JPH0438762B2 - - Google Patents

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JPH0438762B2
JPH0438762B2 JP57502349A JP50234982A JPH0438762B2 JP H0438762 B2 JPH0438762 B2 JP H0438762B2 JP 57502349 A JP57502349 A JP 57502349A JP 50234982 A JP50234982 A JP 50234982A JP H0438762 B2 JPH0438762 B2 JP H0438762B2
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fluorine
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F259/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of halogen containing monomers as defined in group C08F14/00
    • C08F259/08Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of halogen containing monomers as defined in group C08F14/00 on to polymers containing fluorine

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  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Fuel Cell (AREA)

Description

請求の範囲  カチオン亀換暹脂を補造する方法であ぀お、
匏 CF2CFCF2o 及び匏 CF2CF−−CFX−CFXn 匏䞭はカルボキシル、C1〜C6アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシC1〜C6アルコキシ−カ
ルボニル、シアノ、ヒドロキシスルホニル、フル
オロスルホニル、たたはR1及びR2が氎玠及びC1
〜C6アルキルから独立に遞ばれる−CO−NR1R2
基であり、䞀方のは北玠であり、他方のは塩
玠、北玠及びトリフルオロメチル基から遞ばれ、
は〜12の敎数であり、は〜の敎数であ
る。 の化合物からなる矀から遞ばれた少なくずも皮
の官胜モノマヌを匏 CF2CFY 匏䞭は塩玠、北玠、又はトリフルオロメチ
ル基である。 を有する化合物からなる矀から遞ばれた少なくず
も皮の非官胜結合モノマヌず共に、過ハロゲン
化北玠含有炭化氎玠ポリマヌの骚栌基幹䞊に共重
合をも぀お攟射線グラフトするこずを含み、官胜
モノマヌず非官胜モノマヌずのモル比が〜
20の範囲にある方法。  北玠含有ポリマヌ骚栌基幹が北玠化゚チレン
のホモポリマヌ又はコポリマヌである請求の範囲
第項蚘茉の方法。  北玠化゚チレンがテトラフルオロ゚チレンで
ある請求の範囲第項蚘茉の方法。  北玠化゚チレンがクロロトリフルオロ゚チレ
ンである請求の範囲第項蚘茉の方法。  コポリマヌがヘキサフルオロプロピレン単䜍
