JPH04254527A - ストリップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガス制御方法 - Google Patents
ストリップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガス制御方法Info
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- JPH04254527A JPH04254527A JP3369591A JP3369591A JPH04254527A JP H04254527 A JPH04254527 A JP H04254527A JP 3369591 A JP3369591 A JP 3369591A JP 3369591 A JP3369591 A JP 3369591A JP H04254527 A JPH04254527 A JP H04254527A
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 49
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- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はストリップ用雰囲気炉に
おける炉内雰囲気ガス制御方法に関する。ステンレス鋼
やリン青銅等のストリップを表面処理する場合にストリ
ップ用雰囲気炉が使用される。該ストリップ用雰囲気炉
は炉の前後に雰囲気シールを備え、炉内へ窒素ガスと水
素ガスとを送入することにより炉内雰囲気ガスを揚圧還
元雰囲気に維持して使用される。
おける炉内雰囲気ガス制御方法に関する。ステンレス鋼
やリン青銅等のストリップを表面処理する場合にストリ
ップ用雰囲気炉が使用される。該ストリップ用雰囲気炉
は炉の前後に雰囲気シールを備え、炉内へ窒素ガスと水
素ガスとを送入することにより炉内雰囲気ガスを揚圧還
元雰囲気に維持して使用される。
【０００２】本発明は、上記のようなストリップ用雰囲
気炉において、高価な水素ガスの送入量を必要最小限に
抑え、経済的に炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気
に維持することができる炉内雰囲気ガス制御方法に関す
るものである。
気炉において、高価な水素ガスの送入量を必要最小限に
抑え、経済的に炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気
に維持することができる炉内雰囲気ガス制御方法に関す
るものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、ストリップ用雰囲気炉における炉
内雰囲気ガス制御方法として、窒素ガスと水素ガスとを
プレミックスした混合ガスを炉内へ送入し、該混合ガス
の送入量で炉圧を制御することが行なわれている。専ら
該混合ガスの送入量で炉内雰囲気ガスを揚圧雰囲気に維
持し、該炉内雰囲気ガスの還元雰囲気はプレミックスす
る際の水素ガス量を安全を見込んだ多目に混合すること
で維持しているのである。
内雰囲気ガス制御方法として、窒素ガスと水素ガスとを
プレミックスした混合ガスを炉内へ送入し、該混合ガス
の送入量で炉圧を制御することが行なわれている。専ら
該混合ガスの送入量で炉内雰囲気ガスを揚圧雰囲気に維
持し、該炉内雰囲気ガスの還元雰囲気はプレミックスす
る際の水素ガス量を安全を見込んだ多目に混合すること
で維持しているのである。
【０００４】ところが、かかる従来の炉内雰囲気ガス制
御方法には、その性質上、高価な水素ガスを必要以上に
使用するという欠点がある。またストリップ用雰囲気炉
の例えば操業開始時と操業開始から所定時間経過後の操
業時とでは炉内条件、特に炉温が異なり、したがって炉
内雰囲気ガス中の酸素ガス量、又は水素ガス量及び該炉
内雰囲気ガスの露点（水分量）との関係で該炉内雰囲気
ガスを還元雰囲気に維持するために必要な水素ガス量も
異なるのであるが、炉内条件とは無関係にプレミックス
した混合ガスを炉内へ送入する従来の炉内雰囲気ガス制
御方法では、どのような炉内条件でも炉内雰囲気ガスを
還元雰囲気に維持するために、プレミックスする際の水
素ガス量を最大必要量で混合せざるを得ず、この点でも
高価な水素ガスを必要以上に使用するのである。
