JPH04359094A - 共沸組成物 - Google Patents
共沸組成物Info
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- JPH04359094A JPH04359094A JP16108291A JP16108291A JPH04359094A JP H04359094 A JPH04359094 A JP H04359094A JP 16108291 A JP16108291 A JP 16108291A JP 16108291 A JP16108291 A JP 16108291A JP H04359094 A JPH04359094 A JP H04359094A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、IC等
の電気・電子部品、精密機械部品等の油、グリース、ワ
ックス、フラックス等の洗浄等に用いられる共沸及び共
沸様組成物に関するものである。
の電気・電子部品、精密機械部品等の油、グリース、ワ
ックス、フラックス等の洗浄等に用いられる共沸及び共
沸様組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】油、グリース、ワックス、フラックス等
の洗浄等には、不燃性、低毒性、安定性に優れる等の特
徴を有する1,1,2−トリクロロ−1,2,2− ト
リフルオロエタン( 以下 R113 という) が広
く使用されている。さらに、R113は金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する特徴を有するため、金属、プラスチック
、エラストマー等からなる各種電気・電子部品、プリン
ト基板、精密機械部品等の洗浄には最適であった。
の洗浄等には、不燃性、低毒性、安定性に優れる等の特
徴を有する1,1,2−トリクロロ−1,2,2− ト
リフルオロエタン( 以下 R113 という) が広
く使用されている。さらに、R113は金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する特徴を有するため、金属、プラスチック
、エラストマー等からなる各種電気・電子部品、プリン
ト基板、精密機械部品等の洗浄には最適であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR
113は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
に特に安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して
成層圏に達し、ここで太陽光線により分解して発生する
塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を
破壊するとのことから、その使用規制が実施されること
となった。このため、従来のR113に替わり、オゾン
層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行なわれてい
る。
113は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
に特に安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して
成層圏に達し、ここで太陽光線により分解して発生する
塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を
破壊するとのことから、その使用規制が実施されること
となった。このため、従来のR113に替わり、オゾン
層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行なわれてい
る。
【0004】本発明は、従来のR113が有している優
れた特性を満足しながら代替溶剤として使用できる新規
なフッ素化塩素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物を提
供することを目的とするものである。
れた特性を満足しながら代替溶剤として使用できる新規
なフッ素化塩素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物を提
供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、炭素数が3である特定の
フッ素化塩素化炭化水素 1,3− ジクロロ−1,1
,2,2,3− ペンタフルオロプロパン(CClF2
CF2CHClF:以下 R225cb という) と
シクロヘキサンからなる共沸及び共沸様組成物を提供す
るものである。
成すべくなされたものであり、炭素数が3である特定の
フッ素化塩素化炭化水素 1,3− ジクロロ−1,1
,2,2,3− ペンタフルオロプロパン(CClF2
CF2CHClF:以下 R225cb という) と
シクロヘキサンからなる共沸及び共沸様組成物を提供す
るものである。
【0006】本発明の組成物の共沸様特性を示す混合組
成比は、R225cb70 〜99.5重量%及びシク
ロヘキサン 0.5〜30重量%であり、さらに共沸組
成はR225cb 97 重量%及びシクロヘキサン
3重量%である。なお、本発明の組成比は、用いるR2
25cb及びシクロヘキサンの純度や測定誤差等の影響
により、約±0.5 重量%程度の範囲で変動するもの
である。
成比は、R225cb70 〜99.5重量%及びシク
ロヘキサン 0.5〜30重量%であり、さらに共沸組
成はR225cb 97 重量%及びシクロヘキサン
3重量%である。なお、本発明の組成比は、用いるR2
25cb及びシクロヘキサンの純度や測定誤差等の影響
により、約±0.5 重量%程度の範囲で変動するもの
である。
【0007】本発明の組成物には、必要に応じてその他
の成分を更に添加混合することができる。例えば、溶剤
としての用途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘ
キサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、2,
3−ジメチルブタン、シクロペンタン、メチルシクロペ
ンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、
ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチルアミン
、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミ
ン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノール、エタ
ノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、
s−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアル
コール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1
,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類、ジク
ロロメタン、cis−1,2−ジクロロエチレン、tr
ans−1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパ
ン等のハロゲン化炭化水素類、その他、1,1−ジクロ
ロ−1− フルオロエタン、2,2−ジクロロ−1,1
,1− トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−1,
2,2,3,3− ペンタフルオロプロパン、1,2−
ジクロロ−1,1,3,3,3− ペンタフルオロプロ
パン、1,2−ジクロロ−1,1,2,3,3−ペンタ
フルオロプロパン、2,3−ジクロロ−1,1,1,2
,3− ペンタフルオロプロパン、2,2−ジクロロ−
1,1,1,3,3− ペンタフルオロプロパン、1,
1−ジクロロ−2,3,3,3− テトラフルオロプロ
ペン−1、trans−3−クロロ−1,1,1,2,
4,4,5,5,5−ノナフルオロペンテン−2、ci
s−3−クロロ−1,1,1,2,4,4,5,5,5
− ノナフルオロペンテン−2、1,1,1,2,2,
5,5,6,6,6−デカフルオロヘキサン等のR22
5cb以外のフッ素化塩素化炭化水素類等を適宜添加す
ることができる。
の成分を更に添加混合することができる。例えば、溶剤
としての用途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘ
キサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、2,
3−ジメチルブタン、シクロペンタン、メチルシクロペ
ンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、
ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチルアミン
、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミ
ン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノール、エタ
ノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、
s−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアル
コール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1
,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類、ジク
ロロメタン、cis−1,2−ジクロロエチレン、tr
ans−1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパ
ン等のハロゲン化炭化水素類、その他、1,1−ジクロ
ロ−1− フルオロエタン、2,2−ジクロロ−1,1
,1− トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−1,
2,2,3,3− ペンタフルオロプロパン、1,2−
ジクロロ−1,1,3,3,3− ペンタフルオロプロ
パン、1,2−ジクロロ−1,1,2,3,3−ペンタ
フルオロプロパン、2,3−ジクロロ−1,1,1,2
,3− ペンタフルオロプロパン、2,2−ジクロロ−
1,1,1,3,3− ペンタフルオロプロパン、1,
1−ジクロロ−2,3,3,3− テトラフルオロプロ
ペン−1、trans−3−クロロ−1,1,1,2,
4,4,5,5,5−ノナフルオロペンテン−2、ci
s−3−クロロ−1,1,1,2,4,4,5,5,5
− ノナフルオロペンテン−2、1,1,1,2,2,
5,5,6,6,6−デカフルオロヘキサン等のR22
5cb以外のフッ素化塩素化炭化水素類等を適宜添加す
ることができる。
【0008】これらの化合物の添加量は、安定化の目的
のためには、0.01〜10重量%、溶解力向上または
調節等の目的のためには 0.1〜30重量%である。
のためには、0.01〜10重量%、溶解力向上または
調節等の目的のためには 0.1〜30重量%である。
【0009】R225cbとシクロヘキサンとからなる
本発明の組成物は、共沸組成または共沸様特性を有する
ため、蒸気洗浄等においても、組成変化がない、または
極めて小さいため、単一の溶剤と同様に用いることがで
きる。 また、プロペラントやフェノール樹脂等の発泡剤として
使うこともできる。
本発明の組成物は、共沸組成または共沸様特性を有する
ため、蒸気洗浄等においても、組成変化がない、または
極めて小さいため、単一の溶剤と同様に用いることがで
きる。 また、プロペラントやフェノール樹脂等の発泡剤として
使うこともできる。
【0010】さらにまた、R225cbとシクロヘキサ
ンとからなる本発明の共沸及び共沸様組成物は、従来の
R113と同程度の溶解力を有するため、溶剤の各種用
途に好適に使用でる。この具体的な用途としては、油、
グリース、ワックス、フラックス、インキ等の洗浄・除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プ
ラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電
気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤等
を挙げることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸
漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用す
ればよい。
ンとからなる本発明の共沸及び共沸様組成物は、従来の
R113と同程度の溶解力を有するため、溶剤の各種用
途に好適に使用でる。この具体的な用途としては、油、
グリース、ワックス、フラックス、インキ等の洗浄・除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プ
ラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電
気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤等
を挙げることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸
漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用す
ればよい。
【0011】
[実施例1]下記の組成からなる組成物1000gを蒸
留フラスコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大
気圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
95シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 5
留フラスコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大
気圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
95シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 5
【0012】その結果、55.9℃
において留分 430gを得た。このものをガスクロマ
トグラフで測定した結果、次の組成であった。 (組成) (
重量%)R225cb
97シクロヘキサン
3
において留分 430gを得た。このものをガスクロマ
トグラフで測定した結果、次の組成であった。 (組成) (
重量%)R225cb
97シクロヘキサン
3
【0013】
[実施例2]下記の組成からなる組成物1000gを蒸
留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気
圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
90シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 10
[実施例2]下記の組成からなる組成物1000gを蒸
留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気
圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
90シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 10
【0014】その結果、4時間後、
8時間後、12時間後において留分100gを各々採取
した。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、
次の組成であった。
8時間後、12時間後において留分100gを各々採取
した。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、
次の組成であった。
【0015】[実施例3]下記の組成からなる組成物1
000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔
を用い、大気圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
80シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 20
000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔
を用い、大気圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
80シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 20
【0016】その結果、4時間後、
8時間後、12時間後において留分100gを各々採取
した。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、
次の組成であった。
8時間後、12時間後において留分100gを各々採取
した。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、
次の組成であった。
【0017】[実施例4]下記の組成からなる組成物1
000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔
を用い、大気圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
75シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 25
000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔
を用い、大気圧下で蒸留を行なった。 (組成) (
重量%)R225cb(沸点56.1℃)
75シクロヘキサン(沸点80.7℃
) 25
【0018】その結果、4時間後、
8時間後、12時間後において留分100gを各々採取
した。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、
次の組成であった。
8時間後、12時間後において留分100gを各々採取
した。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、
次の組成であった。
【0019】[実施例5]実施例1の組成物(R225
cb/シクロヘキサン=97重量%/3 重量%)につ
いてタグ式引火点測定装置(JIS K 2265)を
用いて、引火点を測定した。その結果、この組成物は引
火点がなく、不燃であることが確認された。
cb/シクロヘキサン=97重量%/3 重量%)につ
いてタグ式引火点測定装置(JIS K 2265)を
用いて、引火点を測定した。その結果、この組成物は引
火点がなく、不燃であることが確認された。
【0020】[実施例6〜9]機械油の洗浄試験として
、SUS−304 のテストピース(25mm ×30
mm×2mm)を機械油(日本石油製CQ−30)中に
浸漬した後、表1の混合組成物中に5分浸漬した。機械
油の除去の度合を表1に示す。
、SUS−304 のテストピース(25mm ×30
mm×2mm)を機械油(日本石油製CQ−30)中に
浸漬した後、表1の混合組成物中に5分浸漬した。機械
油の除去の度合を表1に示す。
【0021】
【表1】
【0022】
【発明の効果】本発明のR225cbとシクロヘキサン
からなる共沸及び共沸様組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、従来のR113と同じ使
い方でき、従来技術の大幅な変更を要しない等の利点が
あり、さらに蒸気洗浄等を行っても組成変化がない、ま
たは極めて小さいという利点もある。
からなる共沸及び共沸様組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、従来のR113と同じ使
い方でき、従来技術の大幅な変更を要しない等の利点が
あり、さらに蒸気洗浄等を行っても組成変化がない、ま
たは極めて小さいという利点もある。
Claims (4)
- 【請求項1】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパンとシクロヘキサンとからなる
共沸組成物。 - 【請求項2】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパン97重量%とシクロヘキサン
3 重量%とからなる共沸組成物。 - 【請求項3】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパンとシクロヘキサンとからなる
共沸様組成物。 - 【請求項4】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパン70〜99.5重量%とシク
ロヘキサン 0.5〜30重量%とからなる共沸様組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16108291A JPH04359094A (ja) | 1991-06-05 | 1991-06-05 | 共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16108291A JPH04359094A (ja) | 1991-06-05 | 1991-06-05 | 共沸組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04359094A true JPH04359094A (ja) | 1992-12-11 |
Family
ID=15728282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16108291A Pending JPH04359094A (ja) | 1991-06-05 | 1991-06-05 | 共沸組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04359094A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013224383A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Asahi Glass Co Ltd | 洗浄用溶剤組成物 |
-
1991
- 1991-06-05 JP JP16108291A patent/JPH04359094A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013224383A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Asahi Glass Co Ltd | 洗浄用溶剤組成物 |
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