JPH04363054A - 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

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JPH04363054A
JPH04363054A JP41831490A JP41831490A JPH04363054A JP H04363054 A JPH04363054 A JP H04363054A JP 41831490 A JP41831490 A JP 41831490A JP 41831490 A JP41831490 A JP 41831490A JP H04363054 A JPH04363054 A JP H04363054A
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epoxy resin
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hardener
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Tomohito Ootsuki
大槻 智仁
Hiroshi Shimawaki
嶋脇 寛
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光透過性に優れた光半導
体封止用エポキシ樹脂に関するものである。
【0002】
【従来の技術】オプトエレクトロニクス関連分野に於い
て酸無水物硬化タイプのエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ波長900〜1000nmの近赤外光領域で
の透過率が優れているのでフォトセンサー等に使用され
ている。しかし、従来の酸無水物硬化タイプのエポキシ
樹脂組成物は温度100〜125℃、湿度85〜100
%の高温高湿雰囲気下では耐湿性に難点があり、このた
め光透過率が著しく低下する欠点があった。これらの欠
点を改良するためシリコーンオイルを添加して耐湿性を
良くする方法(特開昭61−127723)、カップリ
ング剤を添加し耐湿性を良くする方法(特開昭61−1
27724)等が試みられているが、いまだ満足できる
ものでなかった。従って耐湿性が必要とされるエリアセ
ンサー等の用途にはガラスを用いて気密封止した光半導
体が用いられているが組立てコストが高いという欠点が
あり、生産性に優れたエポキシ成形材料の開発が望まれ
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は高温高湿下で
光透過率が劣化しない光半導体封止用エポキシ樹脂組成
物を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は下記式〔I〕で
示されるエポキシ樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜10
0重量%と
【0005】
【化2】
【0006】(式中のRはCnH2n+1でn=1〜6
)硬化剤および硬化促進剤からなる半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物である。
【0007】本発明の式〔I〕のエポキシ樹脂は多官能
の分子構造のため耐熱性が上がり、温度100〜125
℃、湿度85〜100%のような高温高湿雰囲気下での
吸湿劣下が少なくなり光透過性の低下が抑えられる。式
〔I〕中のmは2以下では耐熱性が充分に上がらず、高
温高湿雰囲気下での光透過性の低下が抑えられなくなる
。またmが20を超えると軟化点が高すぎて、樹脂組成
物の製造が困難となる。
【0008】式〔I〕に配合するエポキシ樹脂はビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂
、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられ特に限定するもので
はないが1種または2種以上併用することができる。
【0009】式〔I〕のエポキシ樹脂の配合量は総エポ
キシ樹脂量の20〜100重量%で好ましくは50重量
%以上である。20重量%未満であると耐熱性が充分に
上がらず、高温高湿雰囲気下で光透過性の低下が抑えら
れない。硬化剤としては多塩基カルボン酸無水物、フェ
ノール型ノボラック樹脂などがある。多塩基カルボン酸
無水物としては無水フタル酸、無水へキサヒドロフタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水
ナジック酸等が挙げられる。フェノール型ノボラック樹
脂にはフェノール型、クレゾール型、ビスフェノールA
型などがある。これらは1種または2種以上併用しても
よい。硬化剤とエポキシ樹脂の配合割合はエポキシ当量
1に対して0.5〜1.2当量の硬化剤が望ましく、こ
の範囲外では成形性に欠陥を起こす場合がある。
【0010】硬化促進剤にはトリメチルアミン、トリエ
タノールアミンなどの第3級アミン、トリフェニルホス
フィン、トリシクロヘキシルホスフィン等などの有機ホ
スフィン化合物、2−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類が挙げられる。また、本発明には公知のアゾ系
、キノン系の染料を1種または2種以上を混合して添加
してもよい。本発明の組成物の製造は各成分を混合し、
加熱ロールを用いて50〜90℃で混練し冷却固化後、
粉砕して粉末状とする。
【0011】以下、本発明を実施例で具体的に示す。
【実施例】実施例1〜3、比較例1〜3表1のエポキシ
樹脂100重量部にテトラヘキサ無水フタル酸をエポキ
シ当量1に対し0.9当量添加し、更に2−メチルイミ
ダゾール1重量部、グリセリン脂肪酸エステル3重量部
を配合し、70〜90℃の加熱ロールを用い加熱混練し
た後冷却固化、粉砕して樹脂組成物の粉末を得た。該樹
脂組成物を低圧トランスファー成形機を用いて温度15
0℃で厚さ1mmの試験片を成形し、さらに120℃で
6時間ポストキュアーした。この試験片を用いて、未処
理および吸湿後の光透過率を評価した。 結果を表1に示す。
【0012】評価方法 ※光透過率 試験片を100℃の純水で200時間煮沸し、分光光度
計を用いて波長950nmの光透過率を測定。 ※ガラス転移温度 15mm×3mm×4mmの試験片をTMA試験装置を
用いて室温より260℃まで加熱して測定。
【0013】
【表1】
【0014】※1  A:ビスフェノールA型エポキシ
樹脂(エポキシ当量490、軟化点68℃)B:クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量200、
軟化点70℃) C:式〔II〕のエポキシ樹脂(エポキシ当量190、
軟化点73℃)
【0015】
【化3】
【0016】※2  光透過率    ◎:90%以上
:85〜90% ×:85%未満
【0017】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ耐熱性があり高温高湿下での耐湿性が優れて
おり、近赤外光領域での光透過率の低下が抑えら、エリ
アセンサー等のような耐湿性を要求される用途への展開
ができる。またガラスを用いた気密封止に較べ組立コス
トを低減できる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  (A)下記式〔I〕で示されるエポキ
    シ樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜100重量%【化1
    】 (式中のRはCnH2n+1でn=1〜6)(B)硬化
    剤および (C)硬化促進剤からなる光半導体封止用エポキシ樹脂
    組成物。
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