JPH04366440A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報の記録再生で用い
られる光ディスク、光カード、光テープなどの情報記録
媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板上に薄膜を設け、この薄膜に記録す
べき情報を有する光ビームを照射することにより上記薄
膜に局所的に光学特製の変化を生じさせ、これにより情
報の記録を行うことが可能な情報記録媒体において、基
板上に少なくとも反射層を備えてなる情報記録媒体で、
前記反射層が、アルミニウム（Ａｌ）に少なくともチタ
ン（Ｔｉ）を添加してなる材料からなる、情報記録媒体
を用いたものとして以下のような特許出願がなされてい
る。

【０００３】特開平２−１２６４４６号公報は、基板上
に少なくとも磁性膜と反射層を備えてなる光磁記録媒体
において、前記反射層が、アルミニウム（Ａｌ）にチタ
ンＴｉ）または銅を添加してなることを特徴とする光磁
記録媒体に関するものである。アルミニウムに対するチ
タンの添加効果について記述されているが、その製造方
法については発明となる説明はなされていない。

【０００４】特開平２−１２８３３２号公報は、記録用
ビームの照射を受けて変化を生じる情報記録用薄膜を有
する記録媒体において、上記情報記録用薄膜に隣接して
形成した無機物および有機物のうち少なくとも一者から
なる保護層に接して、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ、およびＡｕよ
りなるＡ群より選ばれた少なくとも一者と、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、
Ｐｂ、Ｂｉ、およびＣよりなるＢ群より選ばれた少なく
とも一者を主成分とする層を有することを特徴とする情
報記録用部材に関するものである。アルミニウムに対し
てチタンを添加したときの繰り返し特性について記述さ
れているが、その製造方法については発明となる説明は
なされていない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来は、アルミニウム
に対してチタンを添加したときの特性については記述さ
れているが、その製造方法については発明となる説明は
なされていない。

【０００６】基板上に少なくとも反射層を備えてなる情
報記録媒体において、前記反射層がアルミニウム（Ａｌ
）に少なくともチタン（Ｔｉ）を添加している材料から
なり、該反射層をスパッタ法で形成するとき、良質なＡ
ｌ合金反射膜を得るためには、スパッタ条件に大きく依
存する。

【０００７】そこで、この発明は、基板上に少なくとも
反射層を備えてなる情報記録媒体において、前記反射層
が、アルミニウム（Ａｌ）に少なくともチタン（Ｔｉ）
を添加してなる材料からなり、該反射層をスパッタ法で
形成するときに、良質なＡｌ合金反射膜を得るための情
報記録媒体の製造方法を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、基板上に少なくとも反射層を備えてなる
情報記録媒体において、前記反射層が、アルミニウム（
Ａｌ）に少なくともチタン（Ｔｉ）を添加してなる材料
からなり、該反射層をスパッタ法で形成するときに、ス
パッタ室内を百万分の５Ｔｏｒｒ　以下の真空度にして
から該材料の原料となるターゲットをスパッタするもの
である。

【０００９】

【作用】アルミニウム（Ａｌ）に少なくともチタン（Ｔ
ｉ）を添加してなる材料からなる反射層をスパッタ法で
形成するときに、スパッタ室内を百万分の５Ｔｏｒｒ　
以下の真空度にしてから該材料の原料となるターゲット
をスパッタすることにより、スパッタするときの雰囲気
を清浄に保て、不純物となる有害ガス成分を除去できる
のでピンホール、酸化膜などのない良質な反射層を形成
することができる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳
細に説明する。

【００１１】図１に情報記録媒体としての相変化型光デ
スク１の層構成の１例を模式的に示す。図１において、
２は光デスク基板であり、この光デスク基板２の片面に
保護層３、記録層４、保護層５、反射層６、保護層７を
順次積層した構成となっている。

【００１２】この光デスク１の層構成は単板の場合の例
であり、記録層４のある面を内側にしてこの単板の２枚
の光デスク１を貼合わせ両面使用の光デスクとすること
も可能である。また、用途に応じて保護層３、保護層５
、保護層７はそれぞれ省略することも可能である。

【００１３】光デスク基板２は、透明で経時変化が少な
い材料、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）
のようなアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキ
シ樹脂、スチレン樹脂、またはガラス等で形成される。 記録フォーマットに応じて連続溝、サンプルサーボマー
ク、プリフォーマットマーク等が形成される。

【００１４】記録層４は、光ビーム（記録ビ−ム）Ｌに
よる熱的エネルギーの賦与により光学定数が変化する、
少なくともＴｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｉｎから選ばれる３種以
上を主成分とする材料などの相変化材料で形成されてい
る。

