JPH04356744A - Exposing method for optical master disk and device thereof - Google Patents
Exposing method for optical master disk and device thereofInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 44
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 30
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
【０００１】0001
【産業上の利用分野】本発明は光ディスク原盤露光方法
及びその装置に関し、特にレジスト剤の感度変動に対応
して露光光量を適宜設定するようにした光ディスク原盤
露光方法及びその装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disc master exposure method and apparatus, and more particularly to an optical disc master exposure method and apparatus in which the amount of exposure light is appropriately set in response to variations in the sensitivity of a resist agent.
【０００２】0002
【従来の技術】近年においては、光ディスクを利用した
画像情報等の提供が行われ、これら光ディスクを製造す
る際の原盤を作成するための光ディスク原盤露光装置も
種々開発されている。2. Description of the Related Art In recent years, image information and the like have been provided using optical discs, and various optical disc master exposure apparatuses have been developed for creating master discs for manufacturing these optical discs.
【０００３】このような従来の光ディスク原盤露光装置
においては、露光の際にガラス原盤に塗布されたレジス
ト剤の膜厚と露光光量のみを管理するようにしており、
そのため溝形状を管理するための試し露光を行わなけれ
ばならない。[0003] In such a conventional optical disk master exposure apparatus, only the film thickness of the resist agent applied to the glass master and the amount of exposure light are managed during exposure.
Therefore, trial exposure must be performed to control the groove shape.
【０００４】すなわち、光ディスクの原盤露光時に形成
された溝形状により、光ディスクの再生信号の特性は大
きく左右される。したがって、露光時の溝形状を管理し
、安定化させることが大きな課題となっている。その管
理方法として、従来はレジスト剤の膜厚の管理や露光用
レーザの光軸、光量の制御等を行なうようにしていた。[0004] That is, the characteristics of the reproduced signal of the optical disc are greatly influenced by the shape of the grooves formed during exposure of the original disc of the optical disc. Therefore, it is a major challenge to manage and stabilize the groove shape during exposure. Conventionally, this has been managed by controlling the film thickness of the resist agent, the optical axis of the exposure laser, and the amount of light.
【０００５】しかしながら、このレジスト剤は、膜厚の
みを管理するのではなく、感度についても考慮する必要
がある。すなわち、レジスト剤は、ロットにより、また
その保存期間や光ディスク原盤への塗布後の放置時間等
により感度に差異が生じる。さらには、光ディスク原盤
への塗布の際の塗りムラによって同一原盤内でも感度に
ばらつきが生じることがあった。However, with this resist agent, it is necessary not only to control the film thickness but also to consider the sensitivity. That is, the sensitivity of the resist agent varies depending on the lot, its storage period, and the time it is left to stand after being applied to the optical disc master. Furthermore, variations in sensitivity may occur even within the same master disc due to uneven coating during application to the optical disc master disc.
【０００６】このように、従来の装置ではロット、保存
期間或いは塗布後の放置時間等により生じるレジスト剤
の感度の差異を全く考慮することなく、露光光量の制御
を行っていたことから、溝形状の管理には自ずと限界が
あった。本発明は上記事情に鑑みなされたもので、レジ
スト剤の感度をも考慮した露光光量の制御を行ない常に
安定した溝形状で形成し得る光ディスク原盤露光方法及
びその装置を提供することを目的とする。[0006] As described above, in conventional equipment, the amount of exposure light was controlled without taking into account the differences in sensitivity of the resist agent caused by lot, storage period, or time left after application, etc. There were naturally limits to its management. The present invention was made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide an optical disk master exposure method and apparatus that can always form a stable groove shape by controlling the amount of exposure light taking into account the sensitivity of the resist agent. .
【０００７】[0007]
【発明の構成】上記目的を達成するために、第１の発明
は第１図に示すように、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤２１にレーザ光を照射して露光を行う際に、当
該光ディスク原盤２１に向けて出射されたレーザ光の反
射光量及び透過光量に基づいて、光ディスク原盤を照射
するレーザ光の露光光量を制御することを要旨とする。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the first invention, as shown in FIG. The gist of the present invention is to control the exposure light amount of the laser light that irradiates the optical disk master based on the reflected light amount and the transmitted light amount of the laser light emitted toward the master disc 21 .