御方法には、その性質上、高価な水素ガスを必要以上に
使用するという欠点がある。またストリップ用雰囲気炉
の例えば操業開始時と操業開始から所定時間経過後の操
業時とでは炉内条件、特に炉温が異なり、したがって炉
内雰囲気ガス中の酸素ガス量、又は水素ガス量及び該炉
内雰囲気ガスの露点（水分量）との関係で該炉内雰囲気
ガスを還元雰囲気に維持するために必要な水素ガス量も
異なるのであるが、炉内条件とは無関係にプレミックス
した混合ガスを炉内へ送入する従来の炉内雰囲気ガス制
御方法では、どのような炉内条件でも炉内雰囲気ガスを
還元雰囲気に維持するために、プレミックスする際の水
素ガス量を最大必要量で混合せざるを得ず、この点でも
高価な水素ガスを必要以上に使用するのである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来の炉内雰囲気ガス制御方法では、高価
な水素ガスを必要以上に使用するため、非経済的である
という点である。
する課題は、従来の炉内雰囲気ガス制御方法では、高価
な水素ガスを必要以上に使用するため、非経済的である
という点である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】しかして本発明は、炉の
前後に雰囲気シールを備えたストリップ用雰囲気炉にお
ける炉内雰囲気ガスの制御方法であって、実測した炉圧
に基づいて炉内へ送入する窒素ガス量を調節しつつ、同
時に実測した炉内雰囲気ガス中の酸素ガス量に基づいて
、又は炉内雰囲気ガス中の水素ガス量及び該炉内雰囲気
ガスの露点に基づいて炉内へ送入する水素ガス量を調節
することにより炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気
に維持することを特徴とするストリップ用雰囲気炉にお
ける炉内雰囲気ガス制御方法に係る。
前後に雰囲気シールを備えたストリップ用雰囲気炉にお
ける炉内雰囲気ガスの制御方法であって、実測した炉圧
に基づいて炉内へ送入する窒素ガス量を調節しつつ、同
時に実測した炉内雰囲気ガス中の酸素ガス量に基づいて
、又は炉内雰囲気ガス中の水素ガス量及び該炉内雰囲気
ガスの露点に基づいて炉内へ送入する水素ガス量を調節
することにより炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気
に維持することを特徴とするストリップ用雰囲気炉にお
ける炉内雰囲気ガス制御方法に係る。
【０００７】本発明では、主として窒素ガスの送入量で
炉圧を所定の揚圧に維持しつつ、同時に水素ガスの送入
量で炉内雰囲気ガスを所定の還元雰囲気に維持する。窒
素ガスと水素ガスとは、別々に炉内へ送入してもよいし
、又は結果的に双方の混合ガスを炉内へ送入してもよい
。
炉圧を所定の揚圧に維持しつつ、同時に水素ガスの送入
量で炉内雰囲気ガスを所定の還元雰囲気に維持する。窒
素ガスと水素ガスとは、別々に炉内へ送入してもよいし
、又は結果的に双方の混合ガスを炉内へ送入してもよい
。
【０００８】具体的には、炉圧計で実測した炉圧が所定
の揚圧となるように、該炉圧計に接続されている演算装
置を介して窒素ガス送入バルブの開度を調節する。
の揚圧となるように、該炉圧計に接続されている演算装
置を介して窒素ガス送入バルブの開度を調節する。
【０００９】そして同時に、炉内雰囲気ガスの還元雰囲
気の実現は該炉内雰囲気ガスの酸化還元平衡曲線が指標
となり、該酸化還元平衡曲線は炉温（炉内雰囲気ガス温
度）に対する酸素ガス量（Ｏ２分圧）、又は炉温に対す
る水素ガス量と水分量（露点）との比（Ｈ２／Ｈ２Ｏ）
によって影響されるので、炉温に対する酸素ガス計で実
測した炉内雰囲気ガス中の酸素ガス量、又は炉温に対す
る水素ガス計で実測した炉内雰囲気ガス中の水素ガス量
と露点計で実測した該炉内雰囲気ガスの露点との比から
求められる酸化還元曲線に近接する還元雰囲気となるよ
うに、該酸素ガス計、又は該水素ガス計及び該露点計に
接続されている演算装置を介して水素ガス送入バルブの
開度を調節する。
気の実現は該炉内雰囲気ガスの酸化還元平衡曲線が指標
となり、該酸化還元平衡曲線は炉温（炉内雰囲気ガス温
度）に対する酸素ガス量（Ｏ２分圧）、又は炉温に対す
る水素ガス量と水分量（露点）との比（Ｈ２／Ｈ２Ｏ）
によって影響されるので、炉温に対する酸素ガス計で実
測した炉内雰囲気ガス中の酸素ガス量、又は炉温に対す
る水素ガス計で実測した炉内雰囲気ガス中の水素ガス量
と露点計で実測した該炉内雰囲気ガスの露点との比から
求められる酸化還元曲線に近接する還元雰囲気となるよ
うに、該酸素ガス計、又は該水素ガス計及び該露点計に
接続されている演算装置を介して水素ガス送入バルブの
開度を調節する。
【００１０】本発明では、上記のような窒素ガス送入バ
ルブ及び水素ガス送入バルブの各開度の調節を繰り返し
て行なうことにより、これらが相互に補充し合って結果
的に、炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気に維持し
続けるのである。
ルブ及び水素ガス送入バルブの各開度の調節を繰り返し
て行なうことにより、これらが相互に補充し合って結果
的に、炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気に維持し
続けるのである。
【００１１】
【実施例】図１は本発明の一実施状態を略示する系統図
、図２は本発明の他の一実施状態を略示する系統図であ
る。
、図２は本発明の他の一実施状態を略示する系統図であ
る。
【００１２】図１において、前後に雰囲気シール１１，
１２を備えるストリップ用雰囲気炉１３には、窒素ガス
送入バルブ２１を介装して窒素ガス送入源２２へと接続
された窒素ガス送入管２３が配管されており、また水素
ガス送入バルブ３１を介装して水素ガス送入源３２へと
接続された水素ガス送入管３３が配管されている。スト
リップ用雰囲気炉１３には炉圧計４１が接続されており
、炉圧計４１は演算装置４２へと接続されていて、演算
装置４２は窒素ガス送入バルブ２１へと接続されている
。またストリップ用雰囲気炉１３には酸素ガス計５１が
接続されており、酸素ガス計５１は演算装置５２へと接
続されていて、演算装置５２は水素ガス送入バルブ３１
へと接続されている。そして図示を省略するが、演算装
置４２，５２には炉温が入力されるようになっている。
１２を備えるストリップ用雰囲気炉１３には、窒素ガス
送入バルブ２１を介装して窒素ガス送入源２２へと接続
された窒素ガス送入管２３が配管されており、また水素
ガス送入バルブ３１を介装して水素ガス送入源３２へと
接続された水素ガス送入管３３が配管されている。スト
リップ用雰囲気炉１３には炉圧計４１が接続されており
、炉圧計４１は演算装置４２へと接続されていて、演算
装置４２は窒素ガス送入バルブ２１へと接続されている
。またストリップ用雰囲気炉１３には酸素ガス計５１が
接続されており、酸素ガス計５１は演算装置５２へと接
続されていて、演算装置５２は水素ガス送入バルブ３１
へと接続されている。そして図示を省略するが、演算装
置４２，５２には炉温が入力されるようになっている。
【００１３】炉圧計４１で炉圧を実測し、実測した炉圧
を演算装置４２へ入力して、入力した炉圧が目標値とな
るように演算装置４２から発せられる信号により窒素ガ
ス送入バルブ２１の開度を調節しつつ、同時に酸素ガス
計５１で炉内雰囲気ガス中の酸素ガス量を実測し、実測
した酸素ガス量を演算装置５２へ入力して、入力した酸
素ガス量が目標値（炉温との関係において酸化還元曲線
に近接する還元雰囲気を実現するための目標値）となる
ように演算装置５２から発せられる信号により水素ガス
送入バルブ３１の開度を調節しているのである。
を演算装置４２へ入力して、入力した炉圧が目標値とな
るように演算装置４２から発せられる信号により窒素ガ
ス送入バルブ２１の開度を調節しつつ、同時に酸素ガス
計５１で炉内雰囲気ガス中の酸素ガス量を実測し、実測
した酸素ガス量を演算装置５２へ入力して、入力した酸
素ガス量が目標値（炉温との関係において酸化還元曲線
に近接する還元雰囲気を実現するための目標値）となる
ように演算装置５２から発せられる信号により水素ガス
送入バルブ３１の開度を調節しているのである。
【００１４】図２において、雰囲気シール１４，１５、
ストリップ用雰囲気炉１６、窒素ガス送入バルブ２４、
窒素ガス送入源２５、窒素ガス送入管２６、水素ガス送
入バルブ３４、水素ガス送入源３５、水素ガス送入管３
６、炉圧計４３及び演算装置４４，５５の相互配置は図
１の場合と同様であるが、図２の場合、ストリップ用雰
囲気炉１６には図１の酸素ガス計５１の代わりに水素ガ
ス計５３及び露点計５４が接続されており、水素ガス計
５３及び露点計５４が演算装置５５へと接続されている
。
ストリップ用雰囲気炉１６、窒素ガス送入バルブ２４、