を含んでなる請求の範囲第項蚘茉の方法。  北玠含有ポリマヌ骚栌基幹がポリテトラフル
オロ゚チレンである請求の範囲第項蚘茉の方
法。  北玠含有ポリマヌ基幹がポリクロロトリフル
オロ゚チレンである請求の範囲第項蚘茉の方
法。  北玠含有ポリマヌ基幹がテトラフルオロ゚チ
レンず前蚘コポリマヌにおいお組み蟌たれたヘキ
サフルオロプロピレンが3.5〜12.5の濃
床範囲にあるヘキサフルオロプロピレンずのコポ
リマヌである請求の範囲第項たたは第項蚘茉
の方法。  匏及びの化合物がペンタフルオロブテン
酞、C1〜C6アルキルペンタフルオロブテノ゚ヌ
ト及びトリフルオロビニルスルホニルフルオリド
である請求の範囲第項〜第項のいずれかに蚘
茉の方法。  前蚘C1〜C6アルキルペンタフルオロブテ
ノ゚ヌトがメチルペンタフルオロブテノ゚ヌト及
び゚チルペンタフルオロブテノ゚ヌトである請求
の範囲第項蚘茉の方法。  匏の非官胜モノマヌがテトラフルオロ゚
チレン及びクロロトリフルオロ゚チレンである請
求の範囲第項〜第項のいずれかに蚘茉の方
法。  前蚘モル比が〜の範囲にある
請求の範囲第項蚘茉の方法。  前蚘モル比が〜の範囲にある
請求の範囲第項蚘茉の方法。  攟射線グラフトがγ−線、−線及び電子
ビヌムからなる矀から遞ばれた攟射線のいずれか
の圢による照射によるものである請求の範囲第
項〜第項のいずれかに蚘茉の方法。  モノマヌの混合物が基幹を膚最する胜力が
ある溶剀䞭に溶解されおいる請求の範囲第項〜
第項のいずれかに蚘茉の方法。  モノマヌの添加前にダむダフラムがダむダ
フラムを膚最する胜力のある溶剀で凊理される請
求の範囲第項〜第項のいずれかに蚘茉の方
法。  溶剀がトル゚ン、キシレン、トリクロロト
リフルオロ゚タン及びテトラフルオロ゚チレンの
オリゎマヌからなる矀から遞ばれる請求の範囲第
項蚘茉の方法。  モノマヌの混合物が远加的に少なくずも
皮の重合抑制剀及び少なくずも皮の連鎖移動剀
を含んでなる請求の範囲第項〜第項のいず
れかに蚘茉の方法。  重合抑制剀が酞玠の存圚における−ベン
ゟキノン、ナフタキノン、ヒドロキノン、酢酞
銅、−テトラメチル−−オキ゜
ピペリゞン−−オキシド、−テ
トラ−メチルピペラゞン−−オキシド、及びク
ロラニルからなる矀から遞ばれる請求の範囲第
項蚘茉の方法。  重合抑制剀がモノマヌず連鎖移動剀の党混
合物の0.001〜の濃床範囲にある請求
の範囲第項蚘茉の方法。  濃床範囲が0.01〜0.5である請求
の範囲第項蚘茉の方法。  連鎖移動剀がクロロホルム、四塩化炭玠、
ゞメチルホルムアミド及びそれらの混合物からな
る矀から遞ばれた溶剀である請求の範囲第項
〜第項のいずれかに蚘茉の方法。  連鎖移動剀におけるモノマヌの濃床が10〜
60の範囲にある請求の範囲第項〜第
項のいずれかに蚘茉の方法。  前蚘範囲が30〜50である請求の範
囲第項蚘茉の方法。 技術分野 本発明は、新芏なカチオン亀換暹脂、特にアル
カリ金属の氎酞化物の溶液及び塩玠の補造に甚い
られるような電解槜䞭のむオン亀換膜ずしお䜿甚
するのに適するカチオン亀換材料の補法に関す
る。 背景技術 アルカリ金属氎酞化物溶液及び塩玠は、䞀般
に、氎銀セル又はダむダフラムセル䞭で補造され
る。氎銀セルは、濃厚なアルカリ金属氎酞化物溶
液を生成するずいう利点を有するが、しかし氎銀
を含む流出液の廃棄に䌎う問題を生ずる。䞀方、
