JPH04251414A - Thin-film magnetic head - Google Patents
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- JPH04251414A JPH04251414A JP11784291A JP11784291A JPH04251414A JP H04251414 A JPH04251414 A JP H04251414A JP 11784291 A JP11784291 A JP 11784291A JP 11784291 A JP11784291 A JP 11784291A JP H04251414 A JPH04251414 A JP H04251414A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 249
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 9
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 64
- 239000010408 film Substances 0.000 description 31
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017082 Fe-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017133 Fe—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018598 Si-Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002796 Si–Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008453 Si—Co Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
Description
【０００１】0001
【産業上の利用分野】本発明は、例えばハードディスク
等の磁気記録媒体に情報を書込みあるいは読出しをする
のに好適な薄膜磁気ヘッドに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head suitable for writing or reading information on a magnetic recording medium such as a hard disk.
【０００２】0002
【従来の技術】一般に、薄膜磁気ヘッドは、磁気回路部
を構成する磁性体膜や導体コイルが真空薄膜形成技術に
より形成されるため、狭トラック化や狭ギャップ化等の
微細寸法化が容易でしかも高分解能記録が可能であると
いう特徴を有しており、高密度記録化に対応した磁気ヘ
ッドとして注目されている。[Prior Art] Generally, in a thin film magnetic head, the magnetic film and conductor coil constituting the magnetic circuit section are formed by vacuum thin film forming technology, so it is easy to achieve finer dimensions such as narrower tracks and narrower gaps. Moreover, it has the characteristic of being capable of high-resolution recording, and is attracting attention as a magnetic head compatible with high-density recording.
【０００３】かかる薄膜磁気ヘッドとしては、通常、下
部磁性体上に絶縁膜を介して単層または複数層の導体コ
イルが積層形成され、さらにこの導体コイル上に絶縁膜
を介して上部磁性体が形成されて磁気回路部が構成され
るようになっている。[0003] Such thin-film magnetic heads usually have a single layer or multiple layers of conductive coils stacked on a lower magnetic material with an insulating film interposed therebetween, and an upper magnetic material is further layered on this conductive coil with an insulating film interposed therebetween. The magnetic circuit section is formed by forming a magnetic circuit section.
【０００４】ところで近年においては、より一層の記録
密度の向上に伴って記録媒体において狭トラック化が進
められており、これに対処するべく薄膜磁気ヘッドの分
野においてもトラック幅を狭くなすとともに電磁変換特
性、特に記録・再生出力のさらなる向上が図られている
。By the way, in recent years, as recording density has further improved, recording media have become narrower in track width. Further improvements are being made in characteristics, particularly in recording and playback output.
【０００５】ところが、薄膜磁気ヘッドでは、磁性体膜
の断面積がバルク型の磁気ヘッドに比べて小さいため、
磁気抵抗が大きく飽和し易くなっており、特に断面積の
小さい磁気ギャップ部で飽和が起こる。磁気ギャップ部
が飽和してしまうと、記録時の実効ギャップ長が長くな
り、記録密度が低下し、電磁変換特性が劣化する。However, in thin-film magnetic heads, the cross-sectional area of the magnetic film is smaller than that in bulk-type magnetic heads.
Magnetic resistance is large and saturation tends to occur, particularly at magnetic gap portions with small cross-sectional areas. When the magnetic gap portion becomes saturated, the effective gap length during recording increases, the recording density decreases, and the electromagnetic conversion characteristics deteriorate.
【０００６】磁気ギャップ部の飽和を防止する手法とし
て、例えば、磁性体膜の膜厚を厚くしてコア断面積を大
きくする手法や、デプスを深くする手法等が挙げられる
。しかしながら、前者では、飽和を防止する程に膜厚を
厚くすることは困難であり、後者では、飽和は防止でき
るが、オーバライト特性が劣化する。Techniques for preventing the saturation of the magnetic gap include, for example, increasing the thickness of the magnetic film to increase the core cross-sectional area, and increasing the depth. However, in the former case, it is difficult to make the film thick enough to prevent saturation, and in the latter case, although saturation can be prevented, overwrite characteristics deteriorate.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、かか
る従来の実情に鑑みて提案されたものであり、磁気ギャ
ップ部の飽和が防止でき、記録密度の大幅な向上の図れ
る再生効率の高い薄膜磁気ヘッドを提供することを目的
とするものである。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been proposed in view of the above-mentioned conventional circumstances, and it is an object of the present invention to provide a thin film with high reproduction efficiency that can prevent saturation of the magnetic gap portion and significantly improve recording density. The object is to provide a magnetic head.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の目的を
達成するために提案されたものであり、下部磁性体と上
部磁性体とが積層形成され、これら下部磁性体と上部磁
性体とが磁気記録媒体摺動面側において微小間隔をもっ
て平行に対向配置され磁気ギャップが構成されてなる薄
膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性体は、下部磁性体
と平行な磁気ギャップ部に連なる第１の傾斜部と第２の
傾斜部を有し、第１の傾斜部の上記磁気ギャップ部と対
向する下部磁性体に対する傾斜角度θ１ が２゜≦θ１
≦２５゜とされるとともに、第２の傾斜部の上記磁気
ギャップ部と対向する下部磁性体に対する傾斜角度θ２
が３０゜≦θ２ ≦８０゜とされたことを特徴とする
ものである。[Means for Solving the Problems] The present invention has been proposed to achieve the above-mentioned object, and includes a lower magnetic body and an upper magnetic body formed in a laminated manner. In a thin film magnetic head in which a magnetic gap is formed by arranging magnetic recording medium members facing each other in parallel with a minute interval on the sliding surface side of a magnetic recording medium, the upper magnetic body has a first inclined surface connected to a magnetic gap portion parallel to the lower magnetic body. and a second sloped part, and the slope angle θ1 of the first sloped part with respect to the lower magnetic body facing the magnetic gap part is 2°≦θ1
≦25°, and the inclination angle θ2 of the second inclined portion with respect to the lower magnetic body facing the magnetic gap portion is
is set to 30°≦θ2≦80°.
【０００９】さらに本発明にかかる薄膜磁気ヘッドは、
上部磁性体の厚みが３μｍ以下であることを特徴とする
ものである。Furthermore, the thin film magnetic head according to the present invention has the following features:
It is characterized in that the thickness of the upper magnetic body is 3 μm or less.
【００１０】さらに本発明にかかる薄膜磁気ヘッドは、
トラック幅が１０μｍ以下であることを特徴とするもの
である。Furthermore, the thin film magnetic head according to the present invention includes:
It is characterized in that the track width is 10 μm or less.
【００１１】[0011]
【作用】本発明にかかる薄膜磁気ヘッドにおいては、上
部磁性体が下部磁性体と平行な磁気ギャップ部に連なっ
て第１の傾斜部と第２の傾斜部を有した形状とされてお
り、その第１の傾斜部が下部磁性体に対して傾斜角度２
゜以上，２５゜以下と比較的緩やかな傾斜とされている
ので、この傾斜部と下部磁性体間に漏洩磁束が発生し、
これにより磁気ギャップ部での飽和が抑制される。[Operation] In the thin-film magnetic head according to the present invention, the upper magnetic body has a first slope portion and a second slope portion connected to a magnetic gap portion parallel to the lower magnetic body. The first slope part has a slope angle of 2 with respect to the lower magnetic body.
Since the slope is relatively gentle, at more than 25 degrees and less than 25 degrees, leakage magnetic flux occurs between this slope and the lower magnetic body.
This suppresses saturation at the magnetic gap portion.
【００１２】また、本発明においては、上記第１の傾斜
部に連なる第２の傾斜部が下部磁性体に対して傾斜角度
３０゜以上，８０゜以下と急峻な角度で傾斜されている
ので、オーバライト特性の低下が起こらない。Further, in the present invention, since the second inclined portion connected to the first inclined portion is inclined with respect to the lower magnetic body at a steep angle of 30° or more and 80° or less, No deterioration of overwrite characteristics occurs.
【００１３】さらに本発明にかかる薄膜磁気ヘッドにお
いては、上部磁性体の厚みが３μｍ以下であるので、ギ
ャップ長を短くし、狭トラック化した場合でも記録密度
特性の劣化が生じない。Further, in the thin film magnetic head according to the present invention, since the thickness of the upper magnetic body is 3 μm or less, even when the gap length is shortened and the track is narrowed, the recording density characteristics do not deteriorate.
【００１４】[0014]
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて説明する。本実施例の薄膜磁気ヘッドは、図１に示
すように、基板１上に下部磁性体２と上部磁性体３が積
層形成され、これら下部磁性体２と上部磁性体３とが磁
気記録媒体摺動面側において微小間隔をもって平行に対
向配置されることにより磁気ギャップとして動作するフ
ロントギャップＦＧを構成するようになっている。[Embodiments] Specific embodiments to which the present invention is applied will be described below. As shown in FIG. 1, the thin film magnetic head of this embodiment has a lower magnetic body 2 and an upper magnetic body 3 stacked on a substrate 1, and these lower magnetic body 2 and upper magnetic body 3 are connected to a magnetic recording medium. A front gap FG that operates as a magnetic gap is configured by arranging them in parallel and facing each other with a minute interval on the moving surface side.
【００１５】上記基板１には、例えばチタン酸カリウム
，セラミックス，アルミナ等の非磁性材料よりなる基板
が使用される。この他、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト，Ｎｉ
−Ｚｎ系フェライト等の強磁性材料よりなる基板も使用
することができる。なお、この場合には、下部磁性体２
との絶縁性を確保するために当該基板１上にアルミナ等
の非磁性膜を形成する必要がある。As the substrate 1, a substrate made of a non-magnetic material such as potassium titanate, ceramics, alumina, etc. is used. In addition, Mn-Zn ferrite, Ni
- A substrate made of ferromagnetic material such as Zn-based ferrite can also be used. In this case, the lower magnetic body 2
It is necessary to form a nonmagnetic film such as alumina on the substrate 1 to ensure insulation from the substrate 1.
【００１６】上記基板１上には、上部磁性体３と共働し
て磁気回路部を構成する下部磁性体２が形成されている
。下部磁性体２は、トラック幅方向に対して略直交する
方向， すなわちフロントギャップＦＧのデプス方向と
同一方向に一体的に形成されるとともに、バックギャッ
プＢＧが形成される位置よりも若干バック側に至る箇所
まで形成されている。On the substrate 1, a lower magnetic body 2 is formed which cooperates with the upper magnetic body 3 to form a magnetic circuit section. The lower magnetic body 2 is integrally formed in a direction substantially perpendicular to the track width direction, that is, in the same direction as the depth direction of the front gap FG, and is formed slightly toward the back side of the position where the back gap BG is formed. It is formed everywhere.
【００１７】上記下部磁性体２には、高飽和磁束密度を
有し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用される。
かかる強磁性材料としては、従来から公知のものがいず
れも使用でき、結晶質，非結晶質を問わない。例示する
ならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、
Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａ
ｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ
−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金等の強磁
性金属材料、あるいはＦｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、さらに
は上記Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一
層の向上を図るために、Ｆｅ，Ｇａ，Ｃｏ（Ｆｅの一部
をＣｏで置換したものを含む。），Ｓｉを基本組成とす
る合金に、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ
，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｐ
ｔ，Ｈｆ，Ｖの少なくとも一種を添加したものであって
もよい。For the lower magnetic body 2, a ferromagnetic material having a high saturation magnetic flux density and excellent soft magnetic properties is used. Any conventionally known ferromagnetic material can be used, and it does not matter whether it is crystalline or amorphous. Examples include Fe-Al-Si alloy, Fe-Al alloy,
Fe-Si-Co alloy, Fe-Ni alloy, Fe-A
l-Ge alloy, Fe-Ga-Ge alloy, Fe-Si
- Ferromagnetic metal materials such as Ge alloys, Fe-Co-Si-Al alloys, Fe-Ga-Si alloys, and even more corrosion-resistant and wear-resistant materials such as Fe-Ga-Si alloys. In order to increase
, W, Ru, Os, Rh, Ir, Re, Ni, Pb, P
At least one of t, Hf, and V may be added.
【００１８】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるア
モルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの一つ以上
の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの一つ以上の元素とからなる
合金、またはこれを主成分としＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓｎ
，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルファ
ス合金、あるいは Ｃｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や
希土類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルフ
ァス合金）等も使用される。[0018] Furthermore, ferromagnetic amorphous metal alloys, so-called amorphous alloys (for example, alloys consisting of one or more elements of Fe, Ni, and Co and one or more elements of P, C, B, and Si, or This is the main component and Al, Ge, Be, Sn
, In, Mo, W, Ti, Mn, Cr, Zr, Hf, N
Also used are metal-metalloid amorphous alloys such as alloys containing B, etc., or metal-metal amorphous alloys containing transition elements such as Co, Hf, and Zr, and rare earth elements as main components.
【００１９】上記下部磁性体２を形成する手法としては
、メッキによる方法あるいは真空薄膜形成技術、例えば
蒸着法， スパッタリング法， イオンプレーティング
法等が挙げられる。なお本実施例では、メッキ法を採用
した。また、このときの下部磁性体２の膜厚は、後述す
る上部磁性体３の膜厚に比べて厚めにしフロント部での
漏れ磁界を大きくするために、例えば３μｍ以上、１０
μｍ以下とすることが望ましい。このようにすれば、後
述の第１の傾斜部３ｂと下部磁性体２間で発生する漏れ
磁束をより多く発生させることができ、フロント部での
飽和を防止することができる。Methods for forming the lower magnetic body 2 include plating or vacuum thin film forming techniques such as vapor deposition, sputtering, and ion plating. Note that in this example, a plating method was adopted. In addition, the film thickness of the lower magnetic body 2 at this time is thicker than that of the upper magnetic body 3, which will be described later, to increase the leakage magnetic field at the front part, for example, 3 μm or more, 10
It is desirable that the thickness be less than μm. In this way, more leakage magnetic flux can be generated between the first inclined portion 3b and the lower magnetic body 2, which will be described later, and saturation at the front portion can be prevented.
【００２０】また、前記基板１上には、前記下部磁性体
２と上部磁性体３間より導出されるスパイラル状の導体
コイル５ａ，５ｂを形成するための土台となるコイル形
成用補助層６が形成されている。上記コイル形成用補助
層６は、上記下部磁性体２のバック側の後端縁と接続し
てフロントギャップＦＧのデプス方向に延在するように
して形成されている。Further, on the substrate 1, there is an auxiliary coil forming layer 6 which serves as a base for forming the spiral conductor coils 5a and 5b led out from between the lower magnetic body 2 and the upper magnetic body 3. It is formed. The coil forming auxiliary layer 6 is formed so as to be connected to the rear end edge of the lower magnetic body 2 on the back side and extend in the depth direction of the front gap FG.
【００２１】そして上記下部磁性体２上には、後述する
第１層目の導体コイル５ａとの絶縁を図るための第１の
絶縁層４ａがフロントギャップ部及びバックギャップ部
を除いた部分に形成されている。この第１の絶縁層４ａ
は、下部磁性体２と第１層目の導体コイル５ａとの絶縁
性を確保する働きをする他、前記上部磁性体３のフロン
ト部での形状を規制する働きをするようになっている。
なお、上記第１の絶縁層４ａは、上記下部磁性体２上の
みならず前記コイル形成用補助層６上にも形成されてい
る。A first insulating layer 4a is formed on the lower magnetic body 2 except for the front gap portion and the back gap portion for insulating it from the first layer conductor coil 5a, which will be described later. has been done. This first insulating layer 4a
serves to ensure insulation between the lower magnetic body 2 and the first layer conductor coil 5a, and also serves to regulate the shape of the front portion of the upper magnetic body 3. Note that the first insulating layer 4a is formed not only on the lower magnetic body 2 but also on the coil forming auxiliary layer 6.
【００２２】また、上記第１の絶縁層４ａ上には、下部
磁性体２とコイル形成用補助層６との間に亘ってスパイ
ラル状とされた第１の導体コイル５ａが形成されている
。この導体コイル５ａは、前記下部磁性体２と上部磁性
体３に所定の向きの電流を供給するためのもので、例え
ばＣｕやＡｌ等の導電金属材料をメッキすることにより
、スパイラル状に複数ターンとして形成されている。
なお、上記導体コイル（５ａ）の形態としては、特に限
定されるものではなく、例えばヘリカル型， ジグザグ
型等であってもよい。[0022] Further, a first conductive coil 5a in a spiral shape is formed on the first insulating layer 4a, extending between the lower magnetic body 2 and the auxiliary layer 6 for forming a coil. The conductor coil 5a is for supplying current in a predetermined direction to the lower magnetic body 2 and the upper magnetic body 3, and is formed by plating a conductive metal material such as Cu or Al to form a plurality of spiral turns. It is formed as. The form of the conductor coil (5a) is not particularly limited, and may be, for example, a helical type, a zigzag type, or the like.
【００２３】また、上記第１の絶縁層４ａ上には、先の
導体コイル５ａと後述の第２層目の導体コイル５ｂの絶
縁を図るための第２の絶縁層４ｂが形成されている。こ
の第２の絶縁層４ｂは、上記第１層目の導体コイル５ａ
を埋める形で形成され、その上面が平坦な面とされてい
る。そして、さらにこの第２の絶縁層４ｂの上にも、先
の第１層目の導体コイル５ａと同様のスパイラル状とさ
れた第２層目の導体コイル５ｂが形成されている。した
がって、本例では、導体コイル５ａ，５ｂが２層に積層
された形となっている。なお、これら第２の絶縁層４ｂ
及び第３の絶縁層４ｃのフロント部は、先の第１の絶縁
層４ａと同じく、前記上部磁性体３のフロント部での形
状を規制する働きをするようになっている。A second insulating layer 4b is formed on the first insulating layer 4a to insulate the conductor coil 5a from the second layer conductor coil 5b, which will be described later. This second insulating layer 4b is the first layer conductor coil 5a.
It is formed in such a way that it fills in the space, and its upper surface is flat. Further, on this second insulating layer 4b, a second layer conductor coil 5b having a spiral shape similar to the first layer conductor coil 5a is formed. Therefore, in this example, the conductor coils 5a and 5b are stacked in two layers. Note that these second insulating layers 4b
Similarly to the first insulating layer 4a, the front portion of the third insulating layer 4c functions to regulate the shape of the upper magnetic body 3 at the front portion.
【００２４】そして、上記第１の絶縁層４ａ、第２の絶
縁層４ｂ、第３の絶縁層４ｃを含めフロントギャップ部
及びバックギャップ部にＳｉＯ２ やＴａ２ Ｏ５ 等
の非磁性材料よりなるギャップ膜７が形成され、その上
に前述の下部磁性体２と共働して磁気回路部を構成する
上部磁性体３が形成されている。A gap film 7 made of a non-magnetic material such as SiO2 or Ta2O5 is provided in the front gap portion and the back gap portion including the first insulating layer 4a, second insulating layer 4b, and third insulating layer 4c. is formed thereon, and an upper magnetic body 3 is formed thereon, which cooperates with the aforementioned lower magnetic body 2 to constitute a magnetic circuit section.
【００２５】上部磁性体３は、先の導体コイル５ａ，５
ｂの渦巻の略中央部から磁気記録媒体対接面８近傍に跨
いで一体的に形成され、上記渦巻の中央部ではギャップ
膜７を挾んで下部磁性体２と対向配置してバックギャッ
プＢＧを構成している。一方、磁気記録媒体摺動面８近
傍では、上記上部磁性体３は、ギャップ膜７を挾んで下
部磁性体２と対向配置してフロントギャップＦＧを構成
するようになっている。したがって、これら上部磁性体
３と下部磁性体２は、導体コイル５ａ，５ｂを中央部に
挾んでバックギャップＢＧ及びフロントギャップＦＧを
介して磁気的に結合され、磁気回路部を構成するように
なっている。[0025] The upper magnetic body 3 is connected to the conductor coils 5a, 5
A back gap BG is formed integrally from the approximate center of the spiral b to the vicinity of the magnetic recording medium contacting surface 8, and is disposed facing the lower magnetic body 2 with the gap film 7 in between at the center of the spiral. It consists of On the other hand, near the magnetic recording medium sliding surface 8, the upper magnetic body 3 is arranged to face the lower magnetic body 2 with the gap film 7 in between, thereby forming a front gap FG. Therefore, the upper magnetic body 3 and the lower magnetic body 2 are magnetically coupled via the back gap BG and the front gap FG with the conductor coils 5a and 5b sandwiched in the center, and constitute a magnetic circuit section. ing.
【００２６】なお、前記フロントギャップＦＧのギャッ
プ長ｇは、本実施例では、再生効率を考慮して０＜ｇ≦
０．６μｍとした。これは、図２に示すギャップ長ｇを
変化させたときの半値幅ＰＷ５０の変化値より決められ
、例えばギャップ長ｇが０．１μｍ〜０．５μｍと極め
て狭い場合でもフロント部での飽和が抑えられ、高記録
密度化に適した出力が得られていることに基づく。[0026] In this embodiment, the gap length g of the front gap FG is set to 0<g≦ in consideration of regeneration efficiency.
It was set to 0.6 μm. This is determined from the change value of the half-width PW50 when the gap length g shown in FIG. This is based on the fact that the output is suitable for high recording density.
【００２７】このように形成された上部磁性体３は、図
３に示すようにそのフロント部で、下部磁性体２と平行
な磁気ギャップ部３ａと、この磁気ギャップ部３ａに連
なる第１の傾斜部３ｂ及び第２の傾斜部３ｃを有した形
となっている。すなわち、磁気ギャップ部３ａは、下部
磁性体２と平行に磁気記録媒体摺動面８よりデプスＤｐ
零位置に亘って形成され、ギャップ膜７を介してフロン
トギャップＦＧを構成するようになっている。As shown in FIG. 3, the upper magnetic body 3 formed in this manner has a magnetic gap portion 3a parallel to the lower magnetic body 2 and a first slope connected to the magnetic gap portion 3a at its front portion. It has a shape having a section 3b and a second inclined section 3c. That is, the magnetic gap portion 3a is located parallel to the lower magnetic body 2 at a depth Dp from the magnetic recording medium sliding surface 8.
It is formed over the zero position, and constitutes a front gap FG with the gap film 7 interposed therebetween.
【００２８】一方、第１の傾斜部３ｂは、フロントギャ
ップＦＧのデプスＤｐ零位置より上記磁気ギャップ部３
ａと対向する下部磁性体２に対する傾斜角度θ１ を２
゜≦θ１ ≦２５゜とし、且つ該下部磁性体２に対する
対向長さＬ１ を３≦Ｌ１ ≦１０μｍとして当該下部
磁性体２との対向距離が広がる方向に傾斜して形成され
ている。
ここでの傾斜角度θ１ が２゜未満であると、上記傾斜
部３ｂの傾斜角度が緩すぎてデプスＤｐが実質的に深く
なったのと変わらなくなり、ヘッドのオーバライト特性
が劣化する。逆に、傾斜角度θ１ が２５゜を越えると
、傾斜部３ｂと下部磁性体２との対向距離が大きくなり
、再生時に磁気ギャップ部３ａで飽和が起こる。また、
前記上部磁性体３の傾斜部３ｂの下部磁性体２に対する
対向長さＬ１ が３μｍ未満であると、この傾斜部３ｂ
の長さが短すぎて下部磁性体２との対向部が少なくなり
、やはり磁気ギャップ部３ａでの飽和が生ずる。逆に、
１０μｍを越えると、今度は傾斜部３ｂと下部磁性体２
との対向距離が長すぎ、この間に発生する漏洩磁束が多
くなり、出力が低下する。On the other hand, the first inclined portion 3b extends from the zero position of the depth Dp of the front gap FG to the magnetic gap portion 3.
The inclination angle θ1 with respect to the lower magnetic body 2 facing a is 2
It is formed to be inclined in the direction in which the facing distance with the lower magnetic body 2 is widened, with the angle ≦θ1 ≦25° and the opposing length L1 with respect to the lower magnetic body 2 being 3≦L1 ≦10 μm. If the inclination angle θ1 here is less than 2°, the inclination angle of the inclination portion 3b is too gentle and the depth Dp is substantially deeper, deteriorating the overwrite characteristics of the head. On the other hand, when the inclination angle θ1 exceeds 25°, the facing distance between the inclination portion 3b and the lower magnetic body 2 increases, and saturation occurs in the magnetic gap portion 3a during reproduction. Also,
When the length L1 of the inclined portion 3b of the upper magnetic body 3 facing the lower magnetic body 2 is less than 3 μm, this inclined portion 3b
Since the length is too short, the portion facing the lower magnetic body 2 is reduced, and saturation also occurs at the magnetic gap portion 3a. vice versa,
When it exceeds 10 μm, the slope part 3b and the lower magnetic body 2
The facing distance between the two is too long, and the amount of leakage magnetic flux generated during this time increases, resulting in a decrease in output.
【００２９】他方、第２の傾斜部３ｃは、上記第１の傾
斜部３ｂの後端縁に連なって上記磁気ギャップ部３ａと
対向する下部磁性体２に対する傾斜角度θ２を３０゜≦
θ２ ≦８０゜とし、且つ下部磁性体２に対する対向長
さＬ２ を３μｍ≦Ｌ２ ≦３０μｍとして当該下部磁
性体２との対向距離が広がる方向に傾斜して形成されて
いる。
上記傾斜角度θ２ が３０゜未満であると、上部磁性体
３の第２の傾斜部３ｃの傾斜が緩すぎて前述の導体コイ
ル５ａ，５ｂが作り難くなるばかりか、オーバライト特
性が劣化する。一方、第２の傾斜部３ｃの下部磁性体２
に対する対向長さＬ２ は、導体コイル５ａ，５ｂをギ
ャップ部近傍に近づけて設けた場合に再生出力が向上す
ることから上述の範囲に決められる。したがって、上記
第２の傾斜部３ｃの下部磁性体２に対する対向長さＬ２
が３μｍ未満，３０μｍを越えた場合には、再生出力
が低下するとともに導体コイル５ａ，５ｂの作製も困難
となる。なお、本実施例の薄膜磁気ヘッドでは、再生出
力及び導体コイル５ａ，５ｂの作製作業を共に満足させ
る最適値として上記対向長さＬ２ を１０μｍとした。On the other hand, the second inclined portion 3c has an inclination angle θ2 of 30°≦with respect to the lower magnetic body 2 that is continuous with the rear end edge of the first inclined portion 3b and faces the magnetic gap portion 3a.
θ2≦80°, and the opposing length L2 with respect to the lower magnetic body 2 is 3 μm≦L2≦30 μm, and is formed to be inclined in the direction in which the opposing distance with the lower magnetic body 2 increases. If the above-mentioned inclination angle θ2 is less than 30°, the inclination of the second inclined portion 3c of the upper magnetic body 3 is too gentle, which not only makes it difficult to fabricate the above-mentioned conductor coils 5a and 5b, but also deteriorates the overwrite characteristics. On the other hand, the lower magnetic body 2 of the second inclined portion 3c
The opposing length L2 is determined within the above-mentioned range because the reproduction output is improved when the conductor coils 5a and 5b are provided close to the gap portion. Therefore, the facing length L2 of the second inclined portion 3c with respect to the lower magnetic body 2
If it is less than 3 μm or more than 30 μm, the reproduction output will decrease and it will be difficult to fabricate the conductor coils 5a and 5b. In the thin film magnetic head of this example, the facing length L2 was set to 10 μm as an optimum value that satisfies both the reproduction output and the manufacturing work of the conductor coils 5a and 5b.
【００３０】そして、上記のようにフロント部で断面形
状が階段状となれた上部磁性体３は、ギャップ長及びト
ラック幅の狭小化により記録密度特性が劣化しないよう
に、その厚みが３μｍ以下とされる。但し、膜厚が３μ
ｍ以下といっても再生効率を考慮して最低限１μｍ以上
は必要である。この場合、上部磁性体３の膜厚は、フロ
ント部のみを３μｍ以下とすることが望ましく、バック
側はこれよりも厚く５μｍ程度とすることが好ましい。
例えば、膜厚を３μｍ以下とする範囲Ｌ３ （磁気記録
媒体摺動面８からの距離）としては、上記Ｌ３を変化さ
せたときの半値幅ＰＷ５０の値の変化を示す図４より、
デプスＤｐ零位置（図４中，Ｌ３ の値が２μｍの位置
）より少なくとも３μｍ以上でしかも最大約１０μｍ以
内の範囲が好ましい。もちろん、フロントギャップＦＧ
からバックギャップＢＧに亘って上部磁性体３の膜厚が
全て３μｍ場合にも、その膜厚が全体に亘って５μｍの
ときに比べて記録密度特性は向上する。なお、図４は、
デプスＤｐが２μｍ、ギャップ長ｇが０．３μｍ、フラ
イングハイトＦＨが０．１７μｍ、電流値Ｉｗが３０ｍ
Ａｏｐのときの値である。The upper magnetic body 3, which has a stepped cross-sectional shape at the front portion as described above, has a thickness of 3 μm or less so that the recording density characteristics do not deteriorate due to narrowing of the gap length and track width. be done. However, the film thickness is 3μ
Even if it is less than m, it is necessary to have at least 1 μm or more in consideration of regeneration efficiency. In this case, the film thickness of the upper magnetic body 3 is preferably 3 μm or less only on the front portion, and preferably thicker on the back side, approximately 5 μm. For example, as for the range L3 (distance from the magnetic recording medium sliding surface 8) in which the film thickness is 3 μm or less, from FIG.
The range is preferably at least 3 μm or more and within a maximum of about 10 μm from the depth Dp zero position (the position where the value of L3 is 2 μm in FIG. 4). Of course, front gap FG
Even when the film thickness of the upper magnetic body 3 is all 3 μm from the back gap BG to the back gap BG, the recording density characteristics are improved compared to when the film thickness is 5 μm throughout. In addition, FIG.
Depth Dp is 2μm, gap length g is 0.3μm, flying height FH is 0.17μm, current value Iw is 30m
This is the value when Aop.
【００３１】また、上部磁性体３と下部磁性体２とによ
って構成されるフロットギャップＦＧのトラック幅は、
１０μｍ以下とすることが望ましい。通常は、トラック
幅を１０μｍ以下とするとヘッド先端部が飽和し出力が
劣化するが、本例のヘッドでは、トラック幅Ｔｗを変化
させたときの半値幅ＰＷ５０の値の変化を示す図５より
、トラック幅Ｔｗが３μｍであっても出力が低下しない
ことがわかる。つまり、狭トラック化した場合であって
も、本例のヘッドでは、ヘッド先端部での飽和が回避さ
れるということになる。なお、図５は、デプスＤｐが１
μｍ、ギャップ長ｇが０．３μｍ、フライングハイトＦ
Ｈが０．１７μｍ、電流値Ｉｗが３０ｍＡｏｐのときの
値である。Further, the track width of the flot gap FG constituted by the upper magnetic body 3 and the lower magnetic body 2 is as follows:
It is desirable that the thickness be 10 μm or less. Normally, if the track width is set to 10 μm or less, the head tip becomes saturated and the output deteriorates, but in the head of this example, from FIG. It can be seen that the output does not decrease even when the track width Tw is 3 μm. In other words, even when the track is narrowed, the head of this example avoids saturation at the head tip. In addition, in FIG. 5, the depth Dp is 1
μm, gap length g is 0.3 μm, flying height F
This is the value when H is 0.17 μm and the current value Iw is 30 mAop.
【００３２】上述のように構成されてなる薄膜磁気ヘッ
ドにおいては、前記したように上部磁性体３の磁気ギャ
ップ部３ａに連なる第１の傾斜部３ｂが比較的緩やかな
傾斜とされているため、該傾斜部３ｂと下部磁性体２間
の対向距離が短くなり、この対向部間に漏洩磁束が発生
することで前記磁気ギャップ部３ａでの磁束の飽和が防
止される。したがって、ギャップ長及びトラック幅の狭
小化を図った場合でも記録密度特性が劣化せず、良好な
記録再生を行うことができる。In the thin film magnetic head constructed as described above, since the first inclined portion 3b connected to the magnetic gap portion 3a of the upper magnetic body 3 has a relatively gentle slope as described above, The facing distance between the inclined portion 3b and the lower magnetic body 2 is shortened, and leakage magnetic flux is generated between the facing portions, thereby preventing saturation of the magnetic flux in the magnetic gap portion 3a. Therefore, even when the gap length and track width are narrowed, the recording density characteristics do not deteriorate, and good recording and reproduction can be performed.
【００３３】なお、上述の例では、上部磁性体３のフロ
ント部での形状を分かりやすくするために第１の傾斜部
３ｂと第２の傾斜部３ｃとの連結部を角ばった形として
いるが、例えば図６に示すように、これら第１の傾斜部
３ｂと第２の傾斜部３ｃの連結部が円弧状となっている
もの、或いは第１の傾斜部３ｂと第２の傾斜部３ｃが多
少湾曲しているものも本発明の思想の範囲内に含まれる
。In the above example, in order to make it easier to understand the shape of the front part of the upper magnetic body 3, the connecting part between the first inclined part 3b and the second inclined part 3c is made into an angular shape. For example, as shown in FIG. 6, the connecting portion between the first inclined portion 3b and the second inclined portion 3c is arcuate, or the first inclined portion 3b and the second inclined portion 3c are connected in a circular arc shape. It is also within the scope of the present invention that it is somewhat curved.
【００３４】ところで、上部磁性体３のフロント部での
形状を上述のような形状とすることにより、磁気ギャッ
プ部３ａでの磁束の飽和を防止することができるのは、
次のような考察に基づく。前記図３に示す薄膜磁気ヘッ
ドの形状と、図７に示す上部磁性体９と下部磁性体１０
との対向距離が大きい従来の薄膜磁気ヘッドの形状を基
に記録密度を計算により求めた。計算に用いたパラメー
タを表１と表２に示す。By the way, saturation of the magnetic flux at the magnetic gap portion 3a can be prevented by forming the front portion of the upper magnetic body 3 into the above-described shape.
Based on the following considerations. The shape of the thin film magnetic head shown in FIG. 3 and the upper magnetic body 9 and lower magnetic body 10 shown in FIG.
The recording density was calculated based on the shape of a conventional thin film magnetic head, which has a large facing distance. Tables 1 and 2 show the parameters used in the calculations.
【００３５】[0035]
【表１】[Table 1]
【００３６】[0036]
【表２】[Table 2]
【００３７】そして、上述のパラメータを基に記録密度
特性を有限要素法を用いて計算した。先ず、ヘッドの磁
界分布の計算を行った。その結果を図８及び図９に示す
。なお、図８は本実施例の薄膜磁気ヘッドの磁界分布を
示し、図９は従来の薄膜磁気ヘッドの磁界分布を示す。Then, recording density characteristics were calculated using the finite element method based on the above parameters. First, we calculated the magnetic field distribution of the head. The results are shown in FIGS. 8 and 9. Note that FIG. 8 shows the magnetic field distribution of the thin film magnetic head of this embodiment, and FIG. 9 shows the magnetic field distribution of the conventional thin film magnetic head.
【００３８】これら図８及び図９を見ると、従来の薄膜
磁気ヘッドでは、記録電流を大きくしていくとヘッドの
発生する磁界がかなり広がってくるのがわかるが、本実
施例の薄膜磁気ヘッドでは、記録電流を大きくしてもほ
とんど磁界の広がりが見られない。Looking at FIGS. 8 and 9, it can be seen that in the conventional thin-film magnetic head, as the recording current increases, the magnetic field generated by the head expands considerably, but in the thin-film magnetic head of this embodiment, In this case, even if the recording current is increased, the magnetic field hardly spreads.
【００３９】次に、実際に図３に示す本実施例の薄膜磁
気ヘッドと従来の薄膜磁気ヘッドを作製し、これらのＤ
５０の値を測定した。その結果を図１０に示す。なお、
図１０中線ｃは本実施例の薄膜磁気ヘッドのＤ５０の値
を示し、線ｄは従来の薄膜磁気ヘッドのＤ５０の値を示
す。Next, the thin film magnetic head of this embodiment shown in FIG. 3 and the conventional thin film magnetic head were actually manufactured, and these D
A value of 50 was measured. The results are shown in FIG. In addition,
Line c in FIG. 10 indicates the D50 value of the thin film magnetic head of this embodiment, and line d indicates the D50 value of the conventional thin film magnetic head.
【００４０】この結果からわかるように、従来の薄膜磁
気ヘッドのＤ５０が約３０ｋＦＣＩであるのに対し、本
実施例の薄膜磁気ヘッドでは、Ｄ５０が約５０ｋＦＣＩ
とかなり大きな値であった。したがって、本実施例の薄
膜磁気ヘッドによれば、記録密度の向上及び短波長記録
化が望めることがわかる。As can be seen from this result, while the D50 of the conventional thin film magnetic head is approximately 30 kFCI, the D50 of the thin film magnetic head of this embodiment is approximately 50 kFCI.
It was a fairly large value. Therefore, it can be seen that with the thin film magnetic head of this example, an improvement in recording density and short wavelength recording can be expected.
【００４１】次に、図１に示す薄膜磁気ヘッドを作製す
る方法について図面を参照しながら説明する。先ず、図
１１に示すように、セラミックス等からなる基板１の一
主面上に磁性薄膜を蒸着あるいはスパッタリング等の真
空薄膜形成技術により被着した後、所定のパターン形状
に下部磁性体２を形成する。次いで、上記下部磁性体２
のバック部に接続して導体コイルを形成するための土台
となるコイル形成用補助層６を形成する。なお、本実施
例では、上記コイル形成用補助層６は、上記下部磁性体
２の膜厚より若干厚くなるように形成した。Next, a method for manufacturing the thin film magnetic head shown in FIG. 1 will be explained with reference to the drawings. First, as shown in FIG. 11, a magnetic thin film is deposited on one main surface of a substrate 1 made of ceramics or the like by a vacuum thin film forming technique such as vapor deposition or sputtering, and then a lower magnetic body 2 is formed in a predetermined pattern shape. do. Next, the lower magnetic body 2
A coil-forming auxiliary layer 6 is formed to connect to the back portion of the conductive coil and serve as a base for forming a conductor coil. In this example, the coil forming auxiliary layer 6 was formed to be slightly thicker than the lower magnetic body 2.
【００４２】次に、これら下部磁性体２及びコイル形成
用補助層６上に上部磁性体３のフロント部での形状を規
制するための第１の絶縁層４ａを形成する。上記第１の
絶縁層４ａは、例えばレジスト等により形成し、バック
ギャップＢＧとなる位置を除いて前記下部磁性体２及び
コイル形成用補助層６を覆うようにして形成する。なお
、このときの絶縁層４ａの厚みや、該絶縁層４ａの形成
時の加熱温度等は、フロント部での上部磁性体２の形状
が前述した条件で形成されるように設定する。Next, a first insulating layer 4a is formed on the lower magnetic body 2 and the coil forming auxiliary layer 6 for regulating the shape of the upper magnetic body 3 at the front portion. The first insulating layer 4a is formed of, for example, a resist or the like, and is formed to cover the lower magnetic body 2 and the coil forming auxiliary layer 6 except for the position where the back gap BG is formed. Note that the thickness of the insulating layer 4a at this time, the heating temperature during the formation of the insulating layer 4a, etc. are set so that the shape of the upper magnetic body 2 at the front portion is formed under the conditions described above.
【００４３】次いで、図１２に示すように、上記第１の
絶縁層４ａのフロント部での形状を次のように形成する
。すなわち、フロント部での絶縁層４ａの形状をフロン
トギャップＦＧのデプスＤｐ零位置よりその厚みが次第
に厚くなるように、下部磁性体２とのなす角度θ１ を
２゜≦θ１ ≦２５゜として傾斜させる。このときの、
傾斜面の下部磁性体２に対する対向長さＬ１は、上部磁
性体３の該下部磁性体２に対向する長さと同じく３≦Ｌ
１ ≦１０μｍとする。Next, as shown in FIG. 12, the shape of the front portion of the first insulating layer 4a is formed as follows. That is, the shape of the insulating layer 4a at the front part is tilted such that the angle θ1 with the lower magnetic body 2 is 2°≦θ1≦25° so that the thickness thereof gradually becomes thicker than the zero position of the depth Dp of the front gap FG. . At this time,
The length L1 of the inclined surface facing the lower magnetic body 2 is 3≦L, which is the same as the length of the upper magnetic body 3 facing the lower magnetic body 2.
1 ≦10μm.
【００４４】次に、上記絶縁層４ａ上に導体コイルを形
成するが、この工程で先の絶縁層４ａの傾斜面の形状を
維持するために、図１３に示すように、該傾斜面を覆っ
てレジスト層１１を形成する。次いで、上記絶縁層４ａ
上に下地膜（図示は省略する。）をスパッタリングした
後、銅やアルミニウム等を材料とする導体薄膜をメッキ
する。そして、この導体薄膜をパターニングしてスパイ
ラル状の第１層目の導体コイル５ａを形成し、前記下地
膜を除去して洗浄を行う。Next, a conductor coil is formed on the insulating layer 4a. In this step, in order to maintain the shape of the sloped surface of the insulating layer 4a, as shown in FIG. A resist layer 11 is then formed. Next, the insulating layer 4a
After sputtering a base film (not shown) on top, a conductive thin film made of copper, aluminum, or the like is plated. Then, this conductor thin film is patterned to form a spiral-shaped first layer conductor coil 5a, and the base film is removed and cleaned.