窒素ガス送入源２５、窒素ガス送入管２６、水素ガス送
入バルブ３４、水素ガス送入源３５、水素ガス送入管３
６、炉圧計４３及び演算装置４４，５５の相互配置は図
１の場合と同様であるが、図２の場合、ストリップ用雰
囲気炉１６には図１の酸素ガス計５１の代わりに水素ガ
ス計５３及び露点計５４が接続されており、水素ガス計
５３及び露点計５４が演算装置５５へと接続されている
。
【００１５】炉圧計４３で炉圧を実測し、実測した炉圧
を演算装置４４へ入力して、入力した炉圧が目標値とな
るように演算装置４４から発せられる信号により窒素ガ
ス送入バルブ２４の開度を調節しつつ、同時に水素ガス
計５３で炉内雰囲気ガス中の水素ガス量及び露点計５４
で該炉内雰囲気ガスの露点を実測し、実測した水素ガス
量及び露点を演算装置５５へ入力して、入力した水素ガ
ス量及び露点から求められるこれらの比（Ｈ２／Ｈ２Ｏ
）が目標値となるように演算装置５５から発せられる信
号により水素ガス送入バルブ３４の開度を調節している
のである。
を演算装置４４へ入力して、入力した炉圧が目標値とな
るように演算装置４４から発せられる信号により窒素ガ
ス送入バルブ２４の開度を調節しつつ、同時に水素ガス
計５３で炉内雰囲気ガス中の水素ガス量及び露点計５４
で該炉内雰囲気ガスの露点を実測し、実測した水素ガス
量及び露点を演算装置５５へ入力して、入力した水素ガ
ス量及び露点から求められるこれらの比（Ｈ２／Ｈ２Ｏ
）が目標値となるように演算装置５５から発せられる信
号により水素ガス送入バルブ３４の開度を調節している
のである。
【００１６】図示を省略するが、図１において演算装置
４２と演算装置５２とを兼用することもでき、また図２
において演算装置４４と演算装置５５とを兼用すること
もできる。そして兼用する場合には例えば、炉圧を窒素
ガス送入量及び水素ガス送入量の合計量で制御すること
もできる。
４２と演算装置５２とを兼用することもでき、また図２
において演算装置４４と演算装置５５とを兼用すること
もできる。そして兼用する場合には例えば、炉圧を窒素
ガス送入量及び水素ガス送入量の合計量で制御すること
もできる。
【００１７】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、ストリップ用雰囲気炉において、高価な水素ガ
スの送入量を必要最小限に抑え、経済的に炉内雰囲気ガ
スを所定の揚圧還元雰囲気に維持することができるとい
う効果がある。
明には、ストリップ用雰囲気炉において、高価な水素ガ
スの送入量を必要最小限に抑え、経済的に炉内雰囲気ガ
スを所定の揚圧還元雰囲気に維持することができるとい
う効果がある。
【図１】本発明の一実施状態を略示する系統図。
【図２】本発明の他の一実施状態を略示する系統図。
１１，１２，１４，１５・・・雰囲気シール、１３，１
６・・・ストリップ用雰囲気炉、２１，２４・・・窒素
ガス送入バルブ、３１，３４・・・水素ガス送入バルブ
、４１，４３・・・炉圧計、４２，４４，５２，５５・
・・演算装置、５１・・・酸素ガス計、５３・・・水素
ガス計、５４・・・露点計
６・・・ストリップ用雰囲気炉、２１，２４・・・窒素
ガス送入バルブ、３１，３４・・・水素ガス送入バルブ
、４１，４３・・・炉圧計、４２，４４，５２，５５・
・・演算装置、５１・・・酸素ガス計、５３・・・水素
ガス計、５４・・・露点計
Claims (2)
- 【請求項１】 炉の前後に雰囲気シールを備えたスト
リップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガスの制御方法で
あって、実測した炉圧に基づいて炉内へ送入する窒素ガ
ス量を調節しつつ、同時に実測した炉内雰囲気ガス中の
酸素ガス量に基づいて炉内へ送入する水素ガス量を調節
することにより炉内雰囲気ガスを所定の揚圧還元雰囲気
に維持することを特徴とするストリップ用雰囲気炉にお
ける炉内雰囲気ガス制御方法。 - 【請求項２】 炉の前後に雰囲気シールを備えたスト
リップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガスの制御方法で
あって、実測した炉圧に基づいて炉内へ送入する窒素ガ
ス量を調節しつつ、同時に実測した炉内雰囲気ガス中の
水素ガス量及び該炉内雰囲気ガスの露点に基づいて炉内
へ送入する水素ガス量を調節することにより炉内雰囲気
ガスを所定の揚圧還元雰囲気に維持することを特徴とす
るストリップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガス制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3033695A JP2985163B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | ストリップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガス制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3033695A JP2985163B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | ストリップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガス制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254527A true JPH04254527A (ja) | 1992-09-09 |
| JP2985163B2 JP2985163B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=12393557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3033695A Expired - Fee Related JP2985163B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | ストリップ用雰囲気炉における炉内雰囲気ガス制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2985163B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105177251A (zh) * | 2014-06-11 | 2015-12-23 | 日本碍子株式会社 | 热处理炉 |
| KR20220069642A (ko) * | 2020-11-20 | 2022-05-27 | 주식회사 포스코 | 소둔로 분위기 가스의 이슬점 제어장치 및 제어방법 |
| JP2024046335A (ja) * | 2022-09-22 | 2024-04-03 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 連続加熱炉 |
-
1991
- 1991-02-01 JP JP3033695A patent/JP2985163B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105177251A (zh) * | 2014-06-11 | 2015-12-23 | 日本碍子株式会社 | 热处理炉 |
| JP2016001064A (ja) * | 2014-06-11 | 2016-01-07 | 日本碍子株式会社 | 熱処理炉 |
| CN105177251B (zh) * | 2014-06-11 | 2018-03-09 | 日本碍子株式会社 | 热处理炉 |
| TWI646201B (zh) * | 2014-06-11 | 2019-01-01 | 日商日本碍子股份有限公司 | Heat treatment furnace |
| KR20220069642A (ko) * | 2020-11-20 | 2022-05-27 | 주식회사 포스코 | 소둔로 분위기 가스의 이슬점 제어장치 및 제어방법 |
| JP2024046335A (ja) * | 2022-09-22 | 2024-04-03 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 連続加熱炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2985163B2 (ja) | 1999-11-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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