JPH04241205A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH04241205A JPH04241205A JP232491A JP232491A JPH04241205A JP H04241205 A JPH04241205 A JP H04241205A JP 232491 A JP232491 A JP 232491A JP 232491 A JP232491 A JP 232491A JP H04241205 A JPH04241205 A JP H04241205A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- thin film
- substrate
- deterioration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims abstract description 31
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 27
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 9
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 10
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関するものである。
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気記録技術の高密度化に伴って、例え
ばメタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体が主流にな
ってきた現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。
ばメタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体が主流にな
ってきた現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。
【0003】このような状況の下、磁気ヘッドには、図
9に示すように、ヘッドコアとして高い飽和磁束密度を
有する軟磁性金属からなる軟磁性薄膜22と、この軟磁
性薄膜22を支持する基板21とを有したヘッドチップ
25が用いられている。
9に示すように、ヘッドコアとして高い飽和磁束密度を
有する軟磁性金属からなる軟磁性薄膜22と、この軟磁
性薄膜22を支持する基板21とを有したヘッドチップ
25が用いられている。
【0004】このヘッドチップ25を用いた磁気ヘッド
は、軟磁性薄膜22がギャップ23に対して斜めに形成
されているため、磁気ヘッドをテープに摺動させた際、
偏摩耗に強い。また、軟磁性薄膜22を支持する基板2
1にフェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合、基板
21と軟磁性薄膜22との境界がギャップ23と平行に
なっていると、上記境界の両側で磁気特性が不連続にな
り、これが擬似ギャップとして作用するため、磁気ヘッ
ドの性能に悪影響を与えるが、境界が上記のように斜め
になっていると、この影響も回避できる。
は、軟磁性薄膜22がギャップ23に対して斜めに形成
されているため、磁気ヘッドをテープに摺動させた際、
偏摩耗に強い。また、軟磁性薄膜22を支持する基板2
1にフェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合、基板
21と軟磁性薄膜22との境界がギャップ23と平行に
なっていると、上記境界の両側で磁気特性が不連続にな
り、これが擬似ギャップとして作用するため、磁気ヘッ
ドの性能に悪影響を与えるが、境界が上記のように斜め
になっていると、この影響も回避できる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
構成では、基板21上に軟磁性薄膜22を形成する際、
基板21と軟磁性薄膜22との反応により軟磁性薄膜2
2が浸食されて、磁気特性が劣化するという問題点を有
している。
構成では、基板21上に軟磁性薄膜22を形成する際、
基板21と軟磁性薄膜22との反応により軟磁性薄膜2
2が浸食されて、磁気特性が劣化するという問題点を有
している。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
上記の課題を解決するために、基板上に成膜された軟磁
性薄膜によりヘッドコアを形成した磁気ヘッドにおいて
、上記基板と上記軟磁性薄膜との間に基板との反応によ
る軟磁性薄膜の劣化を防止するように劣化防止膜、具体
的には例えば金属Cr膜が設けられていることを特徴と
している。
上記の課題を解決するために、基板上に成膜された軟磁
性薄膜によりヘッドコアを形成した磁気ヘッドにおいて
、上記基板と上記軟磁性薄膜との間に基板との反応によ
る軟磁性薄膜の劣化を防止するように劣化防止膜、具体
的には例えば金属Cr膜が設けられていることを特徴と
している。
【0007】
【作用】上記の構成によれば、基板上に成膜された軟磁
性薄膜によりヘッドコアを形成した磁気ヘッドにおいて
、上記基板と上記軟磁性薄膜との間に基板との反応によ
る軟磁性薄膜の劣化を防止するように劣化防止膜を設け
たので、軟磁性薄膜の成膜時等において、基板との反応
による軟磁性薄膜の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性
薄膜の磁気特性の劣化が防止される。これにより、性能
の高い磁気ヘッドが得られる。
性薄膜によりヘッドコアを形成した磁気ヘッドにおいて
、上記基板と上記軟磁性薄膜との間に基板との反応によ
る軟磁性薄膜の劣化を防止するように劣化防止膜を設け
たので、軟磁性薄膜の成膜時等において、基板との反応