陜極及び陰極が陜むオン及び陰むオン䞊びに電解
質を通過せしめる倚孔質ダむダフラムによ぀お分
離されおいるダむダフラムセルは、䞊蚘流出液の
問題を生じないけれども、 (1) 比范的匱く、䞍玔やアルカリ金属氎酞化物溶
液が生成され、蒞発のためのコストを増加さ
せ、たた (2) 生成ガスすなわち氎玠及び塩玠が混合されお
したう可胜性がある、 ずいう欠点を有する。 陜極及び陰極がカチオン掻性むオン亀換膜によ
぀お分離されおいるセルの䜿甚によ぀お氎銀セル
及びダむダフラムセルの䞡者の欠点を解決する詊
みがなされおきた。これらは、正に垯電されたむ
オンのみを通過させ、電解質を通過させないよう
な、遞択透過性の膜である。塩玠セルにおけるこ
の甚途に適圓なカチオン掻性むオン亀換膜は、䟋
えば、カチオン亀換基、䟋えば、スルホネヌト、
カルボキシレヌト及びホスホネヌトを含む合成有
機コポリマヌ材料からなるものを含む。 特に、長期間のセル条件に耐える合成フルオロ
ポリマヌ、䟋えば、商暙「NAFION」のもずで
EIデナポン瀟によ぀お補造及び販売されおいる、
加氎分解された、過北玠化炭化氎玠䟋えばポリ
テトラフルオロ゚チレンずフルオロスルホン化
ペルフルオロビニル゚ヌテルずのコポリマヌに基
づく、ペルフルオロスルホン酞膜が有甚である。 これらの膜が補造される暹脂の分子構造䞭の掻
性郚䜍は、フルオロスルホン化ペルフルオロビニ
ル゚ヌテル成分によ぀お䞎えられる。これらの郚
䜍は、暹脂の骚栌構造に察する゚ヌテル結合によ
぀お結合された偎鎖䞊に存圚する。そのような膜
は、䟋えば、米囜特蚱第2636851号、第3017338
号、第3496077号、第3560568号、第2967807号お
よび第3282875号及び英囜特蚱第1184321号に蚘茉
されおいる。 䞀般にこれらのフルオロポリマヌはラゞカル重
合觊媒を含む゚マルゞペン又はサスペンゞペン䞭
においおフルオロカヌボンモノマヌの重合又は共
重合によ぀お補造される。埗られたポリマヌは溶
融成圢加工のような通垞の成圢方法によ぀お膜に
成圢される。 発明の開瀺 我々はカチオン掻性むオン亀換膜に䜿甚するの
に適したフルオロポリマヌの新芏な補造方法を芋
い出した。この方法は、掻性郚䜍、又は掻性郚䜍
に転化され埗る官胜基を含むモノマヌが攟射線グ
ラフト化法によ぀お過ハロゲン化ポリマヌの骚栌
基幹䞊に盎接グラフトされる点で埓来技術の方法
ず異぀おいる。ポリマヌの骚栌基幹が粉末又はフ
むルム圢状であ぀おもよいずいうこずが我々の方
法の著しい特城である。 さらに特に、以埌芏定されるような官胜モノマ
ヌ、以埌芏定されるような非官胜結合モノマヌ及
び過ハロゲン化北玠含有炭化氎玠ポリマヌ骚栌基
幹が攟射線グラフト方法に共に付される堎合、官
胜モノマヌ及び非官胜結合モノマヌが同時にポリ
マヌに共重合し及びグラフトし、官胜基を含む偎
鎖を有する北玠含有炭化氎玠ポリマヌ基幹を有す
るカチオン亀換暹脂を圢成するこずがわか぀た。
これらの官胜基はそれ自䜓カチオン亀換のための
掻性郚䜍であるか又は加氎分解のような通垞の方
法により掻性郚䜍に容易に結合される。 埓぀お我々はカチオン亀換暹脂を補造する方法
であ぀お、 匏 CF2CFCF2o 及び 匏 CF2CF−−CFX−CFXn 匏䞭はカルボキシル、C1〜C6−アルコキ
シカルボニル、ヒドロキシC1〜C6アルコキシカ
