。そ
こで、試料側光路を室温のシヤツターを入れて
（Ｚ＋Ｈ／２）を検知し、以降（Ｚ＋Ｈ／２）を
ゼロ信号として用いれば測定誤差はなくなる。 これまでの近赤外分光光度計ではこのような演
算処理による輻射熱の影響除去が主流であつた。 しかし、この方式では、試料側光路Ｓを経由す
る輻射熱は測定試料の透過度に比例することを前
提としている。例えば透過度ｘの試料を設定した
場合、試料側光路Ｓを経由する輻射熱の信号量は
（Ｈ／２）・ｘであることが体禎条件である。しか
し、現実に測定する試料は全波長域にわたつて一
定の透過度を持つとは限らず、選択的な波長にお
いてのみ透過度が低くなることがある。この場合
には測定結果が極めて異常になる。以下、その現
象について解析する。 第６図はブランクの黒体輻射の波長特性を示す
物体の温度がＴ〓、波長λcmのときの黒体の１cm2
の面積が立体角πラジアンに放射する輻射エネル
ギーＪは次式で求められる。 Ｊ＝2πC1／λ5・１／ｅC2／λ・Ｔ−１ ………(2) C1＝5.955×10-13watt・cm2 C2＝1.432cm・grad 300〓（27℃）と310〓（37℃）のときのＪを
1μ〜2.5μの範囲で求めた結果が第１表に示され
る。 第１表において、ΔJは各波長ごとのJ310゜−
J300゜の差を示す。
以上説明したように、本発明によれば、輻射熱
の影響を最少限にして測定誤差を生じることがな
い。
の影響を最少限にして測定誤差を生じることがな
い。
第１図は本発明の実施例を示す図、第２図はダ
ブルビーム分光光度計の光学系概念図、第３図は
試料の熱輻射の影響を説明する動作原理図、第４
図は試料の熱輻射の影響を除去する方式を説明す
る動作原理図、第５図はマスクからの熱輻射の影
響を説明する動作原理図、第６図は黒体の輻射熱
の波長の特性を示すグラフ、第７図はマスクから
の熱輻射があつた場合の測光値異常を説明する動
作原理図である。 １……光源、２……分光器、３，５……スリツ
ト、４……分散子、６，９……回転反射鏡、７，
８，１４，１５，１６，１７，１８，１９……反
射鏡、１０……光検知器、１１……マスク、１２
……試料、１３……シヤツター、２０，２１……
リアクシヨンシンクロナスモータ、２２……フオ
トカプラ、２３……プリアンプ、２４……信号切
り換え器、２５……演算処理器。
ブルビーム分光光度計の光学系概念図、第３図は
試料の熱輻射の影響を説明する動作原理図、第４
図は試料の熱輻射の影響を除去する方式を説明す
る動作原理図、第５図はマスクからの熱輻射の影
響を説明する動作原理図、第６図は黒体の輻射熱
の波長の特性を示すグラフ、第７図はマスクから
の熱輻射があつた場合の測光値異常を説明する動
作原理図である。 １……光源、２……分光器、３，５……スリツ
ト、４……分散子、６，９……回転反射鏡、７，
８，１４，１５，１６，１７，１８，１９……反
射鏡、１０……光検知器、１１……マスク、１２
……試料、１３……シヤツター、２０，２１……
リアクシヨンシンクロナスモータ、２２……フオ
トカプラ、２３……プリアンプ、２４……信号切
り換え器、２５……演算処理器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光源と、該光源から射出された光を単色光に
する分光器と、前記光源と分光器との間に設けら
れ、回転羽根として形成される光遮断用マスク
と、前記分光器の後方に設けられ分光器から射出
される単色光を対照光束と試料光束とに分割する
反射鏡部と光透過部とからなる回転反射鏡と、試
料の透過光及び対照光の光量を検知する光検知手
段と、前記光遮断用マスクと回転反射鏡とを一定
の角度関係を保持して同期回転駆動する駆動手段
とを有し、 前記回転反射鏡から光検知手段に至る試料光路
上及び対照光路上に輻射熱発生源となる回転体を
介在させないように構成したことを特徴とする近
赤外分光光度計。 ２ 前記光遮断用マスクの回転羽根はπ／2nラ
ジアン（ｎ＝１、２、…）の角度毎に配設され、
前記回転反射鏡の羽根はπ／ｎラジアンの角度毎
に配設されることを特徴とする特許請求の範囲第
１項に記載の近赤外分光光度計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15634784A JPS6134428A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 近赤外分光光度計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15634784A JPS6134428A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 近赤外分光光度計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134428A JPS6134428A (ja) | 1986-02-18 |
| JPH0443222B2 true JPH0443222B2 (ja) | 1992-07-15 |
Family
ID=15625770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15634784A Granted JPS6134428A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 近赤外分光光度計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6134428A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0795003B2 (ja) * | 1987-04-28 | 1995-10-11 | 株式会社島津製作所 | 分光光度計 |
| JPH0778452B2 (ja) * | 1991-11-02 | 1995-08-23 | 環境庁長官 | 赤外分光装置 |
| US5719132A (en) * | 1996-06-27 | 1998-02-17 | Bristol-Myers Squibb Company | Compositions and methods of treating HIV with d4T, 5-fluorouracil/tegafur, and uracil |
| CN102564585A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-07-11 | 上海元析仪器有限公司 | 一种紫外可见分光光度计的光路 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5213433A (en) * | 1975-07-22 | 1977-02-01 | Hoesch Werke Ag | Method of and device for treating mill scale |
| JPS52141684A (en) * | 1976-09-06 | 1977-11-26 | Hitachi Ltd | Spectrophotometry |
-
1984
- 1984-07-26 JP JP15634784A patent/JPS6134428A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5213433A (en) * | 1975-07-22 | 1977-02-01 | Hoesch Werke Ag | Method of and device for treating mill scale |
| JPS52141684A (en) * | 1976-09-06 | 1977-11-26 | Hitachi Ltd | Spectrophotometry |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6134428A (ja) | 1986-02-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |