JPH04323222A - オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH04323222A JPH04323222A JP3119411A JP11941191A JPH04323222A JP H04323222 A JPH04323222 A JP H04323222A JP 3119411 A JP3119411 A JP 3119411A JP 11941191 A JP11941191 A JP 11941191A JP H04323222 A JPH04323222 A JP H04323222A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- organopolysiloxane
- formula
- aliphatic unsaturated
- same
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 16
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 11
- -1 amino, carboxyl Chemical group 0.000 abstract description 10
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 5
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 29
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 11
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 3
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012676 equilibrium polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OCC=C MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ICQPGUZILLEXRE-UHFFFAOYSA-N [SiH3]O.[Li] Chemical compound [SiH3]O.[Li] ICQPGUZILLEXRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGISVIDNIBCUTN-UHFFFAOYSA-N [bis[(dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy]-methylsilyl]oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)(O[Si](C)C)O[Si](C)C BGISVIDNIBCUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012668 chain scission Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012844 infrared spectroscopy analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- FIYMKEJWRYEFQI-UHFFFAOYSA-N trimethyl(2-methylprop-1-enyl)silane Chemical compound CC(C)=C[Si](C)(C)C FIYMKEJWRYEFQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMXRWOBZWPBJEY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl undec-10-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=O)CCCCCCCCC=C VMXRWOBZWPBJEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/485—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms containing less than 25 silicon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なオルガノポリシ
ロキサンおよびその製造方法に関し、詳しくは、分子鎖
片末端にアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基また
はエポキシ官能性有機基を少なくとも2個有するオルガ
ノポリシロキサンおよびその製造方法に関する。
ロキサンおよびその製造方法に関し、詳しくは、分子鎖
片末端にアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基また
はエポキシ官能性有機基を少なくとも2個有するオルガ
ノポリシロキサンおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機官能基を有するオルガノポリシロキ
サンは、有機樹脂の改質剤または繊維処理剤等あらゆる
分野に使用されている。このようなオルガノポリシロキ
サンは、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、ケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンと有機
官能基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物とを付加反
応させることにより製造される。このようにして得られ
たオルガノポリシロキサンの有機官能基の数およびその
化学構造は、原料のケイ素原子結合水素原子を有するオ
ルガノポリシロキサンにより決定される。
サンは、有機樹脂の改質剤または繊維処理剤等あらゆる
分野に使用されている。このようなオルガノポリシロキ
サンは、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、ケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンと有機
官能基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物とを付加反
応させることにより製造される。このようにして得られ
たオルガノポリシロキサンの有機官能基の数およびその
化学構造は、原料のケイ素原子結合水素原子を有するオ
ルガノポリシロキサンにより決定される。
【0003】近年、精密化学の分野において、オルガノ
ポリシロキサンの有機官能基の数およびその化学構造を
調整する必要があり、特に、有機樹脂の改質剤としてオ
ルガノポリシロキサンを使用する場合には厳密に調整す
る必要があった。
ポリシロキサンの有機官能基の数およびその化学構造を
調整する必要があり、特に、有機樹脂の改質剤としてオ
ルガノポリシロキサンを使用する場合には厳密に調整す
る必要があった。
【0004】しかし、原料のケイ素原子結合水素原子を
有するオルガノポリシロキサンはイオン平衡重合反応に
より製造されるため、ケイ素原子結合水素原子の数およ
びその化学構造はそれぞれ異なり、これを原料として製
造されるオルガノポリシロキサンの有機官能基の数およ
びその化学構造はそれぞれ異なっていた。このため、こ
のようなオルガノポリシロキサンを有機樹脂の改質剤と
して使用した場合には、得られた有機樹脂の改質効果は
十分ではなかった。
有するオルガノポリシロキサンはイオン平衡重合反応に
より製造されるため、ケイ素原子結合水素原子の数およ
びその化学構造はそれぞれ異なり、これを原料として製
造されるオルガノポリシロキサンの有機官能基の数およ
びその化学構造はそれぞれ異なっていた。このため、こ
のようなオルガノポリシロキサンを有機樹脂の改質剤と
して使用した場合には、得られた有機樹脂の改質効果は
十分ではなかった。
【0005】一方、非平衡重合反応による、各種有機官
能基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法が提案
されている。例えば、アルキルリチウムあるいはリチウ
ムシラノール等を開始剤として、ヘキサオルガノシクロ
トリシロキサンを開環重合後、ジメチルクロロシランで
反応を停止させ、分子鎖片末端にケイ素原子結合水素原
子を有するオルガノポリシロキサンを製造し、これに、
ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、有機官能基を有す
る脂肪族不飽和炭化水素化合物を付加反応させることに
より、分子鎖片末端に有機官能基を有するオルガノポリ
シロキサンを製造することができる。
能基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法が提案
されている。例えば、アルキルリチウムあるいはリチウ
ムシラノール等を開始剤として、ヘキサオルガノシクロ
トリシロキサンを開環重合後、ジメチルクロロシランで
反応を停止させ、分子鎖片末端にケイ素原子結合水素原
子を有するオルガノポリシロキサンを製造し、これに、
ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、有機官能基を有す
る脂肪族不飽和炭化水素化合物を付加反応させることに
より、分子鎖片末端に有機官能基を有するオルガノポリ
シロキサンを製造することができる。
【0006】しかし、上記方法では、分子鎖片末端に有
機官能基を1個のみ有するオルガノポリシロキサンしか
製造することができないという欠点があった。
機官能基を1個のみ有するオルガノポリシロキサンしか
製造することができないという欠点があった。
【0007】また、分子鎖片末端に有機官能基を少なく
とも2個有するオルガノポリシロキサンとしては、分子
鎖片末端にジカルビノール基を有するオルガノポリシロ
キサンが開示されている(特開昭62−195389号
公報参照)。
とも2個有するオルガノポリシロキサンとしては、分子
鎖片末端にジカルビノール基を有するオルガノポリシロ
キサンが開示されている(特開昭62−195389号
公報参照)。
【0008】しかし、特開昭62−195389号公報
に開示されたオルガノポリシロキサンは有機官能基がカ
ルビノール基に限定されるという欠点があった。
に開示されたオルガノポリシロキサンは有機官能基がカ
ルビノール基に限定されるという欠点があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような欠点のない、分子鎖片末端にアミノ基,カルボ
キシル基,ヒドロキシ基またはエポキシ官能性有機基を
少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンを提供す
ることにある。
のような欠点のない、分子鎖片末端にアミノ基,カルボ
キシル基,ヒドロキシ基またはエポキシ官能性有機基を
少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンを提供す
ることにある。
【0010】
【課題を解決する手段およびその作用】本発明の目的は
、式:
、式:
【化1】(式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種
または異種の一価炭化水素基であり、A’はアミノ基,
カルボキシル基,ヒドロキシ基およびエポキシ官能性有
機基からなる群より選択される基であり、Bは炭素原子
数2以上の同種または異種の二価有機基であり、mは0
または1であり、nは0〜200の整数である。)で表
されるオルガノポリシロキサンにより達成される。
または異種の一価炭化水素基であり、A’はアミノ基,
カルボキシル基,ヒドロキシ基およびエポキシ官能性有
機基からなる群より選択される基であり、Bは炭素原子
数2以上の同種または異種の二価有機基であり、mは0
または1であり、nは0〜200の整数である。)で表
されるオルガノポリシロキサンにより達成される。
【0011】以下、本発明のオルガノポリシロキサンに
ついて説明する。
ついて説明する。
【0012】本発明のオルガノポリシロキサンは、式:
【化1】で表される。上式中、Rは脂肪族不飽和結合を
含まない同種または異種の一価炭化水素基であり、具体
的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,
ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基,
トリル基,キシリル基等のアリール基;ベンジル基,フ
ェネチル基等のアラルキル基等が例示され、合成の容易
さおよび経済性の点から、Rはメチル基であることが好
ましい。A’はアミノ基,カルボキシ基,ヒドロキシ基
およびエポキシ官能性基からなる群より選択される基で
あり、具体的には、アミノ基,シクロヘキセニルアミノ
基,アミノエチルアミノ基等のアミノ基;カルボキシル
基;ヒドロキシ基である。Bは炭素原子数2以上の二価
有機基であり、具体的には、エチレン基,プロピレン基
,ブチレン基,ペンチレン基,ヘキシレン基等のアルキ
レン基;エチレンオキシプロピレン基,エチレンオキシ
ブチレン基等のアルキレンオキシアルキレン基が例示さ
れ、合成の容易さおよび経済性の点から、Bはエチレン
基,プロピレン基またはブチレン基が好ましい。mは0
または1であり、mが0である場合、本発明のオルガノ
ポリシロキサンは分子鎖片末端に前記の有機官能基を3
個有し、mが1である場合、本発明のオルガノポリシロ
キサンは、分子鎖片末端に前記の有機官能基を2個有す
る。nは0〜200の整数であり、これはnが200を
越えるオルガノポリシロキサンを有機樹脂の改質剤とし
て使用すると、有機樹脂モノマーとの共重合性が低下す
るためである。好ましくは、nは0〜100であり、特
に、5〜90の範囲が好ましい。
含まない同種または異種の一価炭化水素基であり、具体
的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,
ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基,