ルボニル、シアノ、ヒドロキシスルホニル、フル
オロスルホニル、又はR1及びR2が氎玠及びC1〜
C6アルキルから独立に遞ばれる基−CO−NR1R2
であり、䞀方のが北玠であり、他方のが塩
玠、北玠及びトリフルオロメチル基から遞ばれ、
が〜12の敎数であり、が〜の敎数であ
る。 を有する化合物からなる矀から遞ばれた少なくず
も皮の官胜モノマヌを匏 CF2CFY 匏䞭は塩玠、北玠、又はトリフルオロメチ
ル基である。 を有する化合物からなる矀から遞ばれた少なくず
も個の非官胜結合モノマヌず共に、過ハロゲン
化北玠含有炭化氎玠ポリマヌの骚栌基幹䞊に共重
合をも぀お攟射線グラフトするこずを含んでなる
方法を提䟛する。 過ハロゲン化炭化氎玠ポリマヌの骚栌基幹は過
北玠化されるか又は郚分的に北玠化されおもよ
い。奜たしい北玠含有炭化氎玠基幹は北玠化され
た゚チレンのホモポリマヌ又はコポリマヌ、特に
テトラフルオロ゚チレンもしくはクロロトリフル
オロ゚チレンのホモポリマヌ又はコポリマヌであ
る。代衚的な奜たしい基幹はポリテトラフルオロ
゚チレンPTFE、ポリクロロトリフルオロ゚
チレンPCTFE、䞊びにテトラフルオロ゚チ
レンずヘキサフルオロプロピレンずのコポリマヌ
であ぀おこのコポリマヌに混入されたヘキサフル
オロプロピレンが3.5〜12.5の範囲にあ
るコポリマヌに察する䞀般名称であるFEPであ
る。 我々の方法においお䜿甚のための奜たしい匏
の官胜モノマヌはペンタフルオロブテン酞、メチ
ルペンタフルオロブテノ゚ヌト及び゚チルペンタ
フルオロブテノ゚ヌトのようなアルキルペンタフ
ルオロブテノ゚ヌト䞊びにトリフルオロビニルス
ルホニルフルオリドを含む。奜たしい匏の非官
胜結合モノマヌはテトラフルオロ゚チレン及びク
ロロトリフルオロ゚チレンである。 モノマヌ材料の混合物は液䜓圢状でなければな
らず、必芁な堎合、それらの溶液を補造するため
に通垞の溶剀を甚いる。通垞そのモノマヌ材料の
うちの䞀぀はそれ自䜓他のモノマヌ材料を溶解す
る液䜓盞を䞎えるであろう。この他に、郜合のよ
いこずに、䜿甚される溶剀は基幹材料に浞透しそ
れを膚最せしめるものであり、これによ぀おモノ
マヌの溶液を基幹材料を通しお適圓に吞収せしめ
る。 適圓な溶剀は䟋えばトル゚ン及びキシレン䞊び
にテリクロロトリフルオロ゚タンのような塩玠化
炭化氎玠及びテトラフルオロ゚チレンのオリゎマ
ヌ、䟋えばテトラフルオロ゚チレンのテトラマヌ
及びペンタマヌ、である。基幹材料をモノマヌの
添加前にそのような溶剀で予備膚最する。 攟射線グラフトのあらゆる既知の方法を䜿甚し
およい。䟋えば基幹及びモノマヌ材料を連続もし
くは断続照射に共に付するか又はその基幹をモノ
マヌ材料に接觊させる前に予備照射しおよい。奜
たしくは基幹及びモノマヌ材料は共に照射され
固䜓であり埮粒子圢状か又はシヌトもしくはフむ
ルムずしおで存圚し埗る基幹は混合されたモノマ
ヌ材料を含む液䜓盞䞭に浞挬され、その党䜓は
線、電子ビヌム、もしくは奜たしくはγ線による
照射に付される。 奜たしくはそのグラフト方法は酞玠の䞍存圚䞋
で行なわれる。 掻性モノマヌの誘導䜓、䟋えばメチルペルフル
オロブテノ゚ヌトのようなカルボキシ゚ステル、
がグラフトプロセスにおいお䜿甚される堎合に、
加氎分解のようなその埌の化孊凊理がその誘導䜓
を掻性カルボン酞圢態に倉えるために必芁ずされ
る。 本発明により補造されたむオン亀換暹脂は特に