による軟磁性薄膜の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性
薄膜の磁気特性の劣化が防止される。これにより、性能
の高い磁気ヘッドが得られる。
【0008】
【実施例】本発明の一実施例について図1ないし図8に
基づいて説明すれば、以下の通りである。
基づいて説明すれば、以下の通りである。
【0009】本実施例の磁気ヘッドでは、図1の斜視図
に示すように、ヘッドチップ10が用いられている。
に示すように、ヘッドチップ10が用いられている。
【0010】ヘッドチップ10は、一対の基板1・1と
、基板1上にギャップ13に対して斜めに成膜された劣
化防止膜12と、劣化防止膜12上に成膜された高飽和
磁束密度を有する軟磁性薄膜2とを有しており、前記一
対の基板1・1上の軟磁性薄膜2・2が、ギャップ13
を有するヘッドコアを形成するように、ギャップ面8に
て対向して接合され、低融点ガラス3により補強された
構成になっている。そして、ギャップ13と磁気テープ
等の磁気記録媒体とが滑らかに接するように、摺動面1
5は所定の面粗度になるように研磨仕上げが行われてい
る。
、基板1上にギャップ13に対して斜めに成膜された劣
化防止膜12と、劣化防止膜12上に成膜された高飽和
磁束密度を有する軟磁性薄膜2とを有しており、前記一
対の基板1・1上の軟磁性薄膜2・2が、ギャップ13
を有するヘッドコアを形成するように、ギャップ面8に
て対向して接合され、低融点ガラス3により補強された
構成になっている。そして、ギャップ13と磁気テープ
等の磁気記録媒体とが滑らかに接するように、摺動面1
5は所定の面粗度になるように研磨仕上げが行われてい
る。
【0011】また、ヘッドチップ10には、上記軟磁性
薄膜2・2からなるヘッドコアにヘッドコイル(図示さ
れていない)を巻回するために、図のように、内部巻線
溝6・6からなる内部巻線穴16と、外部巻線溝7・7
とが形成されている。
薄膜2・2からなるヘッドコアにヘッドコイル(図示さ
れていない)を巻回するために、図のように、内部巻線
溝6・6からなる内部巻線穴16と、外部巻線溝7・7
とが形成されている。
【0012】上記劣化防止膜12には、主に高温下にお
ける基板1と軟磁性薄膜2との反応による軟磁性薄膜2
の浸食等を防止して、軟磁性薄膜2の磁気特性の劣化を
防止するように、例えば金属Cr膜が用いられるが、基
板1及び軟磁性薄膜2に対して不活性であり、高温下に
おいて安定な非磁性材料であればいかなるものでもかま
わない。
ける基板1と軟磁性薄膜2との反応による軟磁性薄膜2
の浸食等を防止して、軟磁性薄膜2の磁気特性の劣化を
防止するように、例えば金属Cr膜が用いられるが、基
板1及び軟磁性薄膜2に対して不活性であり、高温下に
おいて安定な非磁性材料であればいかなるものでもかま
わない。
【0013】上記軟磁性薄膜2には、例えばFe−Al
−Si系合金等の高飽和磁束密度を有する軟磁性材料が
使用される。また、基板1には、感光性結晶化ガラス、
結晶化ガラス、あるいはセラミックス等の非磁性材料あ
るいは軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料が使用され
る。
−Si系合金等の高飽和磁束密度を有する軟磁性材料が
使用される。また、基板1には、感光性結晶化ガラス、
結晶化ガラス、あるいはセラミックス等の非磁性材料あ
るいは軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料が使用され
る。
【0014】上記の構成において、軟磁性薄膜2・2が
ギャップ13に対して斜めに形成されているため、摺動
面15上に磁気テープ等の磁気記録媒体を摺動させた際
、ギャップ13が偏摩耗を受けにくくため、耐久性に優
れている。
ギャップ13に対して斜めに形成されているため、摺動
面15上に磁気テープ等の磁気記録媒体を摺動させた際
、ギャップ13が偏摩耗を受けにくくため、耐久性に優
れている。
【0015】また、軟磁性薄膜2を支持する基板1にフ
ェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合でも、基板1
と軟磁性薄膜2との境界がギャップ13と平行でないた
め、上記境界の両側で磁気特性が不連続になりにくく、
磁気ヘッドの性能への悪影響が少ない。
ェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合でも、基板1
と軟磁性薄膜2との境界がギャップ13と平行でないた
め、上記境界の両側で磁気特性が不連続になりにくく、
磁気ヘッドの性能への悪影響が少ない。
【0016】しかも、本実施例では、基板1と軟磁性薄
膜2との間に基板1との反応による軟磁性薄膜2の劣化
を防止するように劣化防止膜12を設けたので、軟磁性
薄膜2の成膜時や軟磁性薄膜2・2のギャップ面8での
接合時及び低融点ガラス3による補強時等において、主
に高温下での基板1と軟磁性薄膜2との反応による軟磁
性薄膜2の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性薄膜2の
磁気特性の劣化が防止される。これにより、性能の高い
磁気ヘッドを得ることができる。
膜2との間に基板1との反応による軟磁性薄膜2の劣化
を防止するように劣化防止膜12を設けたので、軟磁性
薄膜2の成膜時や軟磁性薄膜2・2のギャップ面8での
接合時及び低融点ガラス3による補強時等において、主
に高温下での基板1と軟磁性薄膜2との反応による軟磁
性薄膜2の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性薄膜2の
磁気特性の劣化が防止される。これにより、性能の高い
磁気ヘッドを得ることができる。
【0017】上記磁気ヘッドの一製造方法を、図2ない
し図8に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
し図8に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【0018】まず、図2に示すように、基板1の片面に