【００４５】次に、図１４に示すように、上記導体コイ
ル５ａを埋める形で前記第１の絶縁層４ａ上に第２の絶
縁層４ｂを形成する。同様にして上記第２の絶縁層４ｂ
上に第２層目の導体コイル５ｂをスパイラル状に形成し
、この上に該導体コイル５ｂを埋めるようにして第３の
絶縁層４ｃを形成する。前記第２の絶縁層４ｂ及び第３
の絶縁層４ｂを形成する際には、フロント部の形状を次
のように形成する。Next, as shown in FIG. 14, a second insulating layer 4b is formed on the first insulating layer 4a to fill the conductor coil 5a. Similarly, the second insulating layer 4b
A second layer of conductor coil 5b is formed thereon in a spiral shape, and a third insulating layer 4c is formed thereon so as to bury the conductor coil 5b. The second insulating layer 4b and the third
When forming the insulating layer 4b, the shape of the front part is formed as follows.
【００４６】すなわち、図１４に示すように、前記第２
の絶縁層４ｂ及び第３の絶縁層４ｂのフロント部での形
状を先の第１の絶縁層４ａの傾斜面の終端縁より、これ
ら絶縁層４ｂ，４ｃの厚みが次第に厚くなるように、下
部磁性体２とのなす角度θ２ を３０゜≦θ２ ≦８０
゜として傾斜させる。このときの傾斜面の下部磁性体２
に対する対向長さＬ２ は、上部磁性体３の該下部磁性
体２に対向する長さと同じく３≦Ｌ２ ≦３０μｍとす
る。That is, as shown in FIG.
The shape of the front part of the insulating layer 4b and the third insulating layer 4b is changed so that the thickness of the insulating layer 4b, 4c becomes gradually thicker than the terminal edge of the slope of the first insulating layer 4a. The angle θ2 with the magnetic body 2 is 30°≦θ2≦80
Tilt it as ゜. At this time, the lower magnetic body 2 on the inclined surface
The length L2 of the upper magnetic body 3 facing the lower magnetic body 2 is set to 3≦L2≦30 μm.
【００４７】次に、前記第１の絶縁層４ａの傾斜面、第
２の絶縁層４ｂ、第３の絶縁層４ｃを含めフロントギャ
ップＦＧ及びバックギャップＢＧに相当する位置にＳｉ
Ｏ２ 等よりなるギャップ膜７を形成する。次いで、フ
ロントギャップＦＧからバックギャップＢＧに相当する
部分に亘って前記ギャップ膜７を覆う如く例えばＦｅ−
Ａｌ−Ｓｉ系合金よりなる薄膜を被着した後、エッチン
グを施して上部磁性体３を形成する。Next, Si is deposited at positions corresponding to the front gap FG and back gap BG, including the inclined surface of the first insulating layer 4a, the second insulating layer 4b, and the third insulating layer 4c.
A gap film 7 made of O2 or the like is formed. Next, a film of, for example, Fe--
After depositing a thin film made of an Al--Si alloy, etching is performed to form the upper magnetic body 3.
【００４８】この結果、上部磁性体３は、下部磁性体２
と平行な磁気ギャップ部３ａに連なって前記第１の絶縁
層４ａの傾斜面に沿ってバック側に向かって緩やかに傾
斜されるとともに、さらにこの傾斜部３ｂに連続して前
記第２の絶縁層４ｂ及び第３の絶縁層４ｃの傾斜面に沿
って急峻な角度で傾斜される。すなわち、上部磁性体３
は、下部磁性体２と平行な磁気ギャップ部３ａに連なる
比較的傾斜角度の緩い第１の傾斜部３ｂと、この第１の
傾斜部３ｂに連なる傾斜角度の急峻な第２の傾斜部３ｃ
を有した形状となる。最後に、磁気記録媒体対接面８を
研磨してフロントギャップＦＧのデプス出しを行い、前
述した図１に示す薄膜磁気ヘッドを完成する。As a result, the upper magnetic body 3 is lower than the lower magnetic body 2.
The first insulating layer 4a is gently inclined toward the back side along the inclined surface of the first insulating layer 4a, and the second insulating layer is connected to the magnetic gap part 3a parallel to the magnetic gap part 3a. 4b and the third insulating layer 4c at a steep angle. That is, the upper magnetic body 3
A first inclined part 3b with a relatively gentle inclination angle is connected to the magnetic gap part 3a parallel to the lower magnetic body 2, and a second inclined part 3c with a steep inclination angle is connected to the first inclined part 3b.
It has a shape with . Finally, the magnetic recording medium contacting surface 8 is polished to increase the depth of the front gap FG, thereby completing the thin film magnetic head shown in FIG. 1 described above.
【００４９】以上、本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの
一実施例について説明したが、本発明は前述の実施例に
限定されることなく、本発明の思想を逸脱することのな
い範囲で種々の変更が可能である。Although one embodiment of the thin film magnetic head to which the present invention is applied has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention. Changes are possible.
【００５０】例えば、前述の薄膜磁気ヘッドの磁気ギャ
ップ部３ａの飽和をより確実に防止するために、上部磁
性体３とギャップ膜７間に飽和磁束密度Ｂｓの高い材料
を介在させるようにしてもよい。For example, in order to more reliably prevent saturation of the magnetic gap portion 3a of the thin film magnetic head described above, a material having a high saturation magnetic flux density Bs may be interposed between the upper magnetic body 3 and the gap film 7. good.
【００５１】すなわち、図１５に示すように、上部磁性
体３とギャップ膜７間にＦｅ−Ａｌ−ＳｉやＦｅ−Ｒｕ
−Ｇａ−Ｓｉ等の高飽和磁束密度Ｂｓを有する磁性膜１
２を形成する。この磁性膜１２は、この上に積層される
上部磁性体３が飽和しない程度の膜厚とする。上記高飽
和磁束密度Ｂｓを有する磁性膜１２をフロントギャップ
ＦＧ近傍部に設ければ、上部磁性体３が飽和しそうにな
っても磁束が上記磁性膜１２に流れるため、ヘッドの飽
和を防止することができる。That is, as shown in FIG. 15, Fe-Al-Si or Fe-Ru
-Magnetic film 1 having high saturation magnetic flux density Bs such as Ga-Si
form 2. The magnetic film 12 has a thickness that does not saturate the upper magnetic body 3 laminated thereon. If the magnetic film 12 having the above-mentioned high saturation magnetic flux density Bs is provided in the vicinity of the front gap FG, even if the upper magnetic body 3 is about to be saturated, the magnetic flux will flow to the above-mentioned magnetic film 12, thereby preventing head saturation. Can be done.
【００５２】なお、上記磁性膜１２は、ギャップ膜７の
形成後、上部磁性体３の下地としてメッキ等により成膜
した後、不要な部分をエッチングして形成する。プロセ
スとしては、成膜時間と、エッチング時間に多少の時間
を要するが、これまでの製造工程を変える必要なく製造
できるため、工程の煩雑化を招かない。The above magnetic film 12 is formed by forming the gap film 7, forming a film as a base for the upper magnetic body 3 by plating or the like, and then etching unnecessary portions. As for the process, it takes some time for film formation and etching, but since it can be manufactured without changing the existing manufacturing process, the process does not become complicated.