【０００８】また、第２の発明は、光ディスク原盤を作
成する光ディスク原盤露光装置において、レジスト剤の
塗布された光ディスク原盤にレーザ光を照射するレーザ
光照射手段と、このレーザ光照射手段から出射されるレ
ーザ光の光軸上にあって入力される制御信号によって当
該レーザ光の光量を制御する音響光学変調器と、前記レ
ーザ光照射手段から照射され、当該光ディスク原盤で反
射された反射光を入射する第１の検出手段と、前記レー
ザ光照射手段から照射され、当該光ディスク原盤を透過
した透過光を入射する第２の検出手段と、この第１の検
出手段と第２の検出手段で検出される反射光量および透
過光量から当該光ディスクに塗布されるレジスト剤の感
度に係る値を演算し、この値に応じて前記音響光学変調
器に制御信号を出力して露光光量を設定する制御手段と
を具備することを要旨とする。[0008] A second aspect of the invention is an optical disk master exposure apparatus for producing an optical disk master, including a laser beam irradiation means for irradiating a laser beam onto the optical disk master coated with a resist agent, and a laser beam emitted from the laser beam irradiation means. an acousto-optic modulator that is located on the optical axis of the laser beam and controls the amount of the laser beam according to an input control signal; and an acousto-optic modulator that is irradiated from the laser beam irradiation means and reflected by the optical disk master. a first detection means for detecting a signal; a second detection means for receiving transmitted light emitted from the laser beam irradiation means and transmitted through the optical disk master; control means for calculating a value related to the sensitivity of a resist agent applied to the optical disk from the amount of reflected light and the amount of transmitted light, and outputting a control signal to the acousto-optic modulator to set the amount of exposure light according to this value; The main point is to have the following.
【０００９】第３の発明は、光ディスク原盤を作成する
光ディスク原盤露光装置において、レジスト剤の塗布さ
れた光ディスク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射
手段と、このレーザ光照射手段から照射され、当該光デ
ィスク原盤を介して入射されるレーザ光の光路間に挿脱
自在に設けられ、当該レーザ光の光量を検出する検出手
段と、この検出手段で検出される光量から当該光ディス
クに塗布されるレジスト剤の感度に係る値を求め、この
値に応じて前記レーザ光照射手段を制御する制御手段と
を具備することを要旨とする。A third aspect of the present invention is an optical disk master exposure apparatus for producing an optical disk master, including a laser beam irradiating means for irradiating a laser beam onto the optical disk master coated with a resist agent, and a laser beam irradiating means that irradiates the optical disk master coated with a resist agent. A detection means that is removably inserted between the optical paths of the laser light incident through the optical disc master disc and detects the amount of the laser light, and a resist agent that is applied to the optical disc based on the amount of light detected by the detection means. The object of the present invention is to include a control means for determining a value related to the sensitivity of the laser beam and controlling the laser beam irradiation means in accordance with this value.
【００１０】第４の発明は請求項１、２記載の光ディス
ク原盤露光装置において、前記第１の検出手段及び第２
の検出手段による反射光量および透過光量を検出すると
共に、この反射光量および透過光量から当該光ディスク
に塗布されるレジスト剤の感度に係る値を演算し、この
値に応じて前記音響光学変調器に制御信号を出力して露
光光量を順次調整することで、当該レジスト剤感度の変
動に追従して露光光量の設定を変えていくことを要旨と
する。A fourth aspect of the invention is the optical disk master exposure apparatus according to claims 1 and 2, in which the first detection means and the second
The amount of reflected light and the amount of transmitted light are detected by the detection means, and a value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk is calculated from the amount of reflected light and the amount of transmitted light, and the acousto-optic modulator is controlled according to this value. The gist is to output a signal and sequentially adjust the exposure light amount, thereby changing the setting of the exposure light amount in accordance with fluctuations in the sensitivity of the resist agent.
【００１１】第５の発明は請求項１、２、３記載の光デ
ィスク原盤露光装置において、前記第１の検出手段及び
第２の検出手段による反射光量および透過光量の検出は
、本露光前に当該光ディスク原盤の露光記録領域外で行
われることを要旨とする。According to a fifth aspect of the present invention, in the optical disk master exposure apparatus according to claims 1, 2, and 3, the detection of the amount of reflected light and the amount of transmitted light by the first detection means and the second detection means is carried out before the main exposure. The gist is that this is done outside the exposure recording area of the master optical disc.
【００１２】0012
【作用】本発明の上記各実施例の作用は、次の通りであ
る。[Operation] The operation of each of the above embodiments of the present invention is as follows.