【００１５】例えば、光ビームＬによる熱的エネルギー
の賦与により光学定数が変化する材料としては、ＧｅＳ
ｂＴｅ系、ＩｎＳｂＴｅ系、ＧｅＴｅＩｎ系の少なくと
も３元系の材料などを用いることができる。これらの光
学特性が変化する材料は、真空蒸着法、スパッタ法など
で形成できる。記録層４の膜厚としては、実用上数ｎｍ
〜数ｕｍの範囲であることが好ましい。

【００１６】また、保護層３，５は、記録層４を挟むよ
うに配設されており、光ビ−ムＬの照射により記録層４
が、飛散したり、穴があいてしまうことを防止する役割
を有している。また記録のときの記録層４の加熱、冷却
の熱拡散を制御する役割もある。

【００１７】この保護層２，３は、Ｓｉ０２　、Ｓｉ０
、ＡｌＮ、Ａｌ２　Ｏ３　、Ｚｒ０２　、ＴｉＯ２　、
Ｔａ２　Ｏ３　、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、またはこれらの
混合膜等を真空蒸着法やスパッタリング法などで形成す
ることができる。保護層２、３の膜厚は実用上数ｎｍ〜
ｕｍであることが好ましい。反射層６は、記録層４の光
学的変化を光学的にエンハンスして再生信号を増大させ
る効果と記録層４の冷却効果がある。

【００１８】本発明では、特にこの反射層６にアルミニ
ウム（Ａｌ）に少なくともチタン（Ｔｉ）を添加してな
る材料を用い、該反射層６をスパッタ法で形成するとき
に、スパッタ室内を百万分の５Ｔｏｒｒ　以下の真空度
にしてから該材料の原料となるターゲットをスパッタす
るものである。反射層６の膜厚は、実用上数ｎｍ〜数ｕ
ｍであることが好ましい。

【００１９】保護層７は、相変化光デスク１を取扱う上
での傷、ほこり等を防止するために配設されるものであ
り、通常、紫外線硬化型樹脂などにより形成される。こ
の保護層７は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法
により反射層４の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化
させて形成する。この保護層７の膜厚としては、実用上
数ｕｍ〜数百ｕｍの範囲であることが好ましい。

【００２０】特に、この発明においては層構成を急冷構
造とすることが望ましく、保護層３または保護層５に熱
伝導率の大きな材料を用いることが望ましい。また、記
録層４の光学特性が変化する材料も、非晶質化し易い材
料であることが好ましい。さらに、記録層４の膜厚を薄
くすること、反射層６側の保護層５の膜厚を薄くするこ
とも有効である。

【００２１】さらに、大きな信号を得るためには、光学
特性が変化する材料の光学変化量が大きいことが、また
オーバーライト動作を行うためには高速消去が可能でな
ければならない。このような材料として、少なくともＴ
ｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｉｎから選ばれる３種以上を主成分と
する材料が有効である。例えば、ＧｅＳｂＴｅ系、Ｉｎ
ＳｂＴｅ系、ＧｅＴｅＩｎ系の少なくても３元系の材料
をあげることができる。

【００２２】ここでは記録層１としてＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ
系材料を用い、反射層６としてＡｌ−５ａｔ％Ｔｉ合金
膜を用い、保護層３，５としてＺｎＳ−２０ｍｏ１％Ｓ
ｉＯ２混合膜を用い、保護層７として紫外線硬化型樹脂
膜（ＵＶ硬化膜）を用い、光デスク基板２としてポリカ
−ボネ−ド基板（ＰＣ基板）を用いた上述の図１の層構
成の相変化光デスク１について実施例を示す。ついで、
図２及び図３を参照し、この実施例に係わる情報記録媒
体としての光デスク１の製造方法の一例について説明す
る。

【００２３】図２はこの実施例の情報記録媒体を製造す
るために用いられるスパッタリング装置の概略構成を示
す縦断面図、図３はその横断面図である。図中１０は真
空容器を示し、この真空容器１０は、その底面にガス導
入ポート１１及びガス排気ポート１２を有している。ガ
ス排出ポート１２は排気装置１３に接続されており、こ
の排気装置１３により排出ポート１２を介して真空容器
１０が排気される。

【００２４】また、ガス導入ポート１１はアルゴンガス
ボンベ１４に接続されており、このボンベ１４から真空
容器１０内にガス導入ポート１１を介してスパッタリン
グガスとしてのアルゴンガスが導入される。

