JPH04316395A - ポリイミドフィルムの粗化方法 - Google Patents
ポリイミドフィルムの粗化方法Info
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- JPH04316395A JPH04316395A JP10978291A JP10978291A JPH04316395A JP H04316395 A JPH04316395 A JP H04316395A JP 10978291 A JP10978291 A JP 10978291A JP 10978291 A JP10978291 A JP 10978291A JP H04316395 A JPH04316395 A JP H04316395A
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- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 21
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000012190 activator Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 abstract description 2
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001919 chlorite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052619 chlorite group Inorganic materials 0.000 description 1
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 chromium Chemical compound 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリイミドフィルムの粗
化方法に関し、特にすぐれた金属層の密着強度を得るこ
とができるポリイミドフィルムの粗化方法に関する。
化方法に関し、特にすぐれた金属層の密着強度を得るこ
とができるポリイミドフィルムの粗化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】無電解めっきを利用してアディティブ法
で製造された銅ポリイミド回路基板は、信号伝播速度の
すぐれた回路基板として有用である。金属導体層(通常
は銅層)との密着力を高めるため、ポリイミドの粗面化
が行われており、従来、ワイヤブラシを用いたプラッシ
ング等による機械的粗化や、放電プラズマ等による電気
的粗化が用いられている。
で製造された銅ポリイミド回路基板は、信号伝播速度の
すぐれた回路基板として有用である。金属導体層(通常
は銅層)との密着力を高めるため、ポリイミドの粗面化
が行われており、従来、ワイヤブラシを用いたプラッシ
ング等による機械的粗化や、放電プラズマ等による電気
的粗化が用いられている。
【0003】これらの粗面化に加え、銅に比べてポリイ
ミドとの親和性の大きいクロム、ニッケル、チタン等の
金属を、銅めっきに先立ちポリイミド上にスパッタする
方法も用いられる。このような方法は、例えば特開昭6
4−12596号に開示されている。
ミドとの親和性の大きいクロム、ニッケル、チタン等の
金属を、銅めっきに先立ちポリイミド上にスパッタする
方法も用いられる。このような方法は、例えば特開昭6
4−12596号に開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の粗面化方法では、実用上要求される無電解めっき
銅被膜のピール強度(例えば、1.2kgf/cm)が
得られない。ポリイミドとの親和性の大きい金属をスパ
ッタする方法も、充分なピール強度は得られず、また設
備コストが大きい。
従来の粗面化方法では、実用上要求される無電解めっき
銅被膜のピール強度(例えば、1.2kgf/cm)が
得られない。ポリイミドとの親和性の大きい金属をスパ
ッタする方法も、充分なピール強度は得られず、また設
備コストが大きい。
【0005】本発明の目的は、低コストで、金属被膜の
すぐれた密着強度を得ることができる、ポリイミドフィ
ルムの粗面化方法を実現することにある。
すぐれた密着強度を得ることができる、ポリイミドフィ
ルムの粗面化方法を実現することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、低コストで
、金属被膜のすぐれた密着強度を得ることができる、ポ
リイミドフィルムの粗面化方法を実現するため、ポリイ
ミドフィルムを機械的に粗化し、さらに酸化剤のアルカ
リ性溶液による化学的粗化を行う。機械的粗化には、従
来知られた方法を用いることができる。
、金属被膜のすぐれた密着強度を得ることができる、ポ
リイミドフィルムの粗面化方法を実現するため、ポリイ
ミドフィルムを機械的に粗化し、さらに酸化剤のアルカ
リ性溶液による化学的粗化を行う。機械的粗化には、従
来知られた方法を用いることができる。
【0007】酸化剤としては、過マンガン酸塩(例えば
、過マンガン線カリウム)、重クロム酸塩、過硫酸塩、
次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩等を用いることが
できる。過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩は、
本発明の方法に用いる酸化剤として好ましい。酸化剤の
濃度は6〜300ミリモル/リットルが適当である。濃
度が低すぎると、液の老化が速く、高すぎると結晶の析
出を生ずる。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等を用いることができる。濃度は1/40
〜1/2モル/リットルの範囲が適当である。
、過マンガン線カリウム)、重クロム酸塩、過硫酸塩、
次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩等を用いることが
できる。過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩は、
本発明の方法に用いる酸化剤として好ましい。酸化剤の
濃度は6〜300ミリモル/リットルが適当である。濃
度が低すぎると、液の老化が速く、高すぎると結晶の析
出を生ずる。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等を用いることができる。濃度は1/40
〜1/2モル/リットルの範囲が適当である。
【0008】化学的粗面化は40℃より高い温度、特に
80℃以上で行うことが好ましい。処理時間は酸化剤、
温度に依存するが、通常、20秒乃至10分の範囲に選
ぶ。
80℃以上で行うことが好ましい。処理時間は酸化剤、
温度に依存するが、通常、20秒乃至10分の範囲に選
ぶ。
【0009】
【作用】本発明の粗面化方法では、ポリイミドフィルム
を機械的に粗化し、ついで酸化剤のアルカリ性溶液によ
る化学的粗化を行う。機械的な粗化で表面に生じた粗い
溝に、化学的粗化によりミクロポア(微孔)が生じ、こ
れにより、無電解めっきで形成される金属被膜に対する
投錨効果が強化されるものと思われる。
を機械的に粗化し、ついで酸化剤のアルカリ性溶液によ
る化学的粗化を行う。機械的な粗化で表面に生じた粗い
溝に、化学的粗化によりミクロポア(微孔)が生じ、こ
れにより、無電解めっきで形成される金属被膜に対する
投錨効果が強化されるものと思われる。
【0010】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明のさらに具体的
な説明とする。 〔実施例1〜5〕厚さ125μmのポリイミドフィルム
を、ワイヤ直径0.18または0.3mmのワイヤブラ
シで機械的に粗化した後、表1に示す条件で化学的粗化
を行った。粗面化した後、塩酸酸性塩化第一錫をセンシ
タイザ、塩酸−塩化パラジウム(CdCl2)をアクチ
ベータとして用い、センシタイザ−アクチベータ法によ
り、触媒で活性化し、EDTAを含む無電解めっき浴を
用いて、35μmの厚さに銅を無電解めっきした。
な説明とする。 〔実施例1〜5〕厚さ125μmのポリイミドフィルム
を、ワイヤ直径0.18または0.3mmのワイヤブラ
シで機械的に粗化した後、表1に示す条件で化学的粗化
を行った。粗面化した後、塩酸酸性塩化第一錫をセンシ
タイザ、塩酸−塩化パラジウム(CdCl2)をアクチ
ベータとして用い、センシタイザ−アクチベータ法によ
り、触媒で活性化し、EDTAを含む無電解めっき浴を
用いて、35μmの厚さに銅を無電解めっきした。
【0011】
【表1】
【0012】無電解銅めっき後、図1に示す装置を用い
て、銅被膜のピール強度を測定した。結果を表2に示す
。図1において、ポリイミドフィルム1上の銅被膜2に
は刃物で10mm幅の切れ目を入れてあり、途中までは
ぎ取った銅被膜2aの先端を取付治具3に挟んで固定し
、秤4で張力を測定しながら上方へ引張り、剥離が起き
る張力を測定する。
て、銅被膜のピール強度を測定した。結果を表2に示す
。図1において、ポリイミドフィルム1上の銅被膜2に
は刃物で10mm幅の切れ目を入れてあり、途中までは
ぎ取った銅被膜2aの先端を取付治具3に挟んで固定し
、秤4で張力を測定しながら上方へ引張り、剥離が起き
る張力を測定する。
【0013】
【表2】
【0014】表2に示されるように、本発明により粗面
化したポリイミドフィルムに無電解めっきした銅層は、
1.6kgf/cm以上のピール強度を示した。
化したポリイミドフィルムに無電解めっきした銅層は、
1.6kgf/cm以上のピール強度を示した。
【0015】〔比較例1〜7〕実施例1における化学的
粗化の液組成と条件を表3に示すように変更し、それ以
外は実施例1と同様にポリイミドフィルムを粗面化し、
無電解めっきした。実施例と同じ方法で銅被膜のピール
強度を測定した。結果は表3中に示す。
粗化の液組成と条件を表3に示すように変更し、それ以
外は実施例1と同様にポリイミドフィルムを粗面化し、
無電解めっきした。実施例と同じ方法で銅被膜のピール
強度を測定した。結果は表3中に示す。
【0016】
【表3】
【0017】表3から明らかなように、機械的粗化を省
略した場合、酸化剤を省略するか、0.5g/立にした
場合、および処理温度を40℃にした場合は、いずれも
ピール強度が低い。アルカリを省いた場合はピール強度
がやや低く、1.0kgf/cmであった。水酸化ナト
リウムを30g/立にした場合には、強度は充分大きい
が、ポリイミドフィルムが侵食され、面の凹凸が目立つ
。