ほぼV字状の溝5を所定のピッチ寸法Aにて連続して形
成する。
ほぼV字状の溝5を所定のピッチ寸法Aにて連続して形
成する。
【0019】そして、図3に示すように、上記V字状の
溝5の一方の壁面上に、スパッタ法等により、劣化防止
膜12として、例えば金属Cr膜を500nm程度の厚
さに形成する。
溝5の一方の壁面上に、スパッタ法等により、劣化防止
膜12として、例えば金属Cr膜を500nm程度の厚
さに形成する。
【0020】続いて、図4に示すように、劣化防止膜1
2を形成した溝壁面上に、所定の膜厚(トラック幅に相
当する寸法)の軟磁性薄膜2、例えばFe−Al−Si
系合金を形成する。
2を形成した溝壁面上に、所定の膜厚(トラック幅に相
当する寸法)の軟磁性薄膜2、例えばFe−Al−Si
系合金を形成する。
【0021】次に、図5に示すように、溝5に低融点ガ
ラス3を充填する。そして、充填した低融点ガラス3を
、図6に示すように、低融点ガラス3の表面と基板1の
頂点とが一致するように低融点ガラス3を平面状に研磨
して、ギャップ面8を形成する。
ラス3を充填する。そして、充填した低融点ガラス3を
、図6に示すように、低融点ガラス3の表面と基板1の
頂点とが一致するように低融点ガラス3を平面状に研磨
して、ギャップ面8を形成する。
【0022】次いで、図7に示すように、基板1の両側
面に内部巻線溝6と外部巻線溝7とを形成し、さらに、
所定のギャップ13(図1)長が得られるように、ギャ
ップ面8上にSiO2 等の非磁性ギャップ材料からな
るギャップ充填層(図示されていない)を真空蒸着法あ
るいはスパッタ法等により形成して、コアブロック11
を得る。
面に内部巻線溝6と外部巻線溝7とを形成し、さらに、
所定のギャップ13(図1)長が得られるように、ギャ
ップ面8上にSiO2 等の非磁性ギャップ材料からな
るギャップ充填層(図示されていない)を真空蒸着法あ
るいはスパッタ法等により形成して、コアブロック11
を得る。
【0023】この後、図8に示すように、上記の一対の
コアブロック11・11のギャップ面8・8を対向させ
て軟磁性薄膜2・2の位置を合わせ、加圧固定を行って
接合し、磁気ヘッドブロック9を形成する。
コアブロック11・11のギャップ面8・8を対向させ
て軟磁性薄膜2・2の位置を合わせ、加圧固定を行って
接合し、磁気ヘッドブロック9を形成する。
【0024】次いで、上記の磁気ヘッドブロック9を同
図に示されている二点鎖線に沿って、所定のピッチ寸法
Bで切断して、図1のヘッドチップ10を得る。
図に示されている二点鎖線に沿って、所定のピッチ寸法
Bで切断して、図1のヘッドチップ10を得る。
【0025】そして、このヘッドチップ10をベース板
(図示されていない)に接着固定した後、内部巻線溝6
と外部巻線溝7とを利用して巻線を行ってヘッドコイル
を形成し、磁気テープ等の磁気記録媒体との摺動面15
をテープ研磨することにより、本実施例の磁気ヘッドが
製造される。
(図示されていない)に接着固定した後、内部巻線溝6
と外部巻線溝7とを利用して巻線を行ってヘッドコイル
を形成し、磁気テープ等の磁気記録媒体との摺動面15
をテープ研磨することにより、本実施例の磁気ヘッドが
製造される。
【0026】以上の磁気ヘッドの製造時、基板1と軟磁
性薄膜2との間に基板1との反応による軟磁性薄膜2の
劣化を防止するように劣化防止膜12を設けたので、主
に高温下での基板1と軟磁性薄膜2との反応による軟磁
性薄膜2の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性薄膜2の
磁気特性の劣化が防止される。これにより、性能の高い
磁気ヘッドを得ることができ、磁気ヘッドの製造歩留り
が向上する。
性薄膜2との間に基板1との反応による軟磁性薄膜2の
劣化を防止するように劣化防止膜12を設けたので、主
に高温下での基板1と軟磁性薄膜2との反応による軟磁
性薄膜2の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性薄膜2の
磁気特性の劣化が防止される。これにより、性能の高い
磁気ヘッドを得ることができ、磁気ヘッドの製造歩留り
が向上する。
【0027】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、基板と軟磁性薄
膜との間に基板との反応による軟磁性薄膜の劣化を防止
するように劣化防止膜が設けられているので、軟磁性薄
膜の成膜時等において、基板との反応による軟磁性薄膜
の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性薄膜の磁気特性の
劣化が防止される。これにより、性能の高い磁気ヘッド
を得ることができるという効果を奏する。
膜との間に基板との反応による軟磁性薄膜の劣化を防止
するように劣化防止膜が設けられているので、軟磁性薄
膜の成膜時等において、基板との反応による軟磁性薄膜
の浸食等が起こりにくくなり、軟磁性薄膜の磁気特性の
劣化が防止される。これにより、性能の高い磁気ヘッド
を得ることができるという効果を奏する。
【図1】本発明の磁気ヘッドに用いられるヘッドチップ
の構成を示す斜視図である。
の構成を示す斜視図である。
【図2】図1の磁気ヘッドの製造工程を示すものであり
、V字状の溝が形成されている基板の斜視図である。
、V字状の溝が形成されている基板の斜視図である。
【図3】図2のV字状の溝の一方の壁面上に劣化防止膜
を形成する工程を示す平面図である。
を形成する工程を示す平面図である。
【図4】図3の劣化防止膜上に軟磁性薄膜を形成する工
程を示す平面図である。
程を示す平面図である。
【図5】図4の軟磁性薄膜上に低融点ガラスを充填する
工程を示す平面図である。
工程を示す平面図である。
【図6】図5の低融点ガラスを平面状に研磨して、ギャ
ップ面8を形成する工程を示す平面図である。
ップ面8を形成する工程を示す平面図である。
【図7】図6の基板の両側面に内部巻線溝と外部巻線溝