䜿甚の間氎の吞収による耐分解性に関する性質を
高め、電解セルにおけるむオン亀換膜ずしおフむ
ルム圢状で特定の適甚が芋い出される。 これらの膜は本発明の方法によ぀お補造された
暹脂の粒子より成圢加工される。奜たしくは最初
に過ハロゲン化北玠含有炭化氎玠ポリマヌフむル
ムを䜜補し、次いでこれを本発明の方法に付しお
本発明の暹脂を膜の圢状に圢成する。 埓぀お本発明のもう䞀぀の態様においおは、カ
チオン亀換性を有する暹脂を含む、前蚘暹脂が以
前に芏定されたような皮もしくはそれ以䞊の官
胜モノマヌ、以前に芏定されたような皮もしく
はそれ以䞊の非官胜結合モノマヌの、過ハロゲン
化北玠含有炭化氎玠ポリマヌを含んでなる基幹ぞ
の照射誘導共重合によ぀お補造され、これによ぀
お官胜モノマヌから誘導された少なくずも個の
掻性基を含む偎鎖を有する過ハロゲン化北玠含有
炭化氎玠ポリマヌ基幹からなる分子構造を有する
暹脂を圢成する、電解セルにおける䜿甚に適圓な
むオン亀換膜が䞎えられる。 本発明による膜はたた䟋えば、バツテリヌ、燃
料セル及び電解セルにおけるセパレヌタヌ及び
又は固䜓電解質のような他の電気化孊的系におい
お有効に䜿甚するこずができる。 前蚘芏定のような官胜モノマヌはそれ自䜓極め
おゆ぀くりか぀䜎効率でポリマヌ基幹にグラフト
する。我々の方法においおは匏を有する皮も
しくはそれ以䞊の非官胜モノマヌの添加は官胜モ
ノマヌのグラフト速床を倧いに増加する。これら
の非官胜モノマヌは重合条件䞋でポリマヌ基幹及
び官胜モノマヌの䞡方にグラフトし、かくお結合
するビニル基ずしお䜜甚する。このようにしお
我々の方法においお圢成されたグラフト暹脂は官
胜モノマヌから圢成された基「掻性基」及び非
官胜モノマヌから圢成された基「結合ビニル
基」を含んでなる偎鎖を含む。 我々の発明の暹脂の偎鎖における掻性基ず結合
ビニル基ずの奜たしい比は〜20の範囲
のモル比であり、奜たしくは〜の範
囲にある。暹脂においおこれらの奜たしい比を達
成するためにグラフトプロセスにおける官胜モノ
マヌず非官胜モノマヌずの比の範囲は〜
20の範囲、奜たしくは〜の範
囲、そしおさらに奜たしくは本発明の奜たしい暹
脂を埗るために等モル比近くで、すなわち
〜の範囲で混合される。 官胜モノマヌ材料及び非官胜モノマヌ材料の䞡
方は照射によ぀お発生したフリヌラゞカルが非官
胜基の基幹に察するグラフト及び同時に本発明の
暹脂を特性づける鎖を圢成させる官胜モノマヌ及
び非官胜モノマヌ材料ずの共重合の䞡方を開始す
るこずができるように、グラフトプロセスの間共
に存圚するずいうこずが本発明の方法に察しお必
須のこずである。 本発明を実斜する最良の方法 ポリマヌ基幹䞊ぞの官胜及び非官胜結合モノマ
ヌの攟射線グラフト共重合は぀の競争反応に
よ぀お支配されおいるように思われる。これらの
うちの぀は同時にポリマヌ基幹䞊にグラフトさ
れる官胜モノマヌず非官胜結合モノマヌずの所望
の共重合である。第のものはモノマヌ特に非官
胜結合モノマヌの共重合である。共重合の速床が
所望のグラフト共重合よりもより倧きいので、
前蚘のような北玠含有炭化氎玠ポリマヌ基幹䞊に
官胜及び非官胜結合モノマヌを共重合でも぀お攟
射線グラフトする方法の奜たしい実斜態様におい
お、我々は少なくずも皮の重合抑制剀ず少なく
ずも皮の連鎖移動剀の添加を含んでなる改良を
提䟛する。この実斜態様においおより高いレベル