略した場合、酸化剤を省略するか、0.5g/立にした
場合、および処理温度を40℃にした場合は、いずれも
ピール強度が低い。アルカリを省いた場合はピール強度
がやや低く、1.0kgf/cmであった。水酸化ナト
リウムを30g/立にした場合には、強度は充分大きい
が、ポリイミドフィルムが侵食され、面の凹凸が目立つ
。
【0018】〔従来例〕従来の通り、ワイヤブラシによ
る機械的粗化のみを行い、化学的粗化を省略した。銅被
膜のピール強度は、ワイヤブラシのワイヤ径が0.18
mmの場合には僅か0.3kgf/cm、ワイヤ径が0
.30mmの場合0.5kgf/cmであった。
る機械的粗化のみを行い、化学的粗化を省略した。銅被
膜のピール強度は、ワイヤブラシのワイヤ径が0.18
mmの場合には僅か0.3kgf/cm、ワイヤ径が0
.30mmの場合0.5kgf/cmであった。
【0019】以上の各実施例、比較例、従来例から、本
発明により粗面化されたポリイミドフィルムは、無電解
銅めっきを施したとき、銅被膜のピール強度の大きい積
層材料を与えることが示された。実施例では無電解銅め
っきについて示したが、銅以外の金属、例えばクロム、
ニッケル、チタン、金等の金属の膜をスパッタリング等
により形成後、銅の無電解めっきを行っても、すぐれた
密着強度をもたらす。
発明により粗面化されたポリイミドフィルムは、無電解
銅めっきを施したとき、銅被膜のピール強度の大きい積
層材料を与えることが示された。実施例では無電解銅め
っきについて示したが、銅以外の金属、例えばクロム、
ニッケル、チタン、金等の金属の膜をスパッタリング等
により形成後、銅の無電解めっきを行っても、すぐれた
密着強度をもたらす。
【0020】
【発明の効果】本発明により粗面化されたポリイミドフ
ィルムは、無電解めっきを施したときに、すぐれた金属
層の密着強度を得ることができる。例えば、無電解めっ
き銅被膜について、1.5kgf/cm以上のピール強
度が得られる。本発明の粗面化方法は、放電プラズマの
ように設備コストの大きい処理を利用しないので、低コ
ストである。
ィルムは、無電解めっきを施したときに、すぐれた金属
層の密着強度を得ることができる。例えば、無電解めっ
き銅被膜について、1.5kgf/cm以上のピール強
度が得られる。本発明の粗面化方法は、放電プラズマの
ように設備コストの大きい処理を利用しないので、低コ
ストである。
【図1】図1は、本発明の実施例においてピール強度の
測定に用いた装置の斜視図である。
測定に用いた装置の斜視図である。
1 ポリイミドフィルム
2 銅被膜
2a はぎ取った銅被膜 3 取付治具 4 秤
2a はぎ取った銅被膜 3 取付治具 4 秤
Claims (1)
- 【請求項1】 ポリイミドフィルムを粗化する方法に
おいて、ポリイミドフィルムを機械的に粗化し、ついで
酸化剤のアルカリ性溶液による化学的粗化を行うことを
特徴とする、ポリイミドフィルムの粗化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10978291A JPH04316395A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | ポリイミドフィルムの粗化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10978291A JPH04316395A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | ポリイミドフィルムの粗化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04316395A true JPH04316395A (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=14519088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10978291A Pending JPH04316395A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | ポリイミドフィルムの粗化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04316395A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006129526A1 (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-04-15 JP JP10978291A patent/JPH04316395A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006129526A1 (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及びその製造方法 |
KR100955552B1 (ko) * | 2005-06-03 | 2010-04-30 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리이미드 필름, 폴리이미드 금속 적층체 및 그의제조방법 |
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