【００２５】真空容器１０内の上部には、基板支持用の
円盤状の回転基台１５がその面を水平にして配設されて
おり、その下面に光ディスク基板２が支持され、図示し
ないモータによって回転されるようになっている。また
、真空容器１０内の底部近傍には、回転基台１５に対向
するように、各層を構成する記録層４用のＧｅ−Ｓｂ−
Ｔｅ系材料からなるスパッタリング源２１、保護層３及
び５用のＺｎＳ−２０ｍｏ１％ＳｉＯ２　混合膜からな
るスパッタリング源２２、及び本発明に係わる反射層６
用のＡｌ−３ａｔ％Ｔｉ合金膜からなるスパッタリング
源２３が配設されており、各スパッタリング源には図示
しない高周波電源が接続されている。これらのスパッタ
リング源２１，２２，２３の上部には、それぞれモニタ
装置２４，２５，２６が設けられており、これらモニタ
装置２４，２５，２６により各スパッタリング源２１，
２２，２３からのスパッタリング量をモニタし、記録層
４が所定の組成になるように各スパッタリング源に投入
する電力量を調節するようになっている。

【００２６】このようなスパッタリング装置においては
、まず、排気装置１３により真空容器１０内を例えば百
万分の１Ｔｏｒｒ　台まで排気する。本発明においては
特に、排気装置１３により真空容器１０内を百万分の５
Ｔｏｒｒ　台、好ましくは百万分の２Ｔｏｒｒ　台まで
排気するものである。

【００２７】ついで、ガス導入ポート１１を介して真空
容器１０内にアルゴンガスを導入しつつ、排気装置１３
の排気量を調節して真空容器１０内を所定のアルゴンガ
ス雰囲気に保持する。この状態で、基板６を回転させつ
つ、各スパッタリング源２１，２２，２３に層構成の順
番に所定時間所定の電力を印加する。これにより、光デ
ィスク基板２に所定の層構成を形成することができる。 （実験例）スパッタリング装置においては、まず、排気
装置１３により真空容器１０内を例えば百万分の１Ｔｏ
ｒｒ　台まで排気する。このときの真空度によって、Ａ
ｌ−Ｔｉ合金膜が形成されるかどうか調べた。スパッタ
リング源は上記実施例と同じである。表１にその結果を
示す。

【００２８】

【表１】

【００２９】以上の実験結果から明らかのようにＡｌ−
Ｔｉ合金膜を形成するためには、排気装置１３により真
空容器１０内を百万分の５Ｔｏｒｒ　以下まで排気する
ことが有効であることが判明した。

【００３０】また、排気装置１３により真空容器１０内
を百万分の５Ｔｏｒｒ以下まで排気して形成したＡｌ−
Ｔｉ合金は、ピンホール、不純物の取り込み、酸化膜な
どの形成がなく、光学的に十分な反射率をしめした。

【００３１】一方、排気装置１３により真空容器１０内
の百万分の５Ｔｏｒｒ以下まで排気しなかった場合は、
Ａｌ−Ｔｉ合金が形成されず、膜が付着しても、透明な
膜となり、反射層６としては不適合であった。

【００３２】以上、相変化光デスク１の実施例について
説明したが、本発明は、それに限定されるものではなく
、情報の記録再生で用いられる光デスク、光カード、光
テープなどの反射層を用いる情報記録媒体の製造方法に
関して適用できる。その他、本発明の要旨を変えない範
囲で種々変形実施可能なことは勿論である。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板上に少なくとも反射層を備えてなる情報記録媒体に
おいて、前記反射層がアルミニウム（Ａｌ）に少なくと
もチタン（Ｔｉ）を添加してなる材料からなり、該反射
層をスパッタ法で形成するときに、良質なＡｌ合金反射
膜を得るための情報記録媒体の製造方法を提供すること
ができるといった効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に適用される相変化型光デスクの断面
を摸式的に示す図。

【図２】この発明に用いられるスパッタリング装置の概
略構成を示す縦断面図。

【図３】この発明に用いられるスパッタリング装置の横
断面図。

【符号の説明】

１…光デスク、２…光デスク基板、３…保護層、４…記
録層、５…保護層、６…反射層、７…保護層、１０…真
空容器、１１…ガス導入ポート、１２…ガス排気ポート
、１３…排気装置、１４…アルゴンガスボンベ、１５…
回転基台、２１…スパッタリング源、２２…スパッタリ
ング源、２３…スパッタリング源、２４…モニタ装置、
２５…モニタ装置、２６…モニタ装置。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基板上に少なくとも反射層を備えてい
   る情報記録媒体において、前記反射層が、アルミニウム
   （Ａｌ）に少なくともチタン（Ｔｉ）を添加している材
   料からなり、該反射層をスパッタ法で形成するときに、
   スパッタ室内を百万分の５Ｔｏｒｒ　以下の真空度にし
   てから該材料の原料となるターゲットをスパッタするこ
   とを特徴とする情報記録媒体の製造方法。