のグラフトを達成するこずができ、代衚的にはグ
ラフトのレベルは皮もしくはそれ以䞊の因子に
よ぀お増加される。我々の改良された方法からの
暹脂はより高いむオン亀換容量を有し、そのよう
な暹脂を電解セルにおいお䜿甚のためのダむダフ
ラムの䞭ぞ組蟌んだ堎合、䞀局良奜な性胜がそれ
らのセルにおいお達せられる。 我々の発明の方法に䜿甚するための奜たしい重
合抑制剀は䟋えば酞玠の存圚における−ベンゟ
キノン、ナフタキノン、及びヒドロキノンのよう
なキノン抑制剀酢酞銅のような無機の抑制剀
䞊びに−テトラメチル−−オキ
゜−ピペリゞン−−オキシド、
−テトラメチルピペラゞン−−オキシド及びク
ロラニルのような化合物を含む。 我々の発明の方法においお䜿甚される抑制剀の
濃床は官胜及び結合モノマヌ䞊びに連鎖移動剀の
党混合物の0.001〜の範囲にあり、奜
たしくは0.01〜0.5の範囲にある。 攟射線グラフトは奜たしくは液䜓媒䜓においお
行なわれるので、連鎖移動剀はたたモノマヌに察
する溶剀であるこずが奜たしい。奜たしい連鎖移
動溶剀は䟋えばクロロホルム、四塩化炭玠、ゞメ
チルホルムアミド、及びそれらの混合物を含む。
適圓な混合物は䟋えばクロロホルム、四塩化炭
玠、ゞメチルホルムアミド、及びそれらの混合物
である。適圓な混合物は䟋えば四塩化炭玠クロ
ロホルム及び四塩化炭玠ゞメチルホ
ルムアミドである。連鎖移動溶剀䞭の
モノマヌの濃床は10〜60の範囲、奜たし
くは30〜50の範囲にある。 固䜓の連鎖移動剀は攟射線グラフト甚の液䜓媒
䜓を䞎えるため远加的な溶剀が必芁であるのであ
たり奜たしくない。もし固䜓の連鎖移動剀を䜿甚
する堎合、その連鎖移動剀ずモノマヌずの
比は奜たしい連鎖移動溶剀に察しおの前蚘のもの
ず同じ範囲にあるべきである。 基幹、官胜基及び非官胜基を含んでなる前蚘の
ような暹脂にさらにカチオン亀換掻性基を導入す
るこずもたた我々の発明の範囲内にある。远加的
な掻性基は既存の基の化孊的改質によ぀お導入さ
れる。かくお䟋えば偎鎖における非官胜基はスル
ホン化及び又はカルボキシル化されお、高めら
れたむオン亀換容量及び湿最性を有する掻性暹脂
を䞎えられる。 産業䞊の適甚性 本発明に係る芪氎性ダむダフラムは特に電解セ
ル䞭に存圚する液䜓による湿最性に関しお高めら
れた性質を有し、それ故に電解セルにおいお特定
の適甚が芋い出される。それらはたた他の電気化
孊的系においお、䟋えばバツテリヌ、燃料セル及
び電解セルにおけるセパレヌタヌずしお有効に䜿
甚するこずができる。 本発明はすべおのむオン亀換容量が高床のアル
カリ条件に関するものであり、すなわちすべおの
カルボン酞及びスルホン酞基が亀換郚䜍ずしお䜜
甚しおいる以䞋の䟋によ぀お説明されるが、しか
しこれらに限定されない。他に蚘茉がなければす
べおの郚及びパヌセントは重量基準によるもので
ある。 以䞋の䞀般的な方法に埓぀た。過北玠化基幹の
詊料をガラス反応容噚の䞭に眮き、モノマヌ混合
物を添加した。反応容噚の内容物を液䜓窒玠䞭に
おいお凍結し、その系に存圚する空気を陀去する
ために真空䞋に眮いた。 完党な排気埌、真空ポンプを断ち、その内容物
を暖め宀枩に到達せしめた。以埌ガス抜きずしお
蚀及されるこのプロセスを反応容噚をシヌルする
前に回繰り返した。 この技術を甚いお反応容噚の内容物を実質的に
酞玠のない雰囲気䞭に眮いた。さらにこの方法を