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の薄膜磁気ヘッドにおいては、上部磁性体を磁気ギャ
ップ部近傍で下部磁性体に対して比較的緩やかに傾斜さ
せているので、この傾斜部と下部磁性体間に発生する漏
洩磁束によって前記磁気ギャップ部での飽和を防止する
ことができる。Effects of the Invention As is clear from the above description, in the thin film magnetic head of the present invention, the upper magnetic body is inclined relatively gently with respect to the lower magnetic body in the vicinity of the magnetic gap. Saturation in the magnetic gap portion can be prevented by leakage magnetic flux generated between the inclined portion and the lower magnetic body.
【００５４】また、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、上部
磁性体の磁気ギャップ部近傍の傾斜角度がデプスを実質
的に深くするような角度ではないため、オーバライト特
性の低下を招くようなことはない。In addition, in the thin film magnetic head of the present invention, since the inclination angle near the magnetic gap of the upper magnetic body is not an angle that substantially increases the depth, there is no possibility of deterioration of overwrite characteristics. do not have.
【００５５】したがって、本発明の薄膜磁気ヘッドでは
、ギャップ長及びトラック幅の狭小化を図った場合でも
記録密度特性の劣化を招くことなく、磁気記録媒体に対
して良好に記録再生することができる。Therefore, with the thin film magnetic head of the present invention, even when the gap length and track width are narrowed, recording and reproduction can be performed favorably on the magnetic recording medium without causing deterioration of the recording density characteristics. .
【図１】本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの一例を示す
断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an example of a thin film magnetic head to which the present invention is applied.
【図２】ギャップ長を変化させたときの半値幅の変化の
状態を示す特性図である。FIG. 2 is a characteristic diagram showing how the half-width changes when the gap length is changed.
【図３】磁性体を拡大して示す要部拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view of a main part showing a magnetic material.
【図４】上部磁性体のフロント部での厚みの長さを変化
させたときの半値幅の変化の状態を示す特性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram showing how the half-width changes when the thickness of the front portion of the upper magnetic body is changed.
【図５】トラック幅を変化させたときの半値幅の変化の
状態を示す特性図である。FIG. 5 is a characteristic diagram showing how the half-width changes when the track width is changed.
【図６】上部磁性体のフロント部での他の例を示す要部
拡大断面図である。FIG. 6 is an enlarged sectional view of main parts showing another example of the front part of the upper magnetic body.
【図７】断面形状を基に記録密度を計算するのに用いた
従来の薄膜磁気ヘッドの磁性体の要部拡大断面図である
。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a main part of a magnetic body of a conventional thin-film magnetic head used to calculate recording density based on a cross-sectional shape.
【図８】図１の薄膜磁気ヘッドの磁界分布を示す特性図
である。8 is a characteristic diagram showing the magnetic field distribution of the thin film magnetic head of FIG. 1. FIG.
【図９】従来の薄膜磁気ヘッドの磁界分布を示す特性図
である。FIG. 9 is a characteristic diagram showing the magnetic field distribution of a conventional thin film magnetic head.
【図１０】Ｄ５０の値を示す特性図である。FIG. 10 is a characteristic diagram showing the value of D50.
【図１１】図１の薄膜磁気ヘッドの作製工程のうち下部
磁性体及びコイル形成用補助層形成工程を示す拡大断面
図である。11 is an enlarged cross-sectional view showing a step of forming a lower magnetic body and a coil-forming auxiliary layer in the manufacturing process of the thin-film magnetic head of FIG. 1; FIG.
【図１２】図１の薄膜磁気ヘッドの作製工程のうち絶縁
層形成工程を示す拡大断面図である。12 is an enlarged cross-sectional view showing an insulating layer forming step in the manufacturing process of the thin film magnetic head of FIG. 1. FIG.
【図１３】図１の薄膜磁気ヘッドの作製工程のうち第１
層目の導体コイル形成工程を示す拡大断面図である。FIG. 13: The first step in the manufacturing process of the thin film magnetic head shown in FIG.
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a step of forming a layered conductor coil.
【図１４】図１の薄膜磁気ヘッドの作製工程のうち第２
層目の導体コイル及び第２の絶縁層並びに第３の絶縁層
形成工程を示す拡大断面図である。14] The second step of the manufacturing process of the thin film magnetic head in FIG. 1.
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a step of forming a conductor coil layer, a second insulating layer, and a third insulating layer.
【図１５】本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの他の例を
示す要部拡大断面図である。FIG. 15 is an enlarged sectional view of a main part of another example of a thin film magnetic head to which the present invention is applied.
１・・・基板 ２・・・下部磁性体 ３・・・上部磁性体 ３ａ・・・磁気ギャップ部 ３ｂ・・・第１の傾斜部 ３ｃ・・・第２の傾斜部 ４・・・絶縁層 ５ａ，５ｂ・・・導体コイル ７・・・ギャップ膜 1... Board 2...Lower magnetic body 3... Upper magnetic body 3a...Magnetic gap part 3b...first inclined part 3c...Second slope part 4...Insulating layer 5a, 5b...conductor coil 7...Gap film
Claims (3)
され、これら下部磁性体と上部磁性体とが磁気記録媒体
摺動面側において微小間隔をもって平行に対向配置され
磁気ギャップが構成されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて
、前記上部磁性体は、下部磁性体と平行な磁気ギャップ
部に連なる第１の傾斜部と第２の傾斜部を有し、第１の
傾斜部の上記磁気ギャップ部と対向する下部磁性体に対
する傾斜角度θ１ が２゜≦θ１ ≦２５゜とされると
ともに、第２の傾斜部の上記磁気ギャップ部と対向する
下部磁性体に対する傾斜角度θ２ が３０゜≦θ２ ≦
８０゜とされたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。Claim 1: A lower magnetic material and an upper magnetic material are laminated, and the lower magnetic material and the upper magnetic material are arranged facing each other in parallel with a minute interval on the sliding surface side of a magnetic recording medium to form a magnetic gap. In the thin film magnetic head, the upper magnetic body has a first slope part and a second slope part connected to a magnetic gap part parallel to the lower magnetic body, and the first slope part faces the magnetic gap part. The inclination angle θ1 with respect to the lower magnetic body is 2°≦θ1≦25°, and the inclination angle θ2 of the second inclined portion with respect to the lower magnetic body facing the magnetic gap portion is 30°≦θ2≦.
A thin film magnetic head characterized by an angle of 80°.
ことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。2. The thin film magnetic head according to claim 1, wherein the thickness of the upper magnetic body is 3 μm or less.
を特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。3. The thin film magnetic head according to claim 1, wherein the track width is 10 μm or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11784291A JPH04251414A (en) | 1990-05-31 | 1991-04-23 | Thin-film magnetic head |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13964090 | 1990-05-31 | ||
| JP2-139640 | 1990-05-31 | ||
| JP11784291A JPH04251414A (en) | 1990-05-31 | 1991-04-23 | Thin-film magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04251414A true JPH04251414A (en) | 1992-09-07 |
Family
ID=26455887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11784291A Withdrawn JPH04251414A (en) | 1990-05-31 | 1991-04-23 | Thin-film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04251414A (en) |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP11784291A patent/JPH04251414A/en not_active Withdrawn
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