トリル基,キシリル基等のアリール基;ベンジル基,フ
ェネチル基等のアラルキル基等が例示され、合成の容易
さおよび経済性の点から、Rはメチル基であることが好
ましい。A’はアミノ基,カルボキシ基,ヒドロキシ基
およびエポキシ官能性基からなる群より選択される基で
あり、具体的には、アミノ基,シクロヘキセニルアミノ
基,アミノエチルアミノ基等のアミノ基;カルボキシル
基;ヒドロキシ基である。Bは炭素原子数2以上の二価
有機基であり、具体的には、エチレン基,プロピレン基
,ブチレン基,ペンチレン基,ヘキシレン基等のアルキ
レン基;エチレンオキシプロピレン基,エチレンオキシ
ブチレン基等のアルキレンオキシアルキレン基が例示さ
れ、合成の容易さおよび経済性の点から、Bはエチレン
基,プロピレン基またはブチレン基が好ましい。mは0
または1であり、mが0である場合、本発明のオルガノ
ポリシロキサンは分子鎖片末端に前記の有機官能基を3
個有し、mが1である場合、本発明のオルガノポリシロ
キサンは、分子鎖片末端に前記の有機官能基を2個有す
る。nは0〜200の整数であり、これはnが200を
越えるオルガノポリシロキサンを有機樹脂の改質剤とし
て使用すると、有機樹脂モノマーとの共重合性が低下す
るためである。好ましくは、nは0〜100であり、特
に、5〜90の範囲が好ましい。
【0013】本発明のオルガノポリシロキサンは、次の
方法により製造できる。
方法により製造できる。
【0014】はじめに、分子鎖片末端にアミノ基,カル
ボキシル基およびヒドロキシル基からなる群より選択さ
れる基を有するオルガノポリシロキサンは、ヒドロシリ
ル化反応用触媒の存在下、式:
ボキシル基およびヒドロキシル基からなる群より選択さ
れる基を有するオルガノポリシロキサンは、ヒドロシリ
ル化反応用触媒の存在下、式:
【化2】(式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種
または異種の一価炭化水素基であり、Bは炭素原子数2
以上の二価有機基であり、mは0または1であり、nは
0〜200の整数である。)で表されるオルガノポリシ
ロキサンと、アミノ基,カルボキシル基およびヒドロキ
シ基からなる群より選択されるトリオルガノシリル基で
封止された基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物を付
加反応させた後、脱トリオルガノシリル化反応させるこ
とにより製造できる。
または異種の一価炭化水素基であり、Bは炭素原子数2
以上の二価有機基であり、mは0または1であり、nは
0〜200の整数である。)で表されるオルガノポリシ
ロキサンと、アミノ基,カルボキシル基およびヒドロキ
シ基からなる群より選択されるトリオルガノシリル基で
封止された基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物を付
加反応させた後、脱トリオルガノシリル化反応させるこ
とにより製造できる。
【0015】本発明の製造方法で使用する、式:
【化2
】で表されるオルガノポリシロキサンは主原料であり、
分子鎖片末端にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2
個有するオルガノポリシロキサンである。上式中、Rは
前記と同様の一価炭化水素基である。Bは前記と同様の
二価有機基である。mは0または1であり、nは0〜2
00の整数である。
】で表されるオルガノポリシロキサンは主原料であり、
分子鎖片末端にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2
個有するオルガノポリシロキサンである。上式中、Rは
前記と同様の一価炭化水素基である。Bは前記と同様の
二価有機基である。mは0または1であり、nは0〜2
00の整数である。
【0016】この、式:
【化2】で表されるオルガノポリシロキサンは、ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、分子鎖片末端にケイ素原
子結合水素原子を1個有するオルガノポリシロキサンと
脂肪族不飽和結合を有するオルガノジクロロシランまた
は脂肪族不飽和結合を有するトリクロロシランとを付加
反応させた後、これを加水分解し、ジオルガノクロロシ
ランを反応させることにより製造できる。
シリル化反応用触媒の存在下、分子鎖片末端にケイ素原
子結合水素原子を1個有するオルガノポリシロキサンと
脂肪族不飽和結合を有するオルガノジクロロシランまた
は脂肪族不飽和結合を有するトリクロロシランとを付加
反応させた後、これを加水分解し、ジオルガノクロロシ
ランを反応させることにより製造できる。
【0017】本発明の製造方法で使用する、アミノ基,
カルボキシル基およびヒドロキシ基からなる群より選択
されるトリオルガノシリル基で封止された基を有する脂
肪族不飽和炭化水素化合物としては、具体的には、トリ
メチルシリルアリルアミン,トリメチルシリルアリルシ
クロヘキセニルアミン,トリメチルシリルプロピルアリ
ルアミン等のトリオルガノシリル基で封止されたアミノ
基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物;ウンデシレン
酸トリメチルシリル,オクテニレン酸トリメチルシリル
,デカニレン酸トリメチルシリル等のトリオルガノシシ
ル基で封止されたカルボキシル基を有する脂肪族不飽和
炭化水素化合物;トリメチルアリロキシシラン,トリメ
チルイソブテニルシラン等のトリオルガノシリル基で封
止されたヒドロキシル基を有する脂肪族不飽和炭化水素
化合物が例示される。
カルボキシル基およびヒドロキシ基からなる群より選択
されるトリオルガノシリル基で封止された基を有する脂
肪族不飽和炭化水素化合物としては、具体的には、トリ
メチルシリルアリルアミン,トリメチルシリルアリルシ
クロヘキセニルアミン,トリメチルシリルプロピルアリ
ルアミン等のトリオルガノシリル基で封止されたアミノ
基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物;ウンデシレン
酸トリメチルシリル,オクテニレン酸トリメチルシリル
,デカニレン酸トリメチルシリル等のトリオルガノシシ
ル基で封止されたカルボキシル基を有する脂肪族不飽和
炭化水素化合物;トリメチルアリロキシシラン,トリメ
チルイソブテニルシラン等のトリオルガノシリル基で封
止されたヒドロキシル基を有する脂肪族不飽和炭化水素
化合物が例示される。
【0018】本発明の製造方法において、上記の脂肪族
不飽和炭化水素化合物の量は、分子鎖片末端にケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン中のケ
イ素原子結合水素原子1個に対して脂肪族不飽和化合物
中の不飽和結合が当量以上となる量である。
不飽和炭化水素化合物の量は、分子鎖片末端にケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン中のケ
イ素原子結合水素原子1個に対して脂肪族不飽和化合物
中の不飽和結合が当量以上となる量である。
【0019】本発明の製造方法では、ヒドロシリル化反
応用触媒の存在下、式:
応用触媒の存在下、式:
【化2】で表されるオルガノポリシロキサンと、アミノ
基,カルボキシル基およびヒドロキシ基からなる群より
選択されるトリオルガノシリル基で封止された基を有す
る脂肪族不飽和炭化水素化合物を付加反応させた後、未
反応の脂肪族不飽和炭化水素化合物を加熱しながら減圧
下で留去した後、保護基であるトリオルガノシリル基を
加水分解もしくは加アルコール分解し、副生成物を加熱
しながら減圧下で留去することにより製造される。トリ
オルガノシリル基としてはトリメチルシリル基,トリエ
チルシリル基,フェニルジメチルシリル基,t−ブチル
ジメチルシリル基等が例示されるが、入手のしやすさ、
脱トリオルガノシリル化反応速度が良好であることから
、トリオルガノシリル基はトリメチルシリル基であるこ
とが好ましい。この脱トルオルガノシリル化反応は、加
水分解や加アルコール分解により容易に行われるが、反
応の選択性の高さ、分離精製の容易さから加メタノール
分解が好ましい。有機官能基がトリオルガノシリル基で
封止されたアミノ基またはトリオルガノシリル基で封止
されたカルボキシル基である場合には、メタノールによ
る脱トリオルガノシリル化反応は室温でも容易に進行す
るが、反応速度を速め、脱トリオルガノシリル化反応を
完結させるためには、反応混合物を50℃程度に加熱す
ることが好ましい。また、有機官能基がヒドロキシ基の
場合には、脱トリオルガノシリル化反応は平衡反応とな
るので、酢酸,プロピオン酸等の有機酸;炭酸,塩酸,
硫酸等の無機酸;水酸化ナトリウム,水酸化カリウム,
水酸化リチウム等の無機塩基;トリエチルアミン,ピリ
ジン,キノリン等のアミン類を触媒として使用し、大過
剰のメタノールを投入して加熱し、副生成物のトリメチ
ルメトキシシランを蒸留により系外に除いて平衡を生成
系側にずらしながら反応させる方法が好ましい。触媒活
性の高さ、反応終了後に蒸留により容易に系外に除くこ
とができることおよびシロキサン鎖に対する鎖切断反応
が起こりにくいことからカルボン酸が好ましく、酢酸,
プロピオン酸が特に好ましい。
基,カルボキシル基およびヒドロキシ基からなる群より
選択されるトリオルガノシリル基で封止された基を有す
る脂肪族不飽和炭化水素化合物を付加反応させた後、未
反応の脂肪族不飽和炭化水素化合物を加熱しながら減圧
下で留去した後、保護基であるトリオルガノシリル基を
加水分解もしくは加アルコール分解し、副生成物を加熱
しながら減圧下で留去することにより製造される。トリ
オルガノシリル基としてはトリメチルシリル基,トリエ
チルシリル基,フェニルジメチルシリル基,t−ブチル
ジメチルシリル基等が例示されるが、入手のしやすさ、
脱トリオルガノシリル化反応速度が良好であることから
、トリオルガノシリル基はトリメチルシリル基であるこ
とが好ましい。この脱トルオルガノシリル化反応は、加
水分解や加アルコール分解により容易に行われるが、反
応の選択性の高さ、分離精製の容易さから加メタノール
分解が好ましい。有機官能基がトリオルガノシリル基で
封止されたアミノ基またはトリオルガノシリル基で封止
されたカルボキシル基である場合には、メタノールによ
る脱トリオルガノシリル化反応は室温でも容易に進行す
るが、反応速度を速め、脱トリオルガノシリル化反応を
完結させるためには、反応混合物を50℃程度に加熱す
ることが好ましい。また、有機官能基がヒドロキシ基の
場合には、脱トリオルガノシリル化反応は平衡反応とな
るので、酢酸,プロピオン酸等の有機酸;炭酸,塩酸,
硫酸等の無機酸;水酸化ナトリウム,水酸化カリウム,
水酸化リチウム等の無機塩基;トリエチルアミン,ピリ
ジン,キノリン等のアミン類を触媒として使用し、大過
剰のメタノールを投入して加熱し、副生成物のトリメチ
ルメトキシシランを蒸留により系外に除いて平衡を生成
系側にずらしながら反応させる方法が好ましい。触媒活
性の高さ、反応終了後に蒸留により容易に系外に除くこ
とができることおよびシロキサン鎖に対する鎖切断反応
が起こりにくいことからカルボン酸が好ましく、酢酸,
プロピオン酸が特に好ましい。
【0020】本発明の製造方法で使用するヒドロシリル
化反応用触媒としては、一般に、ヒドロシリル化反応を
促進する触媒が使用でき、特に、白金系触媒が良好であ
り、具体的には、塩化白金酸,塩化白金酸のアルコール
溶液,白金のオレフィン錯体,白金とビニル基含有シロ
キサンとの錯体,白金担持のシリカ,白金担持の活性炭
等が例示される。
化反応用触媒としては、一般に、ヒドロシリル化反応を
促進する触媒が使用でき、特に、白金系触媒が良好であ
り、具体的には、塩化白金酸,塩化白金酸のアルコール
溶液,白金のオレフィン錯体,白金とビニル基含有シロ
キサンとの錯体,白金担持のシリカ,白金担持の活性炭
等が例示される。
【0021】次に、分子鎖片末端にエポキシ官能基を有
するオルガノポリシロキサンは、ヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、式:
するオルガノポリシロキサンは、ヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、式:
【化2】(式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種
または異種の一価炭化水素基であり、Bは炭素原子数2
以上の二価有機基であり、mは0または1であり、nは
0〜200の整数である。)で表されるオルガノポリシ
ロキサンと、エポキシ官能性有機基を有する脂肪族不飽
和炭化水素化合物を付加反応させることことにより製造
できる。
または異種の一価炭化水素基であり、Bは炭素原子数2
以上の二価有機基であり、mは0または1であり、nは
0〜200の整数である。)で表されるオルガノポリシ
ロキサンと、エポキシ官能性有機基を有する脂肪族不飽
和炭化水素化合物を付加反応させることことにより製造
できる。
【0022】本発明の製造方法で使用する、式:
【化2
】で示されるオルガノポリシロキサンは主原料であり、
前記と同様のオルガノポリシロキサンである。
】で示されるオルガノポリシロキサンは主原料であり、
前記と同様のオルガノポリシロキサンである。
【0023】本発明の製造方法で使用される、エポキシ
官能基を有する不飽和炭化水素化合物としては、具体的
には、アリルグリシジルエーテル,3,4−エポキシシ
クロヘキシルエテン等が例示される。
官能基を有する不飽和炭化水素化合物としては、具体的
には、アリルグリシジルエーテル,3,4−エポキシシ
クロヘキシルエテン等が例示される。
【0024】本発明の製造方法において、上記の脂肪族
不飽和炭化水素化合物の量は、分子鎖片末端にケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン中のケ
イ素原子結合水素原子1個に対して脂肪族不飽和化合物
中の不飽和結合が当量以上となる量である。
不飽和炭化水素化合物の量は、分子鎖片末端にケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン中のケ
イ素原子結合水素原子1個に対して脂肪族不飽和化合物
中の不飽和結合が当量以上となる量である。
【0025】本発明の製造方法で使用するヒドロシリル
化反応用触媒としては、前記と同様の触媒が使用できる
。
化反応用触媒としては、前記と同様の触媒が使用できる
。
【0026】本発明の製造方法は、無溶媒中または溶媒
中で行うことができる。使用できる溶媒としては、ベン
ゼン,トルエン,キシレン等の芳香族系溶媒;ヘキサン
,ヘプタン等の脂肪族系溶媒;テトラヒドロフラン,ジ
エチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン,メチル
エチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチ
ル等のエステル系溶媒;四塩化炭素,トリクロロエタン
,クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒さらにはジメ
チルフォルムアミド,ジメチルスルフォキシド等が例示
される。
中で行うことができる。使用できる溶媒としては、ベン
ゼン,トルエン,キシレン等の芳香族系溶媒;ヘキサン
,ヘプタン等の脂肪族系溶媒;テトラヒドロフラン,ジ
エチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン,メチル
エチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチ
ル等のエステル系溶媒;四塩化炭素,トリクロロエタン
,クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒さらにはジメ
チルフォルムアミド,ジメチルスルフォキシド等が例示
される。
【0027】本発明の製造方法は、室温下で行うことが
できるが、反応速度が良好であることから、通常は50
〜200℃の温度下で行うことが好ましい。
できるが、反応速度が良好であることから、通常は50
〜200℃の温度下で行うことが好ましい。
【0028】本発明のオルガノポリシロキサンは、分子
鎖片末端に有機官能基を少なくとも2個有するので、有
機樹脂モノマーと共重合反応により有機樹脂の改質を行
う場合、オルガノポリシロキサン鎖がグラフト状に結合
した有機樹脂を製造することができ、有機樹脂の改質効
果の向上が期待される。
鎖片末端に有機官能基を少なくとも2個有するので、有
機樹脂モノマーと共重合反応により有機樹脂の改質を行
う場合、オルガノポリシロキサン鎖がグラフト状に結合
した有機樹脂を製造することができ、有機樹脂の改質効
果の向上が期待される。
【0029】
【実施例】以下、本発明を実施例および参考例により説
明する。
明する。
【0030】
【参考例1】イソプロピルアルコール240ミリリット
ル、濃塩酸120ミリリットル、水240ミリリットル
の混合物を氷水で冷却し、10℃以下とした。次に、1
,1,3,3−テトラメチルジシロキサン120.6グ
ラム(900ミリモル)を投入し、さらにメチルトリメ
トキシシラン54.5グラム(400ミリモル)を滴下
した。氷水浴をはずし1時間攪拌した後、水層を廃棄し
、有機層を炭酸水素ナトリウムを加えて中和した。水層
が中性を示すまで数回水洗を繰り返した後、有機層に硫
酸ナトリウムを加えて乾燥し、減圧蒸留により83mm
Hgで97〜98℃の留分45.5グラムを得た。この
留分は、1H核磁気共鳴分析(以下、NMRとする。)
、赤外分光分析(以下、IRとする。)により分析した
ところ、メチルトリス(ジメチルシロキシ)シランであ
ることが判明した。
ル、濃塩酸120ミリリットル、水240ミリリットル
の混合物を氷水で冷却し、10℃以下とした。次に、1
,1,3,3−テトラメチルジシロキサン120.6グ
ラム(900ミリモル)を投入し、さらにメチルトリメ
トキシシラン54.5グラム(400ミリモル)を滴下
した。氷水浴をはずし1時間攪拌した後、水層を廃棄し
、有機層を炭酸水素ナトリウムを加えて中和した。水層
が中性を示すまで数回水洗を繰り返した後、有機層に硫
酸ナトリウムを加えて乾燥し、減圧蒸留により83mm
Hgで97〜98℃の留分45.5グラムを得た。この
留分は、1H核磁気共鳴分析(以下、NMRとする。)
、赤外分光分析(以下、IRとする。)により分析した
ところ、メチルトリス(ジメチルシロキシ)シランであ
ることが判明した。
【0031】攪拌装置付の4つ口フラスコにメチル(ト
リスジメチルシロキシ)シラン120グラム(446.
15ミリモル)、白金とテトラメチルジビニルジシロキ
サンの錯体を反応混合物の合計重量に対して白金金属量
が20ppmになるように投入した。80℃に加熱し、
21.5グラムのジメチルビニルクロロシランを滴下し
、90〜100℃で1時間加熱攪拌した。ガスクロマト
グラフィー(以下、GLCとする。)により分析したと
ころ、原料のジメチルビニルクロロシランのピークが消
失していたので反応終了とし、減圧蒸留により1mmH
gで89〜91℃の留分をとり、生成物47.6グラム
を得た。これをT−1ポリマーとする。T−1ポリマー
は、NMR,IRにより分析したところ、次の構造式で
示されるクロロシリコーン化合物であることが判明した
。
リスジメチルシロキシ)シラン120グラム(446.
15ミリモル)、白金とテトラメチルジビニルジシロキ
サンの錯体を反応混合物の合計重量に対して白金金属量
が20ppmになるように投入した。80℃に加熱し、
21.5グラムのジメチルビニルクロロシランを滴下し
、90〜100℃で1時間加熱攪拌した。ガスクロマト
グラフィー(以下、GLCとする。)により分析したと
ころ、原料のジメチルビニルクロロシランのピークが消
失していたので反応終了とし、減圧蒸留により1mmH
gで89〜91℃の留分をとり、生成物47.6グラム
を得た。これをT−1ポリマーとする。T−1ポリマー
は、NMR,IRにより分析したところ、次の構造式で
示されるクロロシリコーン化合物であることが判明した
。
【化5】
【0032】攪拌装置付の4つ口フラスコに、ヘキサメ
チルシクロトリシロキサン60グラム(270.3ミリ
モル)、テトラヒドロフラン60グラムを投入し、これ
を氷水冷して液温を20℃以下にした。乾燥窒素雰囲気
下で攪拌しながらn−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶
液を32.43ミリモル投入し室温で攪拌した。重合の
進行をGLCで追跡し、6時間後に転化率が98.4%
になったのでトリエチルアミン0.66グラム(6.5
ミリモル)、T−1ポリマー13.89グラム(35.
68ミリモル)を順に加えて重合を停止させた。副生し
た塩をろ別し、溶媒および低沸点物を減圧下で加熱留去
し、無色透明のポリマーを得た。このものは、NMR,
IR,GPCによる分析およびヨードメトリーによるS
iH基の重量%の測定から、次の平均式で示されるオル
ガノポリシロキサンであることが判明した。
チルシクロトリシロキサン60グラム(270.3ミリ
モル)、テトラヒドロフラン60グラムを投入し、これ
を氷水冷して液温を20℃以下にした。乾燥窒素雰囲気
下で攪拌しながらn−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶
液を32.43ミリモル投入し室温で攪拌した。重合の
進行をGLCで追跡し、6時間後に転化率が98.4%
になったのでトリエチルアミン0.66グラム(6.5
ミリモル)、T−1ポリマー13.89グラム(35.