【００１３】第１の発明における光ディスク原盤の露光
方法は、まず、レーザ光をレジスト剤の塗布された光デ
ィスク原盤に照射して露光を行う際に、当該光ディスク
原盤に向けて出射されたレーザ光の反射光量及び透過光
量を検出するようにしている。次に、この検出された反
射光量及び透過光量に基づいて光ディスク原盤に塗布さ
れたレジスト剤の感度に係る値を演算し、さらにこの演
算された値をもとに、光ディスク原盤を照射するレーザ
光の露光光量を制御するようにしたものである。[0013] In the method for exposing an optical disk master in the first invention, first, when performing exposure by irradiating a laser beam onto an optical disk master coated with a resist agent, the laser beam emitted toward the optical disk master is exposed. The amount of reflected light and the amount of transmitted light are detected. Next, a value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk master is calculated based on the detected amount of reflected light and transmitted light, and further, based on this calculated value, a laser beam is applied to the optical disk master. The exposure light amount is controlled.
【００１４】また、第２の発明における光ディスク原盤
の露光装置は、レーザ光照射手段からレジスト剤の塗布
された光ディスク原盤に出射されるレーザ光の光軸上に
音響光学変調器が設けられる。また、レーザ光照射手段
から照射され、当該光ディスク原盤で反射された反射光
及び光ディスク原盤を透過した透過光がそれぞれ第１の
検出手段と第２の検出手段で検出され、それぞれの検出
手段から得られた反射光量および透過光量から当該光デ
ィスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る値が演算さ
れる。さらに、この値に応じて制御手段から出力される
制御信号によって音響光学変調器がレーザ光照射手段か
ら出射されるレーザ光の光量を制御して、露光光量が設
定される。Further, in the exposure apparatus for an optical disc master according to the second invention, an acousto-optic modulator is provided on the optical axis of the laser beam emitted from the laser beam irradiation means to the optical disc master coated with the resist agent. Further, the reflected light irradiated from the laser beam irradiation means and reflected by the optical disc master and the transmitted light transmitted through the optical disc master are respectively detected by the first detection means and the second detection means, and the light obtained from the respective detection means is detected. A value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk is calculated from the amount of reflected light and the amount of transmitted light. Further, the acousto-optic modulator controls the amount of laser light emitted from the laser beam irradiation means using a control signal output from the control means in accordance with this value, thereby setting the amount of exposure light.
【００１５】第３の発明における光ディスク原盤の露光
装置は、レーザ光照射手段によってレジスト剤の塗布さ
れた光ディスク原盤にレーザ光が照射されると、このレ
ーザ光の光路間に設けられるレーザ光検出手段によって
当該光ディスク原盤を介して、例えば反射し透過して入
射されるレーザ光の光量がそれぞれ検出される。この光
量の検出の後に、当該検出手段は光路から露光に影響を
与えない位置にまで移動される。さらに、検出手段で検
出されるレーザ光の反射光量及び透過光量から求められ
た当該光ディスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る
値に応じて前記レーザ光照射手段が制御される。[0015] In the exposure apparatus for an optical disc master according to the third invention, when the optical disc master coated with a resist agent is irradiated with laser light by the laser light irradiation means, the laser light detection means provided between the optical paths of the laser light is For example, the amount of laser light that is reflected, transmitted, and incident through the optical disc master is detected. After detecting this amount of light, the detection means is moved from the optical path to a position where it does not affect exposure. Further, the laser beam irradiation means is controlled in accordance with a value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk, which is determined from the amount of reflected light and the amount of transmitted light of the laser light detected by the detection means.
【００１６】第４の発明は第１の検出手段及び第２の検
出手段による検出と露光光量の調整を例えばプレグルー
ブ用のレーザ光により同時に、もしくはＩＤビームによ
り時分割で行うことで、レジスト剤感度の変動にリアル
タイムで露光光量を変えていくものである。[0016] The fourth invention is such that the detection by the first detection means and the second detection means and the adjustment of the exposure light amount are performed simultaneously using, for example, a laser beam for pregroove, or in a time-sharing manner using an ID beam. The exposure light amount is changed in real time in response to changes in sensitivity.
【００１７】第５の発明は、第１の検出手段及び第２の
検出手段による反射光量および透過光量の検出を、本露
光前にディスク原盤の露光記録領域外で行なうことによ
りリアルタイムに且つ正確な露光光量の設定を行うよう
にしたものである。[0017] In the fifth invention, the amount of reflected light and the amount of transmitted light are detected by the first detecting means and the second detecting means outside the exposure recording area of the master disc before the main exposure, so that detection can be carried out in real time and accurately. The exposure light amount is set.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、本発明に係る一実施例を添付図面を参
照して詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
【００１９】まず、図１のブロック図を参照して第１の
実施例の全体的な構成を説明する。レーザ光照射手段と
してのアルゴンレーザ装置１は、レジスト剤の塗布され
た光ディスク原盤２１を露光する露光用光源であって、
アルゴンレーザ装置１から出射されたレーザ光は音響光
学変調器（以下、単にＡ／Ｏ変調器という）３で光量設
定、制御される。このＡ／Ｏ変調器３は、後述するコン
トロールユニット２５から入力される制御信号によって
制御される超音波によって、入射されるレーザ光の光量
等を音響光学効果により制御するもので、このＡ／Ｏ変
調器３で光量が所定値に制御されたレーザ光は図示しな
い露光光学系を介して、ダイクロックミラー５に入射さ
れる。First, the overall configuration of the first embodiment will be explained with reference to the block diagram of FIG. The argon laser device 1 as a laser beam irradiation means is an exposure light source that exposes the optical disk master 21 coated with a resist agent,
The laser light emitted from the argon laser device 1 is set and controlled in light amount by an acousto-optic modulator (hereinafter simply referred to as an A/O modulator) 3. This A/O modulator 3 controls the amount of laser light incident thereon using an acousto-optic effect using ultrasonic waves that are controlled by a control signal input from a control unit 25, which will be described later. The laser beam whose light intensity is controlled to a predetermined value by the modulator 3 is incident on the dichroic mirror 5 via an exposure optical system (not shown).
【００２０】このダイクロックミラー５は、入射される
レーザ光（以下、主ビームともいう）の一部を透過して
光量センサ７に入射すると共に、他のレーザ光を偏向ビ
ームスプリッタ（以下、単にＰＢＳともいう）１３に向
けて、反射する。光量センサ７に入射されたレーザ光は
その光量が測定され、この測定された光量を基にダイク
ロックミラー５の透過率を考慮して主ビームの全光量が
求められる。This dichroic mirror 5 transmits a part of the incident laser light (hereinafter also referred to as main beam) and enters the light amount sensor 7, and also transmits the other laser light to a deflection beam splitter (hereinafter simply referred to as main beam). (also referred to as PBS) 13. The light intensity of the laser beam incident on the light intensity sensor 7 is measured, and based on the measured light intensity, the total light intensity of the main beam is determined by taking into account the transmittance of the dichroic mirror 5.
【００２１】また、ダイクロックミラー５で分岐された
レーザ光は、偏向ビームスプリッタ１３及びλ／４波長
板１５を通過して、ターンテーブル１９上に載置され、
レジスト剤を塗布した光ディスク原盤（レジスト剤塗布
盤）２１に至る。ここで入射されたレーザ光の一部は光
ディスク原盤２１を透過して光量センサ２３により透過
光量として測定され、また光ディスク原盤２１で反射さ
れたレーザ光はλ／４波長板１５、ＰＢＳ１３を介して
９０度、偏向された後、光量センサ１７に入射して光デ
ィスク原盤２１の反射光量として測定される。Further, the laser beam split by the dichroic mirror 5 passes through a polarizing beam splitter 13 and a λ/4 wavelength plate 15, and is placed on a turntable 19.
This leads to an optical disc master (resist agent coated disk) 21 coated with a resist agent. A part of the laser light incident here passes through the optical disc master 21 and is measured as the amount of transmitted light by the light quantity sensor 23, and the laser light reflected by the optical disc master 21 passes through the λ/4 wavelength plate 15 and the PBS 13. After being deflected by 90 degrees, the light enters the light amount sensor 17 and is measured as the amount of light reflected from the optical disk master 21 .
【００２２】また、センサ７の測定光量は第１の電流／
電圧変換回路（以下、単に第１のＩ／Ｖコンバータとい
う）９ａ及び第１のアナログ／デジタル変換回路（以下
、単に第１のＡ／Ｄコンバータという）１１ａを介して
、センサ１７の測定光量は第２の電流／電圧変換回路（
以下、単に第２のＩ／Ｖコンバータという）９ｂ及び第
２のアナログ／デジタル変換回路（以下、単に第２のＡ
／Ｄコンバータという）１１ｂを介して、センサ２３の
測定光量は第３の電流／電圧変換回路（以下、単に第３
のＩ／Ｖコンバータという）９ｃ及び第３のアナログ／
デジタル変換回路（以下、単に第３のＡ／Ｄコンバータ
という）１１ｃを介して、それぞれコントロールユニッ
ト２５に入力される。コントロールユニット２５はマイ
クロコンピュータを内蔵してシステム全体をいわゆるマ
イコン制御する。この時コントロールユニット２５から
のＡ／Ｄ．Ｃコントロール信号により同時刻若しくは極
く短い時間差を経て取り込まれる。Furthermore, the amount of light measured by the sensor 7 is determined by the first current/
The amount of light measured by the sensor 17 is measured via a voltage conversion circuit (hereinafter simply referred to as the first I/V converter) 9a and a first analog/digital conversion circuit (hereinafter simply referred to as the first A/D converter) 11a. Second current/voltage conversion circuit (
(hereinafter simply referred to as a second I/V converter) 9b and a second analog/digital conversion circuit (hereinafter simply referred to as a second I/V converter) 9b.
/D converter) 11b, the measured light amount of the sensor 23 is converted to a third current/voltage conversion circuit (hereinafter simply referred to as a third current/voltage converter) 11b.
(referred to as I/V converter) 9c and the third analog/
Each signal is input to the control unit 25 via a digital conversion circuit (hereinafter simply referred to as a third A/D converter) 11c. The control unit 25 has a built-in microcomputer and controls the entire system. At this time, the A/D from the control unit 25. The signals are captured at the same time or with a very short time difference depending on the C control signal.
【００２３】コントロールユニット２５に取り込まれた
各光量センサの測定光量はコントロールユニット２５内
の演算部において、ダイクロックミラー５の透過率によ
り補正された後、
吸光率（％）＝｛全光量−（反射光量＋透過光量）｝／
全光量×１００
として、レジスト剤感度が計算される。The amount of light measured by each light amount sensor taken into the control unit 25 is corrected by the transmittance of the dichroic mirror 5 in the arithmetic section in the control unit 25, and then the light absorption rate (%) = {total amount of light - ( amount of reflected light + amount of transmitted light)}/
Resist agent sensitivity is calculated as total light amount x 100.
【００２４】さらに、このレジスト剤感度を基にした露
光光量の増減調整は、コントロールユニット２５がデジ
タル／アナログ変換回路（以下、単にＤ／Ａコンバータ
という）２７を介して、Ａ／Ｏ変調器３のコントロール
電圧を変化させることによって行う。Further, the control unit 25 controls the A/O modulator 3 via a digital/analog conversion circuit (hereinafter simply referred to as a D/A converter) 27 to adjust the exposure light amount based on the sensitivity of the resist agent. This is done by changing the control voltage of
【００２５】したがって、初期値として設定された露光
光量とレジスト剤感度の既定値に対して、測定されたレ
ジスト剤の感度に変動があった場合には、露光光量を該
変動に対応して増減することにより、あたかもレジスト
剤の感度が常に一定であるが如くなるように感度調整を
行なうことができ、所望の溝形状を得ることができる。Therefore, if there is a change in the measured sensitivity of the resist agent with respect to the default values of the exposure light amount and resist agent sensitivity set as initial values, the exposure light amount is increased or decreased in accordance with the change. By doing so, the sensitivity can be adjusted as if the sensitivity of the resist agent were always constant, and a desired groove shape can be obtained.
【００２６】尚、膜厚をパラメータとしたレジスト剤感
度の変動に対する露光光量の増減量は予め実験等により
測定して得られたデータとして、コントロールユニット
２５のメモリ（ＲＯＭ若しくはＲＡＭ）に入力しておき
、レジスト剤感度の変動量に応じて、その増減量を算出
する。Incidentally, the increase/decrease in the exposure light amount with respect to the variation in the sensitivity of the resist agent using the film thickness as a parameter is input into the memory (ROM or RAM) of the control unit 25 as data obtained by measurement through experiments or the like in advance. Then, the increase or decrease in resist agent sensitivity is calculated according to the amount of change in resist agent sensitivity.
【００２７】以上の補正が終了した後、主ビームの光軸
上に配設されたダイクロックミラー５及び光量センサ７
を光軸外の、露光に影響を与えない位置に移動させた後
に、本露光を上記新たに設定された露光光量で行う。After the above correction is completed, the dichroic mirror 5 and the light amount sensor 7 arranged on the optical axis of the main beam are
is moved to a position off the optical axis that does not affect exposure, and then main exposure is performed with the newly set exposure light amount.