とを形成してコアブロックを作製する工程を示す斜視図
である。
とを形成してコアブロックを作製する工程を示す斜視図
である。
【図8】図7のコアブロックを一対合わせて磁気ヘッド
ブロックを形成する工程を示す斜視図である。
ブロックを形成する工程を示す斜視図である。
【図9】従来の磁気ヘッドに用いられるヘッドチップの
構成を示す斜視図である。
構成を示す斜視図である。
1 基板
2 軟磁性薄膜
3 低融点ガラス
10 ヘッドチップ
12 劣化防止膜
13 ギャップ
Claims (1)
- 【請求項1】基板上に成膜された軟磁性薄膜によりヘッ
ドコアを形成した磁気ヘッドにおいて、上記基板と上記
軟磁性薄膜との間に基板との反応による軟磁性薄膜の劣
化を防止するように劣化防止膜が設けられていることを
特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP232491A JPH04241205A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP232491A JPH04241205A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04241205A true JPH04241205A (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=11526140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP232491A Pending JPH04241205A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04241205A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5558944A (en) * | 1993-08-10 | 1996-09-24 | Tdk Corporation | Magnetic head and a process for production thereof |
-
1991
- 1991-01-11 JP JP232491A patent/JPH04241205A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5558944A (en) * | 1993-08-10 | 1996-09-24 | Tdk Corporation | Magnetic head and a process for production thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61172203A (ja) | 磁気ヘツド | |
JP2644768B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH04241205A (ja) | 磁気ヘッド | |
JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JP3028109B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
KR100200809B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
JP2810820B2 (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 | |
KR100206058B1 (ko) | 자기헤드 제조방법 | |
JP2977112B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH04248104A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH03292605A (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH04255903A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH05250626A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH0366008A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH05290327A (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
JPH103606A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0528413A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS6390012A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH06124407A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS6348606A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH0248965B2 (ja) | Kinzokunanjiseimakujikihetsudo | |
JPH04241204A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH03102605A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH0421906A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH02132610A (ja) | 磁気ヘッド |