68ミリモル)を順に加えて重合を停止させた。副生し
た塩をろ別し、溶媒および低沸点物を減圧下で加熱留去
し、無色透明のポリマーを得た。このものは、NMR,
IR,GPCによる分析およびヨードメトリーによるS
iH基の重量%の測定から、次の平均式で示されるオル
ガノポリシロキサンであることが判明した。
【化6】
SiH基重量% 実測値0.093%(計算値 0
.090%) 数平均分子量 2288 分散度 1.13 これをP−1ポリマーとする。
.090%) 数平均分子量 2288 分散度 1.13 これをP−1ポリマーとする。
【0033】
【参考例2】ヘキサメチルシクロトリシロキサン420
グラム(1891.9ミリモル)、テトラヒドロフラン
420グラム、n−ブチルリチウム119.19ミリモ
ル、トリエチルアミン2.3グラム(22.72ミリモ
ル)、T−1ポリマー46.91グラム(119.19
ミリモル)を使用し、参考例1と同様にして、次の平均
式で示されるオルガノポリシロキサンを得た。
グラム(1891.9ミリモル)、テトラヒドロフラン
420グラム、n−ブチルリチウム119.19ミリモ
ル、トリエチルアミン2.3グラム(22.72ミリモ
ル)、T−1ポリマー46.91グラム(119.19
ミリモル)を使用し、参考例1と同様にして、次の平均
式で示されるオルガノポリシロキサンを得た。
【化7】
SiH基重量% 実測値 0.051%(計算値
0.049%) 数平均分子量 4616 分散度 1.10 これをP−2ポリマーとする。
0.049%) 数平均分子量 4616 分散度 1.10 これをP−2ポリマーとする。
【0034】
【参考例3】ヘキサメチルシクロトリシロキサン60グ
ラム(27.03ミリモル)、テトラヒドロフラン60
グラム、n−ブチルリチウム16.22ミリモル、トリ
エチルアミン0.22グラム(2.17ミリモル)、T
−1ポリマー4.63グラム(11.89ミリモル)を
使用し、参考例1と同様にして、次の平均式で示される
オルガノポリシロキサンを得た。
ラム(27.03ミリモル)、テトラヒドロフラン60
グラム、n−ブチルリチウム16.22ミリモル、トリ
エチルアミン0.22グラム(2.17ミリモル)、T
−1ポリマー4.63グラム(11.89ミリモル)を
使用し、参考例1と同様にして、次の平均式で示される
オルガノポリシロキサンを得た。
【化8】
SiH基重量% 実測値 0.034%(計算値
0.034%) 数平均分子量 7218 分散度 1.08 これをP−3ポリマーとする。
0.034%) 数平均分子量 7218 分散度 1.08 これをP−3ポリマーとする。
【0035】
【実施例1】P−1ポリマー30グラム(SiH:27
.9ミリ当量)、トリメチルシリルアリルアミン5.4
1グラム(41.88ミリモル)、白金とテトラメチル
ジビニルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者の
合計に対して50ppmになるように投入した。100
℃で2時間加熱した後、サンプリングして赤外分光分析
にて確認したところ、SiH基の特性吸収は消失してい
た。減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。 このものは、NMR,IRにより分析したところ、次の
構造式で示されるオルガノポリシロキサンであることが
判明した。
.9ミリ当量)、トリメチルシリルアリルアミン5.4
1グラム(41.88ミリモル)、白金とテトラメチル
ジビニルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者の
合計に対して50ppmになるように投入した。100
℃で2時間加熱した後、サンプリングして赤外分光分析
にて確認したところ、SiH基の特性吸収は消失してい
た。減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。 このものは、NMR,IRにより分析したところ、次の
構造式で示されるオルガノポリシロキサンであることが
判明した。
【化9】
【0036】このオルガノポリシロキサン30グラム、
メタノール7.97グラムを混合し、50℃で3時間攪
拌した後、減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を
得た。このものは、NMR,IRによる分析およびアミ
ノ基の重量%の測定より、次の構造式で示されるオルガ
ノポリシロキサンであることが判明した。
メタノール7.97グラムを混合し、50℃で3時間攪
拌した後、減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を
得た。このものは、NMR,IRによる分析およびアミ
ノ基の重量%の測定より、次の構造式で示されるオルガ
ノポリシロキサンであることが判明した。
【化10】
NH2基重量% 実測値 1.33%(計算値
1.33%)
1.33%)
【0037】
【実施例2】P−2ポリマー50グラム(SiH:25
.3ミリ当量)、トリメチルシリルアリルアミン4.2
4グラム(31.25ミリモル)を使用し、実施例1と
同様にして、次の構造式で示されるオルガノポリシロキ
サンを得た。
.3ミリ当量)、トリメチルシリルアリルアミン4.2
4グラム(31.25ミリモル)を使用し、実施例1と
同様にして、次の構造式で示されるオルガノポリシロキ
サンを得た。
【化11】
NH2基重量% 実測値 0.78%(計算値
0.76%)
0.76%)
【0038】
【実施例3】P−3ポリマー40グラム(SiH:13
.6ミリ当量)、トリメチルシリルアリルアミン2.2
グラム(16.27ミリモル)を使用し、実施例1と同
様にして、次の構造式で示されるオルガノポリシロキサ
ンを得た。
.6ミリ当量)、トリメチルシリルアリルアミン2.2
グラム(16.27ミリモル)を使用し、実施例1と同
様にして、次の構造式で示されるオルガノポリシロキサ
ンを得た。
【化12】
NH2基重量% 実測値 0.42%(計算値
0.53%)
0.53%)
【0039】
【実施例4】P−2ポリマー40グラム(SiH:20
.2ミリ当量)、アリルグリシジルエーテル2.77グ
ラム(24.29ミリモル)、白金とテトラメチルジビ
ニルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者の合計
に対して20ppmになるように投入した。80〜90
℃で2.5時間加熱した後、サンプリングしてIRにて
分析したところ、SiH基の特性吸収は消失していた。 減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。この
ものは、NMR,IR,GPCによる分析およびエポキ
シ基の重量%の測定より、次の構造式で示されるオルガ
ノポリシロキサンであることが判明した。
.2ミリ当量)、アリルグリシジルエーテル2.77グ
ラム(24.29ミリモル)、白金とテトラメチルジビ
ニルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者の合計
に対して20ppmになるように投入した。80〜90
℃で2.5時間加熱した後、サンプリングしてIRにて
分析したところ、SiH基の特性吸収は消失していた。 減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。この
ものは、NMR,IR,GPCによる分析およびエポキ
シ基の重量%の測定より、次の構造式で示されるオルガ
ノポリシロキサンであることが判明した。
【化13】
エポキシ基重量% 実測値 1.92%(計算値
2.07%)
2.07%)
【0040】
【実施例5】P−2ポリマー40グラム(SiH:20
.2ミリ当量)、ウンデシレン酸トリメチルシリル5.