【００２８】上述したように、本実施例によれば、本露
光の直前にレジスト剤感度を測定し、その既定値に対す
る変動分を露光光量の増減により補正し、見掛上のレジ
スト感度が一定になるようにして、溝形状の安定化を計
るようにしたので、レジスト剤のロットにより、またそ
の保存期間や光ディスク原盤への塗布後の放置時間等に
より差異の生じた感度を是正した露光光量の制御を行な
うことができ、常に安定した溝形状を形成することがで
きる。なお、本実施例は請求項５に対応するものである
。As described above, according to this embodiment, the resist agent sensitivity is measured immediately before the main exposure, and the variation with respect to the predetermined value is corrected by increasing or decreasing the exposure light amount, so that the apparent resist sensitivity remains constant. In order to stabilize the groove shape, the exposure light amount corrected the sensitivity differences caused by the lot of resist agent, its storage period, and the time it was left after coating on the optical disc master. can be controlled, and a stable groove shape can be formed at all times. Note that this embodiment corresponds to claim 5.
【００２９】次に、第２の実施例について図２を参照し
て、詳細に説明する。Next, a second embodiment will be explained in detail with reference to FIG. 2.
【００３０】尚、図１と同一または同等部分には同一符
号を付して詳細な説明を省略する。本実施例は図１に示
した第１の実施例に、ヘリウム−ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）
レーザ装置３１、ダイクロックミラー３３、偏向ビーム
スプリッタ３５、フォーカス制御部３７、λ／４波長板
３９、対物レンズ部４１及び集光レンズ４３からなるフ
ォーカス制御系を付加したことを主な構成上の特徴とす
るものである。It should be noted that the same or equivalent parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals and detailed explanations will be omitted. This embodiment is based on helium-neon (He-Ne) in addition to the first embodiment shown in FIG.
The main structural changes include the addition of a focus control system consisting of a laser device 31, a dichroic mirror 33, a deflection beam splitter 35, a focus control section 37, a λ/4 wavelength plate 39, an objective lens section 41, and a condensing lens 43. This is a characteristic feature.
【００３１】まず、アルゴンレーザ装置１から出射され
たレーザ光はＡ／Ｏ変調器３で光軸が初期設定され主ビ
ームとして露光光学系３０へ至り、ダイクロックミラー
５、光量センサ７を介して、出射光量が測定される。First, the laser beam emitted from the argon laser device 1 has its optical axis initially set by the A/O modulator 3 and reaches the exposure optical system 30 as a main beam. , the amount of emitted light is measured.
【００３２】一方、他方Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置３１から
出射されたヘリウム−ネオンレーザビームは、ダイクロ
ックミラー３３、偏向ビームスプリッタ３５、λ／４波
長板３９、偏向ビームスプリッタ１３、λ／４波長板１
５及び対物レンズ部４１を通過して光ディスク原盤２１
に入射される。光ディスク原盤２１に入射されたレーザ
光の一部は反射され、再び対物レンズ部４１、λ／４波
長板１５、偏向ビームスプリッタ１３、λ／４波長板３
９及び偏向ビームスプリッタ３５を介して、フォーカス
制御部３７へ入射される。フォーカス制御部３７はこの
入射光量に基づいて対物レンズ部４１のアクチュエータ
４１ａを駆動して対物レンズ４１ｂを光軸方向に移動し
て、フォーカス制御を行う。On the other hand, the helium-neon laser beam emitted from the other He-Ne laser device 31 is transmitted through a dichroic mirror 33, a polarizing beam splitter 35, a λ/4 wavelength plate 39, a polarizing beam splitter 13, and a λ/4 wavelength plate. 1
5 and the objective lens section 41, the optical disc master 21
is incident on the A part of the laser beam incident on the optical disc master 21 is reflected and is again transmitted to the objective lens unit 41, the λ/4 wavelength plate 15, the deflection beam splitter 13, and the λ/4 wavelength plate 3.
9 and the deflection beam splitter 35 to enter the focus control section 37 . The focus control section 37 drives the actuator 41a of the objective lens section 41 based on the amount of incident light to move the objective lens 41b in the optical axis direction, thereby performing focus control.
【００３３】また、透過したレーザ光は、集光レンズ４
３によってセンサ２３上に集光され、透過光量としてそ
の光量が測定される。上記測定及び露光光量設定の動作
を露光時に同時に或いは時分割で行えば、感度変動をリ
アルタイムに補正することができる。Furthermore, the transmitted laser beam is passed through the condensing lens 4.
3, the light is focused on the sensor 23, and the amount of light is measured as the amount of transmitted light. If the above measurement and exposure light amount setting operations are performed simultaneously during exposure or in a time-sharing manner, sensitivity fluctuations can be corrected in real time.
【００３４】また、本実施例においては、主ビームは２
ビームが用いられることがしばしばある。すなわち、プ
レグルーブ用の常時入射しているレーザビームと、ＩＤ
ビーム用のピット形成用ビームで間欠的に入射されるレ
ーザビームとがある。この２ビームでの露光時、前述の
感度測定をランダムに行うと、ＩＤ用ビームは間欠パタ
ーンが変化しているため、その影響を受け、測定の精度
が低下する虞がある。Furthermore, in this embodiment, there are two main beams.
Beams are often used. In other words, the laser beam that is always incident for the pregroove, and the ID
There is a laser beam that is intermittently incident as a pit-forming beam. If the above-mentioned sensitivity measurement is performed randomly during exposure with these two beams, the intermittent pattern of the ID beam changes, so there is a possibility that the accuracy of the measurement will be affected by this change.
【００３５】これに対し、プレグルーブ用のレーザ光の
み入射されている（ディスクではデータ部に当たる）タ
イミングでは常に光量は安定しており感度測定精度は良
い。従って、コントロールユニット２５からＡ／Ｄ．Ｃ
へのコントロール信号をデータ部の露光時となる様にサ
ンプリングすれば良い。On the other hand, at the timing when only the pregroove laser light is incident (hitting the data area on the disc), the light amount is always stable and the sensitivity measurement accuracy is good. Therefore, from the control unit 25, the A/D. C
It is sufficient to sample the control signal to the data area at the time of exposure.
【００３６】上述したように、本実施例によれば、光デ
ィスク原盤露光時にリアルタイムでレジスト剤感度を測
定し、その既定値に対する変動部分を露光光量の増減で
補正し、あたかもレジスト感度が一定になるようにして
、溝形状の安定化を図る。さらにリアルタイムでレジス
ト剤感度に対する補正を行うことにより、レジスト剤の
ロット差、またその保存期間や光ディスク原盤への塗布
後の放置時間等により差異の生じた感度を是正すると共
に、レジスト剤の塗りムラ（基盤内変動）による感度差
も補正する事ができより安定な溝形状を得ることができ
る。As described above, according to this embodiment, the resist agent sensitivity is measured in real time during exposure of the optical disk master, and the variation with respect to the predetermined value is corrected by increasing or decreasing the exposure light amount, so that the resist sensitivity becomes as if it were constant. In this way, the groove shape is stabilized. Furthermore, by correcting the resist agent sensitivity in real time, it is possible to correct sensitivity differences caused by differences in resist agent lot, storage period, and time left after coating on the optical disk master, as well as to prevent uneven coating of the resist agent. It is also possible to correct sensitivity differences due to (intra-basement fluctuations), resulting in a more stable groove shape.
【００３７】[0037]
【発明の効果】以上説明してきたように本発明によれば
、本露光の直前若しくは同時にレジスト剤感度を測定し
、その既定値に対する変動分を露光光量の増減により補
正し、あたかもレジスト感度が一定になるようにして、
溝形状の安定化を図るようにしたので、レジスト剤のロ
ットにより、またその保存期間や光ディスク原盤への塗
布後の放置時間等により差異の生じた感度を是正した露
光光量の制御を行なうことができ、常に安定した溝形状
を形成することができる。As explained above, according to the present invention, the resist sensitivity is measured immediately before or at the same time as the main exposure, and the variation with respect to the predetermined value is corrected by increasing or decreasing the exposure light amount, so that it appears as if the resist sensitivity is constant. so that
Since the groove shape has been stabilized, it is possible to control the exposure light amount to correct for sensitivity differences that may occur depending on the lot of resist agent, its storage period, or the length of time it is left to stand after being applied to the optical disc master. It is possible to always form a stable groove shape.
【図１】本発明の第１の実施例を示すブロック図である
。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施例のブロック図である。FIG. 2 is a block diagram of a second embodiment of the invention.
Claims (5)
盤にレーザ光を照射して露光を行う際に、該光ディスク
原盤に向けて出射されたレーザ光の反射光量及び透過光
量に基づいて、光ディスク原盤を照射するレーザ光の露
光光量を制御することを特徴とする光ディスク原盤の露
光方法。Claim 1: When exposing an optical disc master coated with a resist agent with a laser beam, the optical disc master is determined based on the amount of reflected light and the amount of transmitted light of the laser beam emitted toward the optical disc master. A method for exposing an optical disk master, characterized by controlling the amount of exposure light of a laser beam to be irradiated.
原盤露光装置において、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、こ
のレーザ光照射手段から出射されるレーザ光の光軸上に
あって入力される制御信号によって当該レーザ光の光量
を制御する音響光学変調器と、前記レーザ光照射手段か
ら照射され、当該光ディスク原盤で反射された反射光を
入射する第１の検出手段と、前記レーザ光照射手段から
照射され、当該光ディスク原盤を透過した透過光を入射
する第２の検出手段と、この第１の検出手段と第２の検
出手段で検出される反射光量および透過光量から当該光
ディスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る値を演算
し、この値に応じて前記音響光学変調器に制御信号を出
力して露光光量を設定する制御手段とを具備することを
特徴とする光ディスク原盤露光装置。2. An optical disc master exposure device for producing an optical disc master, comprising: a laser light irradiation means for irradiating a laser light onto the optical disc master coated with a resist agent; and an optical axis of the laser light emitted from the laser light irradiation means. an acousto-optic modulator located above and controlling the amount of the laser beam according to an input control signal; and a first detection means that receives the reflected light emitted from the laser beam irradiation means and reflected by the optical disc master. and a second detection means for receiving the transmitted light emitted from the laser beam irradiation means and transmitted through the optical disc master, and the amount of reflected light and the amount of transmitted light detected by the first detection means and the second detection means. A control means for calculating a value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk from the above, and outputting a control signal to the acousto-optic modulator to set the exposure light amount according to this value. Optical disk master exposure equipment.
原盤露光装置において、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、こ
のレーザ光照射手段から照射され当該光ディスク原盤を
介して入射されるレーザ光の光路間に挿脱自在に設けら
れ当該レーザ光の光量を検出し得る検出手段と、この検
出手段で検出される光量から当該光ディスクに塗布され
るレジスト剤の感度に係る値を求め、この値に応じて前
記レーザ光照射手段を制御する制御手段とを具備するこ
とを特徴とする光ディスク原盤露光装置。3. An optical disk master exposure apparatus for producing an optical disk master, comprising: a laser beam irradiation means for irradiating a laser beam onto the optical disk master coated with a resist agent; A detection means that is removably inserted between the optical paths of the incident laser light and capable of detecting the light intensity of the laser light, and a value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk based on the light intensity detected by the detection means. 1. An optical disk master exposure apparatus, comprising: a control means for determining the value and controlling the laser beam irradiation means according to this value.
段による反射光量および透過光量を検出すると共に、こ
の反射光量および透過光量から当該光ディスクに塗布さ
れるレジスト剤の感度に係る値を演算し、この値に応じ
て前記音響光学変調器に制御信号を出力して露光光量を
順次調整することで、当該レジスト剤感度の変動に追従
して露光光量の設定を変えていくことを特徴とする請求
項１又は２記載の光ディスク原盤露光装置。4. Detecting the amount of reflected light and the amount of transmitted light by the first detection means and the second detection means, and calculating a value related to the sensitivity of the resist agent applied to the optical disk from the amount of reflected light and the amount of transmitted light. A control signal is output to the acousto-optic modulator according to this value to sequentially adjust the exposure light amount, thereby changing the setting of the exposure light amount in accordance with fluctuations in the sensitivity of the resist agent. The optical disk master exposure apparatus according to claim 1 or 2.
段による反射光量および透過光量の検出は、本露光前に
当該光ディスク原盤の露光記録領域外で行われることを
特徴とする請求項１、２、又は３記載の光ディスク原盤
露光装置。5. Detection of the amount of reflected light and the amount of transmitted light by the first detection means and the second detection means is performed outside the exposure recording area of the master optical disc before main exposure. , 2, or 3. The optical disc master exposure apparatus according to .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4586191A JPH04356744A (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Exposing method for optical master disk and device thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4586191A JPH04356744A (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Exposing method for optical master disk and device thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04356744A true JPH04356744A (en) | 1992-12-10 |
Family
ID=12730997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4586191A Pending JPH04356744A (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Exposing method for optical master disk and device thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04356744A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007280564A (en) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Sony Corp | Method of manufacturing optical master disk, method of manufacturing optical disk, and apparatus of manufacturing optical master disk |
| US7648671B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US8119043B2 (en) | 2003-01-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP4586191A patent/JPH04356744A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7648671B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US8119043B2 (en) | 2003-01-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| JP2007280564A (en) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Sony Corp | Method of manufacturing optical master disk, method of manufacturing optical disk, and apparatus of manufacturing optical master disk |
| US7933186B2 (en) | 2006-04-11 | 2011-04-26 | Sony Corporation | Method for manufacturing optical disk master, method for manufacturing optical disk, and apparatus for manufacturing optical disk master |
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