JPH04299973A - 培養装置の温度制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、培養装置における温度
制御方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の培養槽等の温度制御方法について
は、文献“電気学会発行の電気工学ハンドブック第１５
７０頁（１９７８年版）”に論じられているように、培
養槽内の温度変化に応じてヒータと冷却水用の弁のＯＮ
−ＯＦＦ制御が行なわれていた。なお、この種の装置と
して関連するものには例えば特開昭５４−８０４９６号
が挙げられる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、培養
槽内の温度変化によりヒーターと冷却水用自動弁のＯＮ
−ＯＦＦ制御を行ない、ジャケット内の温水温度を制御
しているので、ジャケット内の温度変化が大きく、設定
温度に対する制御性について配慮が不十分であった。

【０００４】本発明の目的は、培養槽内温度を効率良く
高精度に温度制御する方法を提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、温水槽と温水循環ポンプと、温水槽に加熱源のヒー
ターと、冷却源の冷却水自動弁と温度検出器と温度調節
計を設け、さらに培養槽内の温度検出器と温度調節計、
温水循環ポンプの出口に自動調節弁と連絡配管を設け、
培養槽温度調節計の偏差により培養槽ジャケットに流れ
込む温水温度と流量を制御し、高精度の温度制御を行え
るようにしたものである。

【０００６】また、培養槽温度により温水槽温度調節計
の設定を変更し、より高精度の温度制御を行なえるよう
にしたものである。

【０００７】

【作用】温水槽内の温度は、ヒーターと冷却水自動弁と
を温水槽温度調節計により温度制御し、培養槽内の温度
は、自動調節弁を培養槽温度調節計のＰＩＤ制御により
連続制御し、高精度の温度制御を行う。

【０００８】また、培養槽内の温度の増減傾向によって
、温水槽内の温度設定値を増減することで、より高精度
の温度制御を行う。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１及び図２によ
り説明する。

【００１０】図１は温度制御の全体構成を示す一実施例
を示す。図１において、１は温水用ジャケットを有する
培養槽、２は温水を培養槽１に送り込む循環ポンプ、３
は温水量を調節する三方自動調節弁で、４は培養槽内の
温度検出器、５は培養槽の温度調節計である。６は温水
を貯蔵する温水槽、７は加熱ヒーター、８は冷却水供給
用の冷却水弁、９は温水槽内温度検出器、１０は温水槽
温度調節計である。

【００１１】以上の構成において、温水槽６に貯えられ
た温水は、循環ポンプ２により培養槽１に送られ、循環
使用される。温水槽６の温水温度は、加熱ヒータ７と冷
却水弁８と温水槽温度調節計１０により、温度制御され
る。そして制御目的である培養槽１の槽内温度は、培養
槽温度調節計５のＰＩＤ制御出力により、三方自動調節
弁３弁開度が調節され、循環ポンプ２よりの温水流量が
増減されるので、一定温度に制御される。

【００１２】図２は本発明による動作図を示すもので、
起動すると三方自動調節弁３は、培養槽温度調節計５の
ＰＩＤ制御出力により、弁開度が連続制御され、温水温
度と設定値の偏差の絶対値の大小によって、温水量が制
御される。即ち、培養槽内温度の偏差の絶対値が小さい
ときは、三方自動調節弁３の弁開度が小さくなり、温水
流入量が少なくなって、熱交換速度を減少する。槽内温
度の偏差の絶対値が大きいときは、弁開度が大きくなり
、温水流入量が多くなって、熱交換速度を増加する。 温水槽内の温度は、温水槽温度調節計１０のＰＩＤ制御
出力により、温水温度が温度設定値よりも下がれば、ヒ
ーターがＯＮ−ＯＦＦ制御され、温水温度が温度設定値
よりも上がれば、冷却水弁８がＯＮ−ＯＦＦ制御される
。温水槽温度調節計１０の設定温度は、培養槽温度調節
計５の上下限設定値により変更される。培養槽内温度が
培養槽温度調節計５の下限設定値よりも低いときは、温
水槽温度調節計１０の設定温度は、通常設定値よりも高
い値になり、下限設定値より高くなると通常設定値に戻
る。又、培養槽内温度が培養槽温度調節計５の上限設定
値を越えると、通常設定値よりも低い値になる。

【００１３】本実施例によれば、培養槽内の温度を高精
度に制御できる効果がある。

【００１４】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので以下に記載されるような効果を奏する。

【００１５】温水槽内の温度と、培養槽内の温度とを別
々の制御ループで構成し自動調節弁による温水流入量制
御としたことにより、高精度の温度制御ができるもので
ある。又、培養槽内の温度で、温水槽の温度設定値を増
減することにより、大きな負荷変動にも追従ができ、よ
り高精度の温度制御が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の培養装置の全体構成図であ
る。

【図２】図１の動作説明図である。

【符号の説明】

３…三方自動調節弁、４…培養槽内温度検出器、５…培
養槽温度調節計、７…ヒーター、８…冷却水弁、９…温
水槽内温度検出器、１０…温水槽温度調節計。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ジャケットを有する培養槽の温度を制御す
   る培養装置の温度制御方法において、前記ジャケットで
   保温された培養槽の温度を検出し、該検出した温度が予
   め設定した温度範囲を外れた場合にのみ、温度調節され
   た温水槽から温水をジャケットに供給し、培養槽の温度
   を所定の温度に制御することを特徴とする培養装置の温
   度制御方法。
2. 【請求項２】前記温水は、培養槽の温度が上限設定値を
   越えた時温水槽の冷却設定値の温水を供給し、又培養槽
   の温度が下限設定値を下廻る時温水槽の加温設定側の温
   水に供給するように制御することを特徴とする請求項１
   記載の培養装置の温度制御方法。
3. 【請求項３】前記培養槽の検出温度は、培養槽内の温度
   の移動平均値により、温水槽温度調節計の設定値を自動
   的に制御することを特徴とする請求項１又は請求項２記
   載の培養装置の温度制御方法。