71グラム(22.26ミリモル)、白金とテトラメチ
ルジビニルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者
の合計に対して20ppmになるように投入した。90
〜100℃で2時間加熱した後、サンプリングしてIR
にて分析したところ、SiH基の特性吸収は消失してい
た。減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。 このものは、NMR,IR,GPCにより分析したとこ
ろ、次の構造式で示されるオルガノポリシロキサンであ
ることが判明した。
.2ミリ当量)、ウンデシレン酸トリメチルシリル5.
71グラム(22.26ミリモル)、白金とテトラメチ
ルジビニルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者
の合計に対して20ppmになるように投入した。90
〜100℃で2時間加熱した後、サンプリングしてIR
にて分析したところ、SiH基の特性吸収は消失してい
た。減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。 このものは、NMR,IR,GPCにより分析したとこ
ろ、次の構造式で示されるオルガノポリシロキサンであ
ることが判明した。
【化14】
【0041】このオルガノポリシロキサン45グラム、
メタノール12.95グラムを混合し、50℃で1時間
攪拌した後、減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体
を得た。このものは、NMR,IR,GPCより分析し
たところ、次の構造式で示されるオルガノポリシロキサ
ンであることが判明した。
メタノール12.95グラムを混合し、50℃で1時間
攪拌した後、減圧下、低沸点物を加熱留去し透明な液体
を得た。このものは、NMR,IR,GPCより分析し
たところ、次の構造式で示されるオルガノポリシロキサ
ンであることが判明した。
【化15】
【0042】
【実施例6】P−2 40グラム(SiH:20.2
ミリ当量)、トリメチルアリロキシシラン3.16グラ
ム(24.29ミリモル)、白金とテトラメチルジビニ
ルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者の合計に
対して20ppmになるように投入した。80℃で2時
間加熱した後、サンプリングしてIRにて分析したとこ
ろ、SiH基の特性吸収は消失していた。減圧下、低沸
点物を加熱留去し透明な液体を得た。このものは、NM
R,IR,GPCより分析したところ、次の構造式で示
されるオルガノポリシロキサンであることが判明した。
ミリ当量)、トリメチルアリロキシシラン3.16グラ
ム(24.29ミリモル)、白金とテトラメチルジビニ
ルジシロキサンの錯体を、白金金属量が前二者の合計に
対して20ppmになるように投入した。80℃で2時
間加熱した後、サンプリングしてIRにて分析したとこ
ろ、SiH基の特性吸収は消失していた。減圧下、低沸
点物を加熱留去し透明な液体を得た。このものは、NM
R,IR,GPCより分析したところ、次の構造式で示
されるオルガノポリシロキサンであることが判明した。
【化16】
【0043】このオルガノポリシロキサン42グラム、
メタノール40グラム、プロピオン酸7グラムを混合し
常圧下で加熱しながら蒸留により副生するトリメチルメ
トキシシランを除去した。反応混合物の温度が80℃に
なったところで加熱をやめ、水冷して室温に戻した。次
に減圧下で低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。こ
のものは、NMR,IR,GPCによる分析およびヒド
ロキシ基の重量%の測定より、次の構造式で示されるオ
ルガノポリシロキサンであることが判明した。
メタノール40グラム、プロピオン酸7グラムを混合し
常圧下で加熱しながら蒸留により副生するトリメチルメ
トキシシランを除去した。反応混合物の温度が80℃に
なったところで加熱をやめ、水冷して室温に戻した。次
に減圧下で低沸点物を加熱留去し透明な液体を得た。こ
のものは、NMR,IR,GPCによる分析およびヒド
ロキシ基の重量%の測定より、次の構造式で示されるオ
ルガノポリシロキサンであることが判明した。
【化17】
OH基重量% 実測値 0.79%(計算値
0.84%)
0.84%)
【0044】
【発明の効果】本発明のオルガノポリシロキサンは新規
な化合物であり、本発明の製造方法はこのような新規な
化合物を製造できるという特徴を有する。
な化合物であり、本発明の製造方法はこのような新規な
化合物を製造できるという特徴を有する。
【図1】 図1は実施例1で製造したオルガノポリシ
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
【図2】 図2は実施例4で製造したオルガノポリシ
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
【図3】 図3は実施例5で製造したオルガノポリシ
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
【図4】 図4は実施例6で製造したオルガノポリシ
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
ロキサンのIRスペクトルチャートである。
Claims (3)
- 【請求項1】 式: 【化1】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種または異
種の一価炭化水素基であり、A’はアミノ基,カルボキ
シル基,ヒドロキシ基およびエポキシ官能性有機基から
なる群より選択される基であり、Bは炭素原子数2以上
の同種または異種の二価有機基であり、mは0または1
であり、nは0〜200の整数である。)で表されるオ
ルガノポリシロキサン。 - 【請求項2】 ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、
式: 【化2】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種または異
種の一価炭化水素基であり、Bは炭素原子数2以上の二
価有機基であり、mは0または1であり、nは0〜20
0の整数である。)で表されるオルガノポリシロキサン
と、アミノ基,カルボキシル基およびヒドロキシ基から
なる群より選択されるトリオルガノシリル基で封止され
た基を有する脂肪族不飽和炭化水素化合物とを付加反応
させた後、脱トリオルガノシリル化反応させることを特
徴とする、式: 【化3】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種または異
種の一価炭化水素基であり、A’’はアミノ基,カルボ
キシル基およびヒドロキシ基からなる群より選択される
基であり、Bは炭素原子数2以上の同種または異種の二
価有機基であり、mは0または1であり、nは0〜20
0の整数である。)で表されるオルガノポリシロキサン
の製造方法。 - 【請求項3】 ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、
式: 【化2】(式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種
または異種の一価炭化水素基であり、Bは炭素原子数2
以上の二価有機基であり、mは0または1であり、nは
0〜200の整数である。)で表されるオルガノポリシ
ロキサンと、エポキシ官能性有機基を有する脂肪族不飽
和炭化水素化合物とを付加反応させることを特徴とする
、式: 【化4】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種または異
種の一価炭化水素基であり、A’’’はエポキシ官能性
有機基であり、Bは炭素原子数2以上の同種または異種
の二価有機基であり、mは0または1であり、nは0〜
200の整数である。)で表されるオルガノポリシロキ
サンの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3119411A JP3015139B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
US07/871,249 US5262506A (en) | 1991-04-23 | 1992-04-20 | Organopolysiloxane and method for its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3119411A JP3015139B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04323222A true JPH04323222A (ja) | 1992-11-12 |
JP3015139B2 JP3015139B2 (ja) | 2000-03-06 |
Family
ID=14760803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3119411A Expired - Fee Related JP3015139B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5262506A (ja) |
JP (1) | JP3015139B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000319386A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | シリコーン含有ポリイミド樹脂、シリコーン含有ポリアミック酸およびそれらの製造方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU663967B2 (en) * | 1992-09-09 | 1995-10-26 | Nippon Paint Co., Ltd. | A curable resin composition, a coating composition and a process for forming a coating film |
EP0620242B1 (en) * | 1993-04-15 | 1998-08-19 | Dow Corning Toray Silicone Company, Limited | Epoxy group-containing silicone resin and compositions based thereon |