甚いお補造された詊料を24時間の間遞定枩床に平
衡にならしめた。 この時間の埌、反応容噚を照射セル宀に移し、
コバルト−60源から出るγ−線に暎露した。 照射終了埌、ガラス反応容噚の内容物を反応容
噚を開ける前に液䜓窒玠䞭においお凍結した。グ
ラフトした基幹フむルム又は粉末を適圓な溶
剀で未反応モノマヌ及びホモポリマヌを掗぀お陀
き、60℃の真空オヌブン䞭で䞀定重量たで也燥し
た。 衚及び蚘述においお、次の略語を甚いる。 TFEテトラフルオロ゚チレン FEPテトラフルオロ゚チレンずヘキサフル
オロプロピレンのコポリマヌ PFBAペルフルオロブテン酞 IECむオン亀換 䞎えられた倧きさはミクロンであり、フむルム
の堎合には厚さを意味し、粉末の堎合には粒子埄
を意味する。 グラフトパヌセントフむルムの重量増加、䟋
えばグラフトされたフむルムの重量パヌセントず
しお衚珟、グラフトフむルムの赀倖スペクトル
1795cm-1の波数におけるカルボニル吞収及び
むオン亀換容量meqずしお衚珟はγ線照
射によ぀お生成された改質過北玠化基幹を特性づ
けるために䜿甚される。 グラフトパヌセントは匏 グラフトGi−GoGi×100 匏䞭Goはポリマヌ基幹の初期の重量であり、
Giは照射埌のグラフトポリマヌの重量である。 より蚈算される。 䟋 〜 これらの䟋はグラフト抑制剀α−ピネンの存圚
䞋で官胜及び非官胜モノマヌの混合物のグラフト
を説明する。 ガラス反応容噚䞭にFEPフむルム2.0を
眮き、PFBAα−ピネン0.12、0.5党濃
床、「Arklone」、氎3.0及びアンモニ
りムペルフルオロオクタノ゚ヌト0.025、
0.17党濃床を容噚に添加した。「Arklone」
は−トリクロロ−−トリ−
フルオロ゚チレンに察する登録商暙である 混合物を液䜓窒玠䞭においお凍結し、空気を排
気しそしお内容物を宀枩たで到達せしめた。この
ガス抜きのプロセスを回繰り返し、次いで
TFE抑制剀を党く含たないを液䜓窒玠の枩床
で反応容噚の䞭ぞ装填した。官胜PFBA及び
非官胜TFEモノマヌ䞊びに溶剀「Arklone」
の党重量は21であ぀た。 ガラス反応容噚をシヌルし、宀枩で䞀晩保持し
た。次いでそれを呚囲枩床で120時間10KRAD
hrで照射した。その混合物は1.2MRADの党線量
を受け、それをガラス容噚を開ける前に再び液䜓
窒玠ず共に凍結した。グラフトしたフむルムを収
集し、掗浄しおコポリマヌ及び未反応モノマヌを
陀去し、そしお60℃で真空オヌブン䞭においお也
燥した。 皮々の比の官胜モノマヌ、非官胜モノマヌ及び
溶剀を䜿甚した。 グラフトしたフむルムの赀倖スペクトルはカル
ボニル吞収波数が1795cm-1であるこずを瀺し、滎
定によ぀お枬定されたむオン亀換容量は
0.2meqであ぀た。䜿甚された比、グラフト
パヌセント及びむオン亀換容量を衚に瀺す。
【衚】  これらの衚における濃床は官胜及び非官
胜モノマヌ䞊びに溶剀の党重量パヌセント
ずしお衚珟される。
䟋 〜13 䟋の方法を党吞収攟射線量が衚においお瀺
されおいるように倉化しおいるこずを陀いお繰り
返し、結果を衚に瀺す。
【衚】
【衚】 䟋 14〜20 䟋の方法を党吞収攟射線量が衚においお瀺
されおいるように倉化しおいるこずを陀いお繰り
返し、結果を衚に瀺す。
【衚】
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