US5952439A (en) * | 1993-04-15 | 1999-09-14 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Epoxy group-containing silicone resin and compositions based thereon |
US5449710A (en) * | 1993-05-18 | 1995-09-12 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Flame retardative polycarbonate resin composition |
JPH0770324A (ja) * | 1993-09-03 | 1995-03-14 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 有機ケイ素重合体の製造方法 |
JP3756576B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2006-03-15 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | ヒドロキシフェニル基含有ポリオルガノシロキサン |
JP3986143B2 (ja) * | 1997-12-25 | 2007-10-03 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | シリコーン含有ポリイミド樹脂およびシリコーン含有ポリアミック酸 |
DE60120432T2 (de) * | 2000-08-28 | 2007-01-04 | Aprilis, Inc., Maynard | Holographisches speichermedium, das polyfunktionelle epoxidmonomere enthält, welche zur kationischen polymerisation fähig sind |
US7074488B2 (en) * | 2001-07-18 | 2006-07-11 | Eastman Kodak Company | Monofunctional branched polysiloxanes, compositions and processes of preparing the same |
EP2797677A1 (en) * | 2011-12-27 | 2014-11-05 | Dow Corning Corporation | High free volume siloxane compositions useful as membranes |
JP6260579B2 (ja) * | 2015-05-01 | 2018-01-17 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
CN109071820B (zh) * | 2016-05-10 | 2021-08-17 | 美国陶氏有机硅公司 | 具有氨基官能封端基团的有机硅嵌段共聚物及其制备和使用方法 |
CN113056502B (zh) * | 2018-12-21 | 2023-01-24 | 美国陶氏有机硅公司 | 多官能有机硅氧烷、包含多官能有机硅氧烷的组合物及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3819674A (en) * | 1971-03-10 | 1974-06-25 | Bayer Ag | Process for the production of acetoxysilylethyl-substituted organopolysiloxanes |
US4208503A (en) * | 1975-04-07 | 1980-06-17 | Sws Silicones Corporation | Epoxy-functional polysiloxane polymers |
JPS60259680A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-21 | 信越化学工業株式会社 | 繊維処理剤 |
JP2761931B2 (ja) * | 1989-08-10 | 1998-06-04 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
JP2843620B2 (ja) * | 1989-11-29 | 1999-01-06 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 片末端分岐状アミノアルキル基封鎖オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
US4990546A (en) * | 1990-03-23 | 1991-02-05 | General Electric Company | UV-curable silphenylene-containing epoxy functional silicones |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP3119411A patent/JP3015139B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-04-20 US US07/871,249 patent/US5262506A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000319386A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | シリコーン含有ポリイミド樹脂、シリコーン含有ポリアミック酸およびそれらの製造方法 |
US6297341B1 (en) | 1999-04-30 | 2001-10-02 | Dow Corning Toray Silicone Company Ltd | Silicone-containing polyimide resin, silicon-containing polyamic acid, and methods for manufacture |
JP4509247B2 (ja) * | 1999-04-30 | 2010-07-21 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | シリコーン含有ポリイミド樹脂、シリコーン含有ポリアミック酸およびそれらの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3015139B2 (ja) | 2000-03-06 |
US5262506A (en) | 1993-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3029680B2 (ja) | オルガノペンタシロキサンおよびその製造方法 | |
JP2583412B2 (ja) | ヒドロキシル基含有シロキサン化合物 | |
JP2842443B2 (ja) | 片方の末端に重合性官能基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JPH04323222A (ja) | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
CA2061107C (en) | Organopentasiloxane and method for its preparation | |
JPH0411633A (ja) | ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体の製造方法 | |
JP3108427B2 (ja) | カルビノール基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP3187464B2 (ja) | ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体およびその製造方法 | |
JP3015145B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP2538426B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP3756576B2 (ja) | ヒドロキシフェニル基含有ポリオルガノシロキサン | |
JPH0370737A (ja) | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
JPH06248084A (ja) | エチニル基含有有機ケイ素化合物 | |
JP3015153B2 (ja) | フェニル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
CA2064379A1 (en) | Process for the manufacture of certain new silicone polyether copolymers for polyurethane foam manufacture | |
JPH09227688A (ja) | ヒドロキシル基含有シロキサン化合物の製造方法 | |
KR20000052395A (ko) | 유기규소 화합물의 제조방법 | |
JP2001122967A (ja) | ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
JPH0717981A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JPH11152337A (ja) | ヒドロキシル基含有シロキサン化合物の製造方法 | |
JP2000103860A (ja) | オルガノポリシロキサン系ポリマーおよびその製造方法 | |
JP3131216B2 (ja) | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
JP2625624B2 (ja) | アミノ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JPH0912724A (ja) | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP3257414B2 (ja) | 環状エーテル基を有するオルガノポリシロキサン |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |