JPH04226463A - Projecting/exposing device - Google Patents
Projecting/exposing deviceInfo
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- JPH04226463A JPH04226463A JP3126006A JP12600691A JPH04226463A JP H04226463 A JPH04226463 A JP H04226463A JP 3126006 A JP3126006 A JP 3126006A JP 12600691 A JP12600691 A JP 12600691A JP H04226463 A JPH04226463 A JP H04226463A
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Classifications
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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-
- G—PHYSICS
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Landscapes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】0001
【産業上の利用分野】この発明は、大面積にわたって微
細パターンを被露光部材に露光する投影露光装置に係り
、特に被露光部材の撓みによる影響を除去してパターン
を高精度で露光することができる横形の投影露光装置に
関する。[Field of Industrial Application] This invention relates to a projection exposure apparatus that exposes a fine pattern onto a member to be exposed over a large area, and in particular, it is capable of exposing a pattern with high precision by eliminating the influence of deflection of the member to be exposed. This invention relates to a horizontal projection exposure apparatus that can be used.
【０００２】0002
【従来の技術】この種の投影露光装置としては、例えば
本出願人が先に提案した実開昭６２−１５２２９３号公
報、実開昭６２−１５８８２４号公報、実開昭６３−１
５５６３７号公報、実開昭６４−３７０４４号公報、実
開昭６４−５４３３５号公報、実開平１−９７２８８号
公報等に記載したものがある。2. Description of the Related Art Projection exposure apparatuses of this type include, for example, Japanese Unexamined Utility Model Publications No. 152293/1982, No. 158824/1982, and No. 158824, all of which were previously proposed by the applicant of the present invention.
There are those described in Japanese Utility Model Application No. 55637, Japanese Utility Model Application Publication No. 64-37044, Japanese Utility Model Application Publication No. 64-54335, and Japanese Utility Model Application Publication No. 1-97288.
【０００３】これらの従来例は、共に被露光部材を水平
方向に配置し、この被露光部材に対して垂直光軸上に投
影レンズ、マスク及び光源をその順に配置した縦形の構
成を有し、ディスプレーのシャドウマスク、液晶表示素
子等の比較的大きな面積を有する被露光部材に対して精
密な露光を行うことができる。しかしながら、上記従来
の投影露光装置にあっては、光軸を垂直方向として被露
光部材を水平方向に載置するようにしているので、被露
光部材の露光面積が広くなるにつれて、被露光部材に撓
みが生じ易くなり、高精度の露光パターンを形成するこ
とが困難となるという未解決の課題があった。Both of these conventional examples have a vertical configuration in which the member to be exposed is arranged horizontally, and the projection lens, mask, and light source are arranged in that order on the optical axis perpendicular to the member to be exposed. Precise exposure can be performed on a member to be exposed having a relatively large area, such as a shadow mask of a display or a liquid crystal display element. However, in the above-mentioned conventional projection exposure apparatus, the optical axis is set vertically and the exposed member is placed horizontally, so as the exposed area of the exposed member becomes wider, There has been an unresolved problem that deflection is likely to occur, making it difficult to form a highly accurate exposure pattern.
【０００４】この未解決の課題を解決するために、従来
特開平１−３１２５４７号公報に記載されているように
、両面に感光膜が塗布された連続金属帯状板（被露光部
材）を垂直方向とした状態で搬送し、この連続金属帯状
板に、垂直方向に対向して配設された一対のネガ乾板を
対向して設けた露光装置本体でシャドウマスクパターン
を密着露光するように構成された露光装置が提案されて
いる。[0004] In order to solve this unresolved problem, as previously described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-312547, a continuous metal strip plate (exposed member) coated with a photoresist film on both sides is vertically The continuous metal strip plate was conveyed in a state in which the continuous metal strip plate was exposed, and a shadow mask pattern was closely exposed on the continuous metal strip plate using an exposure apparatus main body equipped with a pair of negative dry plates arranged facing each other in the vertical direction. Exposure devices have been proposed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の密着露光を行う露光装置にあっては、被露光部材を
垂直方向として搬送することにより、被露光部材の自重
によって撓みを防止することができるが、密着両面露光
方式を採用しているため、ネガ乾板及び被露光部材とを
略同じ大きさに形成する必要があり、ステップアンドリ
ピートによって大面積の被露光部材に複数個のパターン
を高精度で露光することができないと共に、大面積のネ
ガ乾板を用意してこれに複数個のパターンを高精度で形
成するには限界があるうえ、ネガ乾板が光源からの熱に
よる熱膨張を生じることから正確なパターンを露光する
ことが困難となるという未解決の課題があった。However, in the above-mentioned conventional exposure apparatus that performs contact exposure, by conveying the exposed member vertically, it is possible to prevent the exposed member from bending due to its own weight. However, since it uses a contact double-sided exposure method, it is necessary to form the negative dry plate and the exposed material to approximately the same size, and by step-and-repeat, it is possible to create multiple patterns with high precision on a large area of the exposed material. In addition, there is a limit to the ability to prepare a large-area negative dry plate and form multiple patterns on it with high precision, and the negative dry plate undergoes thermal expansion due to heat from the light source. There was an unresolved problem that it was difficult to expose an accurate pattern.
【０００６】そこで、この発明は、上記従来例の未解決
の課題に着目してなされたものであり、大面積の被露光
部材にステップアンドリピートによって比較的大型のパ
ターンを複数個高精度で露光することができる横形の投
影露光装置を提供することを目的としている。[0006]The present invention has been made by focusing on the unresolved problems of the above-mentioned conventional example, and is a method of exposing a plurality of relatively large patterns to a large area of a member to be exposed with high precision by step-and-repeat. The object of the present invention is to provide a horizontal projection exposure apparatus that can perform
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明に係る投影露光装置は、光源装置からの露
光光を所定パターンを形成したマスクを透過させた後投
影レンズによってマスクパターンを保持機構で保持した
被露光部材に結像させるようにした投影露光装置におい
て、前記光源装置から水平光軸に沿って露光光を出射さ
せると共に、当該水平光軸上に前記マスク、投影レンズ
及び被露光部材を配置し、且つ前記保持機構は、前記被
露光部材を少なくとも水平光軸と直交する面内で移動可
能に構成されていることを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a projection exposure apparatus according to the present invention transmits exposure light from a light source device through a mask on which a predetermined pattern is formed, and then uses a projection lens to form a mask pattern. In a projection exposure apparatus configured to form an image on a member to be exposed held by a holding mechanism, exposure light is emitted from the light source device along a horizontal optical axis, and the mask, projection lens, and object are placed on the horizontal optical axis. The exposure member is arranged, and the holding mechanism is configured to be able to move the exposed member at least within a plane perpendicular to the horizontal optical axis.
【０００８】ここで、前記投影レンズとマスク及び被露
光部材との間の距離を等しく選定することが好ましいと
共に、マスク及び被露光部材を各々独立に水平光軸と直
交する面内で移動可能に構成することが好ましい。また
、前記光源装置としては、独立して前記水平光軸方向に
移動可能な台車上に、赤外光より波長の短い露光光を出
射する発光源と、該発光源からの出射光を均一化するイ
ンテグレータと、該インテグレータからの出射光の光路
を変更する光軸変更手段と、該光軸変更手段からの変更
光を集光して前記水平光軸方向に反射する凹面鏡とを配
置した構成とするか又は凹面鏡に代えてフレネルレンズ
を適用することが好ましい。Here, it is preferable that the distances between the projection lens and the mask and the member to be exposed be equal, and that the mask and the member to be exposed are movable independently in a plane perpendicular to the horizontal optical axis. It is preferable to configure. Further, the light source device includes a light source that emits exposure light having a shorter wavelength than infrared light, and a light emitting source that emits exposure light having a shorter wavelength than infrared light, on a trolley that can be independently moved in the horizontal optical axis direction, and that uniformizes the light emitted from the light source. an integrator, an optical axis changing means for changing the optical path of the light emitted from the integrator, and a concave mirror for condensing the changed light from the optical axis changing means and reflecting it in the horizontal optical axis direction. It is preferable to use a Fresnel lens instead of a concave mirror.
【０００９】[0009]
【作用】この発明に係る投影露光装置においては、光源
からの露光光が水平光軸上に配置されたマスク、投影レ
ンズを介して被露光部材に照射されて、マスクパターン
が被露光部材に露光される。このとき、被露光部材が保
持機構によって垂直方向に保持されているため、その自
重による撓みを防止して露光面を平坦化することができ
るので、マスクパターンを高精度で露光することができ
る。また、保持機構によって被露光部材が少なくとも水
平光軸と直交する面内で移動可能であるので、ステップ
アンドリピートによって、被露光部材に複数個のマスク
パターンを露光することができ、露光装置のスループッ
トを向上させることができる。[Operation] In the projection exposure apparatus according to the present invention, the exposure light from the light source is irradiated onto the exposed member through the mask and the projection lens arranged on the horizontal optical axis, and the mask pattern is exposed onto the exposed member. be done. At this time, since the member to be exposed is held in the vertical direction by the holding mechanism, it is possible to prevent the exposed member from bending due to its own weight and to flatten the exposed surface, so that the mask pattern can be exposed with high precision. In addition, since the exposed member can be moved at least in a plane orthogonal to the horizontal optical axis by the holding mechanism, multiple mask patterns can be exposed on the exposed member by step-and-repeat, which increases the throughput of the exposure device. can be improved.
【００１０】また、投影レンズとマスク及び被露光部材
との間の距離を等しく選定すると共に、マスク及び被露
光部材を各々独立に水平光軸と直交する面内で移動可能
に構成すると、被露光部材とマスクとのアライメント調
整及びマスクパターンと非露光部材に投影されるパター
ンの倍率の調整を容易に行うことができる。さらに、光
源装置を、他のマスク、投影レンズ及び被露光部材とは
独立させると、光源装置で発生する熱がマスク、投影レ
ンズ及び被露光部材を収納するチャンバーに影響を与え
ることがないと共に、チャンバーの容積を小さくしてラ
ンニングコスト及びイニシャルコストを低減することが
でき、さらに、発光源からの露光光を例えば全反射ミラ
ーでなる光軸変更手段と凹面鏡とによって光軸を変更す
ることにより、光源装置の水平方向の距離を短くして小
型化することができる。[0010] Furthermore, if the distances between the projection lens, the mask, and the exposed member are selected to be equal, and the mask and the exposed member are configured to be movable independently in a plane orthogonal to the horizontal optical axis, the exposed It is possible to easily adjust the alignment between the member and the mask and adjust the magnification of the mask pattern and the pattern projected onto the non-exposed member. Furthermore, by making the light source device independent from other masks, projection lenses, and members to be exposed, the heat generated by the light source device will not affect the chamber that houses the mask, projection lens, and members to be exposed; The running cost and initial cost can be reduced by reducing the volume of the chamber, and furthermore, by changing the optical axis of the exposure light from the light emitting source using, for example, an optical axis changing means consisting of a total reflection mirror and a concave mirror, The horizontal distance of the light source device can be shortened and the size of the light source device can be reduced.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図１はこの発明の全体構成を示す概略構成図で
ある。図中、１は光源装置であって、この光源装置１か
ら出射される露光光が露光装置本体２に光軸Ｌ１ を水
平状態として入射される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing the overall configuration of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a light source device, and exposure light emitted from this light source device 1 enters an exposure device main body 2 with an optical axis L1 in a horizontal state.
【００１２】光源装置１は、水平光軸Ｌ１ 方向に案内
レール１０によって案内される台車１１を有し、この台
車１１上に、上方に向けて光線を出射する水銀灯、キセ
ノンランプ等の光源１２と、この光源１２からの露光光
のうち赤外域の波長成分を透過させると共に、他の波長
成分を露光光として光軸Ｌ２を水平方向として反射する
ダイクロイックミラー１３とで構成される発光源１４が
配置され、この発光源１４から出射される露光光がイン
テグレータ１５によって均一化され、露光量を制限する
シャッタ１６及び露光波長（例えばｇ線）のみを通過さ
せるフィルタ１７を介して光軸変更手段としての全反射
鏡１８によって左下方に反射され、この反射光が大きな
曲率の凹面鏡１９で反射されて、水平光軸Ｌ１ 上に集
光される。ここで、凹面鏡１９は、水平光軸Ｌ１ と全
反射鏡１８で反射された反射光の光軸Ｌ３ とのなす角
αの二等分線上の点Ｏを中心とする半径Ｒの凹面に形成
されている。したがって、凹面鏡１９で反射された露光
光は、インテグレータ１５から凹面鏡１９までの光軸長
さをＬとすると、水平光軸Ｌ１ 上の凹面鏡１９から光
軸長さＬに等しい長さを採った位置Ｐに集光し、インテ
グレータ１５の出口の光学像を楕円状に結像する。The light source device 1 has a cart 11 guided by a guide rail 10 in the direction of a horizontal optical axis L1, and a light source 12 such as a mercury lamp or a xenon lamp that emits a light beam upward is mounted on the cart 11. A light emitting source 14 is disposed including a dichroic mirror 13 that transmits wavelength components in the infrared region of the exposure light from the light source 12 and reflects other wavelength components as exposure light with the optical axis L2 in the horizontal direction. The exposure light emitted from this light emitting source 14 is made uniform by an integrator 15, and is passed through a shutter 16 that limits the amount of exposure and a filter 17 that passes only the exposure wavelength (for example, the g-line) as an optical axis changing means. The light is reflected to the lower left by the total reflection mirror 18, and this reflected light is reflected by the concave mirror 19 with a large curvature and condensed onto the horizontal optical axis L1. Here, the concave mirror 19 is formed into a concave surface with a radius R centered at a point O on the bisector of the angle α formed by the horizontal optical axis L1 and the optical axis L3 of the reflected light reflected by the total reflection mirror 18. ing. Therefore, when the optical axis length from the integrator 15 to the concave mirror 19 is L, the exposure light reflected by the concave mirror 19 is located at a position from the concave mirror 19 on the horizontal optical axis L1 with a length equal to the optical axis length L. The light is focused on P, and an optical image at the exit of the integrator 15 is formed into an ellipse.
【００１３】露光装置本体２は、設置面に固定配置され
たチャンバー２０内に設置された水平光軸Ｌ１ に対応
する位置に窓２２ａ，２２ｂを有する筐体２２の左端側
の窓２２ａ位置に配設された、露光パターンを形成した
マスクＭを前記水平光軸Ｌ１ と直交する面内で移動可
能に保持するマスク保持機構３０と、筐体２２内に配設
された投影レンズＰＬを水平光軸Ｌ１ 方向に移動可能
に保持するレンズ保持機構４０と、筐体２２の右端側の
窓２２ｂ位置に配設された、レジストを塗布した露光領
域を挟む上下にアライメントマークＡＭＳ１， ＡＭＳ
２を形成した被露光部材Ｓを保持する露光部材保持機構
５０と、筐体２２内に配設された被露光部材Ｓのアライ
メントマークＡＭＳ１， ＡＭＳ２を照明する照明機構
６０と、前記マスク保持機構３０上に配設された照明機
構６０で照明されたアライメントマークＡＭＳ１， Ａ
ＭＳ２とマスクＭに形成されたアライメントＡＭＭ１，
ＡＭＭ２とを重畳して両者の位置整合状態を検出するア
ライメントマーク検出機構７０とを備えている。The exposure apparatus main body 2 is arranged at a window 22a on the left end side of a housing 22, which has windows 22a and 22b at positions corresponding to a horizontal optical axis L1 installed in a chamber 20 fixedly arranged on an installation surface. A mask holding mechanism 30 that movably holds a mask M on which an exposure pattern has been formed in a plane orthogonal to the horizontal optical axis L1, and a projection lens PL disposed in the housing 22 are arranged on the horizontal optical axis. A lens holding mechanism 40 that holds the lens movably in the L1 direction, and alignment marks AMS1 and AMS disposed at the window 22b on the right end side of the housing 22 at the top and bottom of the exposure area sandwiching the resist-coated exposure area.
2, an illumination mechanism 60 that illuminates the alignment marks AMS1 and AMS2 of the exposed member S disposed in the housing 22, and the mask holding mechanism 30. Alignment mark AMS1, A illuminated by illumination mechanism 60 disposed above
Alignment AMM1 formed on MS2 and mask M,
It includes an alignment mark detection mechanism 70 that superimposes the AMM 2 and detects the alignment state of both.
【００１４】チャンバー２０は、標準温度に温度制御さ
れていると共に、フィルタで除塵された清浄空気が導入
されてクリーンルームに構成され、発光装置１の露光光
が入射される側壁に窓２０ａが形成されていると共に、
この窓２０ａとは反対側の側壁に開閉扉２０ｂが形成さ
れている。マスク保持機構３０は、図２〜図５に示すよ
うに、筐体２２の窓２２ａ位置に取付けられた中央部に
透孔３１ａを有する取付基板３１と、この取付基板３１
にスペーサ３２ａ，３２ｂ及び連結板３３ａ，３３ｂを
介して取付けられた同様に中央部に透孔３４ａを有する
上面板３４と、取付基板３１及び上面板３４間に水平光
軸Ｌ１ と直交する面内で移動可能に保持された中央部
に透孔３５ａを有するマスクステージ３５と、このマス
クステージ３５を垂直方向、水平方向に移動させると共
に、水平光軸Ｌ１ を中心として僅かに回動させるステ
ージ移動機構３６とを備えている。The chamber 20 is temperature-controlled to a standard temperature, and is configured as a clean room by introducing clean air from which dust has been removed by a filter. At the same time,
An opening/closing door 20b is formed on the side wall opposite to the window 20a. As shown in FIGS. 2 to 5, the mask holding mechanism 30 includes a mounting board 31 that is mounted at the window 22a of the housing 22 and has a through hole 31a in the center, and this mounting board 31.
A top plate 34, which similarly has a through hole 34a in the center, is attached via spacers 32a, 32b and connecting plates 33a, 33b, and a plane perpendicular to the horizontal optical axis L1 is formed between the mounting substrate 31 and the top plate 34. A mask stage 35 having a through hole 35a in the center is movably held by a stage moving mechanism that moves the mask stage 35 vertically and horizontally and slightly rotates it around the horizontal optical axis L1. It is equipped with 36.
【００１５】ここで、取付基板３１は、図３〜図５で明
らかなように、方形の基部３１ｂ上にこれより小さい方
形のマスクステージ３５と接触するステージ保持部３１
ｃとで凸状に形成されている。また、スペーサ３２ａ及
び３２ｂは、ステージ保持部３１ｃ上に、透孔３１ａの
上方側及び左方側に夫々配設され、それらの中央部にマ
スクステージ３５に予圧を与えるエアシリンダ３２ｃ及
び３２ｄが取付けられ、これらエアシリンダ３２ｃ及び
３２ｄのピストンロッドの先端が図４に示すようにマス
クステージ３５に取付けられた当板３５ｂ，３５ｃに転
接するローラ３２ｅを回転自在に保持した摺動体３２ｆ
に連結されている。As is clear from FIGS. 3 to 5, the mounting board 31 has a stage holder 31 on a rectangular base 31b that is in contact with a smaller rectangular mask stage 35.
c and is formed in a convex shape. Further, the spacers 32a and 32b are arranged on the stage holding part 31c on the upper side and the left side of the through hole 31a, respectively, and air cylinders 32c and 32d that apply preload to the mask stage 35 are attached to the center thereof. The tips of the piston rods of these air cylinders 32c and 32d rotatably hold a roller 32e that contacts contact plates 35b and 35c attached to the mask stage 35, as shown in FIG.
is connected to.
【００１６】さらに、マスクステージ３５には、その左
端面上に、円環状のスペーサ３５ｄを介して中央部に透
孔３５ｅを有し、左端面に真空吸着部（図示せず）を有
する方形のマスクチャック３５ｆが取付けられ、このマ
スクチャック３５ｆの左端面の下端側及び右端側にマス
クＭを位置決めする位置決めピン３５ｇ，３５ｈ及び３
５ｉが突出形成されていると共に、上端側の両角部に三
角形状の切欠３５ｊ，３５ｋが形成され、これら切欠３
５ｊ，３５ｋに、マスクＭの上端を係止する係止部材３
５ｌ，３５ｍが設けられている。これら係止部材３５ｌ
，３５ｍの夫々は、切欠３５ｊ，３５ｋに装着されたロ
ータリーアクチュエータ３５ｎと、このロータリーアク
チュエータ３５ｎの上端に固着された回動アーム３５ｏ
と、この回動アーム３５ｏの自由端にマスクＭの厚みに
応じたスペーサ３５ｐを介して取付けられた係止片３５
ｑとで構成されている。Furthermore, the mask stage 35 has a rectangular hole 35e on its left end surface with a through hole 35e in the center via an annular spacer 35d, and a vacuum suction part (not shown) on its left end surface. A mask chuck 35f is attached, and positioning pins 35g, 35h, and 3 for positioning the mask M on the lower end side and right end side of the left end surface of this mask chuck 35f.
5i is formed protrudingly, and triangular notches 35j and 35k are formed at both corners of the upper end side, and these notches 3
5j, 35k, a locking member 3 that locks the upper end of the mask M
5l and 35m are provided. These locking members 35l
, 35m each include a rotary actuator 35n attached to the notch 35j, 35k, and a rotating arm 35o fixed to the upper end of the rotary actuator 35n.
A locking piece 35 is attached to the free end of this rotating arm 35o via a spacer 35p corresponding to the thickness of the mask M.
It is composed of q.
【００１７】またさらに、ステージ移動機構３６は、図
５で特に明らかなように、マスクステージ３５の下端縁
の前後両端側に夫々取付けられたガイドローラ３５ｒ及
び３５ｓに対向して連結板３３ａに装着された垂直方向
駆動部３６ａ，３６ｂと、マスクステージ３５の左端縁
の中央部に取付けられたガイドローラ３５ｔに対向して
連結板３３ｂに装着された水平方向駆動部３６ｃとを備
えている。ここで、各駆動部３６ａ〜３６ｃの夫々は、
マスクステージ３５の端縁に対して所定角度で傾斜する
傾斜面を有する楔状のブラケット３６ｄの傾斜面上に、
駆動モータ３６ｅと、その回転軸に連結されたねじ軸３
６ｆと、このねじ軸３６ｆに螺合するボールナットを内
装したマスクステージ３５の端縁と平行な摺接面を有す
る楔状の摺動体３６ｇとを有し、摺動体３６ｇの摺接面
にマスクステージ３５に形成されたガイドローラ３５ｒ
〜３５ｔが転接している。したがって、水平方向駆動部
３６ａ，３６ｂの駆動モータ３６ｅを例えば逆転させて
、双方の摺動体３６ｇを中央部側に摺動させると、これ
に伴って摺動体３６ｇの摺接面が下方に平行移動するこ
とにより、マスクステージ３５が下方に移動し、逆に駆
動モータ３６ｅを正転させて、摺動体３６ｇを外方側に
摺動させると、これに伴って摺動体３６ｇの摺接面が上
方に平行移動することにより、マスクステージ３５がエ
アシリンダ３２ｃの押圧力に抗して上方に移動する。
また、水平方向駆動部３６ｃの駆動モータ３６ｅを例え
ば逆転させて摺動体３６ｇを下方に摺動させると、これ
に伴って摺動体３６ｇの摺接面が図５において右方に平
行移動することにより、マスクステージ３５がエアシリ
ンダ３２ｄの押圧力に抗して右方に移動し、駆動モータ
３６ｅを正転させて摺動体３６ｇを上方に摺動させると
、これに伴って摺動体３６ｇの摺接面が左方に平行移動
することにより、マスクステージ３５が左方に移動する
。さらに、一方の垂直方向駆動部３６ａの摺動体３６ｇ
を左方に摺動させると共に、他方の上下方向摺動部３６
ｂの摺動体３６ｇを左方に摺動させ、且つ水平方向駆動
部３６ｃの摺動体３６ｇを下方に摺動させることにより
、マスクステージ３５を水平光軸Ｌ１ を中心として図
５でみて時計方向に１°程度微回動させることができ、
各摺動部３６ａ〜３６ｃを逆方向に摺動させることによ
り、マスクステージ３５を反時計方向に１°程度微回動
させることができる。Furthermore, as is particularly clear in FIG. 5, the stage moving mechanism 36 is mounted on the connecting plate 33a in opposition to guide rollers 35r and 35s that are mounted on both front and rear ends of the lower edge of the mask stage 35, respectively. vertical drive units 36a and 36b, and a horizontal drive unit 36c mounted on the connecting plate 33b opposite to a guide roller 35t attached to the center of the left edge of the mask stage 35. Here, each of the drive units 36a to 36c is
On the inclined surface of the wedge-shaped bracket 36d, which has an inclined surface inclined at a predetermined angle with respect to the edge of the mask stage 35,
A drive motor 36e and a screw shaft 3 connected to its rotating shaft.
6f, and a wedge-shaped sliding body 36g having a sliding surface parallel to the edge of the mask stage 35 which is equipped with a ball nut screwed onto the screw shaft 36f. Guide roller 35r formed in 35
~35t is in contact. Therefore, when the drive motors 36e of the horizontal drive units 36a and 36b are reversed, for example, and both sliding bodies 36g are slid toward the center, the sliding surfaces of the sliding bodies 36g are moved downward in parallel. As a result, the mask stage 35 moves downward, and conversely, when the drive motor 36e is rotated forward and the sliding body 36g is slid outward, the sliding surface of the sliding body 36g is moved upward. By moving in parallel to , the mask stage 35 moves upward against the pressing force of the air cylinder 32c. Further, when the drive motor 36e of the horizontal direction drive unit 36c is reversed, for example, and the sliding body 36g is slid downward, the sliding surface of the sliding body 36g is moved in parallel to the right in FIG. , when the mask stage 35 moves to the right against the pressing force of the air cylinder 32d, and the drive motor 36e rotates forward to slide the sliding body 36g upward, the sliding body 36g comes into sliding contact with this. As the surface moves in parallel to the left, the mask stage 35 moves to the left. Furthermore, the sliding body 36g of one vertical direction drive part 36a
while sliding the other vertically sliding part 36 to the left.
By sliding the sliding body 36g of b to the left and sliding the sliding body 36g of the horizontal drive unit 36c downward, the mask stage 35 is moved clockwise as seen in FIG. 5 with the horizontal optical axis L1 as the center. It can be rotated slightly by about 1°.
By sliding each of the sliding parts 36a to 36c in the opposite direction, the mask stage 35 can be slightly rotated counterclockwise by about 1°.
【００１８】レンズ保持機構４０は、図６に示すように
、筐体２２の底面に設置した基台４１の上端面に、４つ
の板ばね４２によって支持された可動板４３が配設され
、この可動板４３上に取付けたブラケット４４に投影レ
ンズＰＬがその光軸を水平光軸Ｌ１ と一致させて支持
されている。そして、可動板４３が基台４１の上端面に
固定配置された駆動モータ４５と、その回転軸に連結さ
れたねじ軸４６と、このねじ軸４６に螺合し且つ可動板
４３の下面に固着されたボールナット４７とによって構
成される直線移動機構４８によって水平光軸Ｌ１ 方向
に±１ｍｍ程度微動される。As shown in FIG. 6, the lens holding mechanism 40 includes a movable plate 43 supported by four leaf springs 42 on the upper end surface of a base 41 installed on the bottom surface of the housing 22. A projection lens PL is supported by a bracket 44 mounted on a movable plate 43 with its optical axis aligned with the horizontal optical axis L1. The movable plate 43 has a drive motor 45 fixedly disposed on the upper end surface of the base 41 and a screw shaft 46 connected to the rotating shaft of the drive motor 45. A linear movement mechanism 48 constituted by a ball nut 47 that has been moved slightly moves about ±1 mm in the direction of the horizontal optical axis L1.
【００１９】露光部材保持機構５０は、図７及び図８に
示すように、筐体２２の窓２２ｂの回りに取付けられた
右端面の上端側及び下端側に夫々水平方向に延長する案
内レール５１ａ，５１ｂを取付けた方形枠５１と、この
方形枠５１の右端面側に案内レール５１ａ，５１ｂに係
合するスライダ５２ａ，５２ｂを介して水平方向に摺動
自在に配設された中央部に透孔５２ｃを有し、且つ右端
面に垂直方向に延長する案内レール５２ｄ，５２ｅを有
する水平移動テーブル５２と、この水平移動テーブル５
２の右端面側に案内レール５２ｄ，５２ｅに係合するス
ライダ５３ａ，５３ｂを介して垂直方向に摺動自在に配
設された中央部に透孔５３ｃを有する垂直移動テーブル
５３と、この垂直移動テーブル５３の右端面に固着され
た被露光部材Ｓを真空吸着保持する保持チャック５４と
を備えている。そして、水平移動テーブル５２は、方形
枠５１に取付けられた駆動モータ５５ａと、その回転軸
に連結されたねじ軸５５ｂと、このねじ軸５５ｂに螺合
し且つ水平移動テーブル５２に固着されたボールナット
５５ｃとで構成される直線移動機構５５によって水平方
向に駆動される。また、垂直移動テーブル５３も、水平
移動テーブル５２に取付けられた駆動モータ５６ａと、
その回転軸に連結されたねじ軸５６ｂと、このねじ軸５
６ｂに螺合し且つ垂直移動テーブル５３に固着されたボ
ールナット５６ｃとで構成される直線移動機構５６によ
って垂直方向に駆動される。また、垂直移動テーブル５
３の上端には、水平移動テーブル５２の上端に取付けら
れたブラケット５７に巻回された定張力ばね５８の他端
が係止され、この定張力ばね５８によって垂直移動テー
ブル５３、保持チャック５４及び被露光部材Ｓの重量分
が支持されている。保持チャック５４は、被露光部材し
の下端及び後端を位置決めする位置決めピン５４ａ，５
４ｂ及び５４ｃと、被露光部材Ｓの上端をクランプする
クランプ部材（図示せず）とを備えている。ここで、被
露光部材Ｓは、液晶ディスプレイ用の例えば７００ｍｍ
×８００ｍｍの大版のガラス板であって、その露光面に
レジストが塗布されている。As shown in FIGS. 7 and 8, the exposure member holding mechanism 50 includes guide rails 51a that are attached around the window 22b of the housing 22 and extend horizontally to the upper and lower ends of the right end surface, respectively. , 51b, and a central portion that is slidably arranged in the horizontal direction via sliders 52a and 52b that engage with guide rails 51a and 51b on the right end side of this rectangular frame 51. A horizontally movable table 52 having a hole 52c and guide rails 52d and 52e extending vertically on the right end surface, and this horizontally movable table 5.
A vertically movable table 53 having a through hole 53c in the center is disposed to be vertically slidable via sliders 53a and 53b that engage with guide rails 52d and 52e on the right end side of the table 2; A holding chuck 54 is provided which holds the exposed member S fixed to the right end surface of the table 53 by vacuum suction. The horizontally moving table 52 includes a drive motor 55a attached to the rectangular frame 51, a screw shaft 55b connected to its rotating shaft, and a ball screwed to the screw shaft 55b and fixed to the horizontally moving table 52. It is driven in the horizontal direction by a linear movement mechanism 55 composed of a nut 55c. Further, the vertical movement table 53 also has a drive motor 56a attached to the horizontal movement table 52,
A screw shaft 56b connected to the rotating shaft, and the screw shaft 5
6b and a ball nut 56c fixed to the vertical movement table 53, the linear movement mechanism 56 is driven in the vertical direction. In addition, the vertical movement table 5
The other end of a constant tension spring 58 wound around a bracket 57 attached to the upper end of the horizontally moving table 52 is locked to the upper end of the horizontally moving table 52 . The weight of the exposed member S is supported. The holding chuck 54 has positioning pins 54a and 5 for positioning the lower end and rear end of the exposed member.
4b and 54c, and a clamp member (not shown) that clamps the upper end of the member S to be exposed. Here, the exposed member S is, for example, 700 mm for a liquid crystal display.
It is a large glass plate measuring 800 mm, and a resist is coated on its exposed surface.
【００２０】照明機構６０は、筐体２２の投影レンズＰ
Ｌの右端側に設けられた支持板６１ａ，６１ｂに垂直方
向に移動可能に取付けられた一対の照明装置６２ａ，６
２ｂを備えている。これら照明装置６２ａ，６２ｂの夫
々は、図９及び図１０に示すように、支持板６１ａ，６
１ｂの右端面に取付けられた基台６３と、この基台６３
に垂直方向に摺動自在に保持された摺動台６４と、この
摺動台６４の右端面に固着された略Ｌ字状の支持部材６
５と、この支持部材６５に支持され且つ一端にハロゲン
ランプ（図示せず）からの照明光が導入された光ファイ
バ６６の他端が連結された複数の集光レンズを内装した
レンズ筒６７とで構成され、レンズ筒６７から出射され
る照明光が被露光部材Ｓの表面上に例えば直径１０ｍｍ
程度のスポット光として照射される。そして、摺動台６
４が基台６３の後端側に取付けられた駆動機構６８によ
って垂直方向に駆動される。この駆動機構６８は、基台
６３の後端側に固定された駆動モータ６８ａと、その回
転軸にカップリングを介して連結され、基台６３に形成
された水平方向の貫通孔６８ｂ内に延長する回転軸６８
ｃと、この回転軸６８ｃの外周面に固着されたピニオン
６８ｄと、このピニオン６８ｄに螺合し且つ摺動台６４
の左端面に固着されたラック６８ｅとで構成されている
。The illumination mechanism 60 includes a projection lens P of the housing 22.
A pair of lighting devices 62a and 6 are vertically movably attached to support plates 61a and 61b provided on the right end side of L.
2b. As shown in FIGS. 9 and 10, these lighting devices 62a and 62b have support plates 61a and 6, respectively.
A base 63 attached to the right end surface of 1b and this base 63
A sliding table 64 is held slidably in the vertical direction, and a substantially L-shaped support member 6 is fixed to the right end surface of the sliding table 64.
5, and a lens barrel 67 that is supported by the support member 65 and has a plurality of condenser lenses connected to one end of an optical fiber 66 into which illumination light from a halogen lamp (not shown) is introduced. The illumination light emitted from the lens barrel 67 is placed on the surface of the exposed member S with a diameter of 10 mm, for example.
It is irradiated as a spot light of about And sliding table 6
4 is vertically driven by a drive mechanism 68 attached to the rear end side of the base 63. This drive mechanism 68 is connected to a drive motor 68a fixed to the rear end side of the base 63 and its rotating shaft via a coupling, and extends into a horizontal through hole 68b formed in the base 63. Rotating shaft 68
c, a pinion 68d fixed to the outer peripheral surface of the rotating shaft 68c, and a sliding base 64 screwed onto the pinion 68d.
The rack 68e is fixed to the left end surface of the rack 68e.
【００２１】アライメントマーク検出機構７０は、図１
１〜図１３に示すように、マスク保持機構３０に保持さ
れたマスクＭのアライメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ
２を透過した照明光を検出する一対のアライメントマー
ク検出部７１ａ，７１ｂを備えている。これらアライメ
ントマーク検出部７１ａ，７１ｂの夫々は、マスク保持
機構３０の上面板３４に上下対称的に固定された基板７
２ａ，７２ｂを有し、これら基板７２ａ，７２ｂ上に垂
直方向に延長する一対の案内レール７３ｌ，７３ｒが形
成され、これら案内レール７３ｌ，７３ｒに係合するス
ライダ７４ｌ，７４ｒに垂直移動テーブル７５ａ，７５
ｂが取付けられている。これら垂直移動テーブル７５ａ
，７５ｂ上には、水平方向に延長する一対の案内レール
７６ｕ，７６ｌが配設され、これら案内レール７６ｕ，
７６ｌに係合するスライダ７７ｕ，７７ｌに水平移動テ
ーブル７８ａ，７８ｂが取付けられている。これら水平
移動テーブル７８ａ及び７８ｂ上には、マスクＭのアラ
イメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ２を透過した照明光
を案内する光案内筒７９ａ及び７９ｂが取付けられてい
ると共に、これら光案内筒７９ａ及び７９ｂから出射さ
れる照明光を受光する２次元のＣＣＤイメージセンサ８
０ａ及び８０ｂが配設されている。ここで、光案内筒７
９ａ及び７９ｂの夫々は、内部にマスクＭに対向する先
端部にアライメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ２を透過
した照明光を垂直方向に反射する全反射ミラー８１と、
この全反射ミラー８１によって反射された反射光を結像
とする凸レンズ８２と、この凸レンズ８２からの収束光
を水平方向に反射する全反射ミラー８３とが配設され、
全反射ミラー８３で反射された水平光がＣＣＤイメージ
センサ８０ａ，８０ｂに結像される。そして、垂直移動
テーブル７５ａ，７５ｂが基板７２ａ，７２ｂに固定さ
れた駆動モータ８５ａと、その回転軸に連結されたねじ
軸８５ｂと、このねじ軸８５ｂに螺合し且つ垂直移動テ
ーブル７５ａ，７５ｂに固定されたボールナット８５ｃ
とで構成される直線移動機構８５によって垂直方向に移
動される。また、水平移動テーブル７８ａ，７８ｂも、
垂直移動テーブル７５ａ，７５ｂに固定配置された駆動
モータ８６ａ、その回転軸に連結されたねじ軸８６ｂと
、このねじ軸８６ｂに螺合し且つ水平移動テーブル７８
ａ，７８ｂに固定されたボールナット８６ｃとで構成さ
れる直線移動機構８６によって水平方向に移動される。The alignment mark detection mechanism 70 is shown in FIG.
1 to 13, alignment marks AMM1 and AMM of the mask M held by the mask holding mechanism 30
A pair of alignment mark detection sections 71a and 71b are provided for detecting the illumination light transmitted through the alignment mark detection sections 71a and 71b. Each of these alignment mark detection sections 71a and 71b is connected to a substrate 7 that is vertically symmetrically fixed to the top plate 34 of the mask holding mechanism 30.
2a, 72b, a pair of guide rails 73l, 73r extending vertically are formed on these substrates 72a, 72b, and sliders 74l, 74r that engage with these guide rails 73l, 73r are provided with vertically moving tables 75a, 75
b is installed. These vertically moving tables 75a
, 75b are provided with a pair of guide rails 76u, 76l extending in the horizontal direction.
Horizontal moving tables 78a and 78b are attached to sliders 77u and 77l that engage with slider 76l. Light guide tubes 79a and 79b for guiding the illumination light transmitted through the alignment marks AMM1 and AMM2 of the mask M are mounted on the horizontal movement tables 78a and 78b, and the light guide tubes 79a and 79b emit the illumination light. A two-dimensional CCD image sensor 8 that receives illumination light
0a and 80b are provided. Here, the light guide tube 7
Each of 9a and 79b includes a total reflection mirror 81 that vertically reflects the illumination light that has passed through the alignment marks AMM1 and AMM2 at the tip facing the mask M;
A convex lens 82 that forms an image of the reflected light reflected by this total reflection mirror 81, and a total reflection mirror 83 that reflects the convergent light from this convex lens 82 in the horizontal direction are disposed,
Horizontal light reflected by the total reflection mirror 83 is imaged on CCD image sensors 80a and 80b. The vertically movable tables 75a, 75b are connected to a drive motor 85a fixed to the substrates 72a, 72b, a screw shaft 85b connected to the rotating shaft of the drive motor 85a, and a screw shaft 85b that is screwed to the screw shaft 85b and connected to the vertically movable table 75a, 75b. Fixed ball nut 85c
It is moved in the vertical direction by a linear movement mechanism 85 consisting of. In addition, horizontally moving tables 78a and 78b are also
A drive motor 86a is fixedly arranged on the vertically movable tables 75a and 75b, a screw shaft 86b is connected to the rotating shaft of the drive motor 86a, and a horizontally movable table 78 is screwed onto the screw shaft 86b.
It is moved in the horizontal direction by a linear movement mechanism 86 comprising a ball nut 86c fixed to a and 78b.
【００２２】なお、マスクＭに形成されたアライメント
マークＡＭＭ１及びＡＭＭ２は、図１４に示すように、
露光パターン形成領域９０の上下位置に穿設された正方
形の透孔９１で構成され、また被露光部材Ｓに形成され
たアライメントマークＡＭＳ１及びＡＭＳ２は、図１４
に示すように、パターン露光領域の上下位置に形成され
た十文字マークで構成されている。Note that the alignment marks AMM1 and AMM2 formed on the mask M are as shown in FIG.
Alignment marks AMS1 and AMS2, which are composed of square through holes 91 bored at the upper and lower positions of the exposure pattern forming area 90 and formed on the exposed member S, are shown in FIG.
As shown in , it consists of cross marks formed above and below the pattern exposure area.
【００２３】次に、上記実施例の動作を説明する。先ず
、光源装置１のシャッター１６を閉じて露光光を遮断状
態としておき、マスク保持機構３０のマスクチャック３
５ｄに所定の露光パターンを形成したマスクＭを位置決
めしてセットする。このマスクＭのセット時に、アライ
メントマーク検出部７１ａ，７１ｂが邪魔となるので、
直線駆動機構８５を作動させて、垂直移動テーブル７５
ａ及び７５ｂを夫々上方及び下方に後退させて、光案内
筒７９ａ及び７９ｂをマスクチャック３５ｄ上から退避
させておく。Next, the operation of the above embodiment will be explained. First, the shutter 16 of the light source device 1 is closed to block exposure light, and the mask chuck 3 of the mask holding mechanism 30 is closed.
5d, a mask M having a predetermined exposure pattern formed thereon is positioned and set. When setting this mask M, the alignment mark detection parts 71a and 71b will get in the way, so
By operating the linear drive mechanism 85, the vertical movement table 75
a and 75b are retracted upward and downward, respectively, and the light guide tubes 79a and 79b are retracted from above the mask chuck 35d.
【００２４】次いで、チャンバー２０の開閉扉２１ｂを
開いて、露光部材保持機構５０の保持チャック５４に被
露光部材Ｓを位置決めして保持させた後、開閉扉２１ｂ
を閉じる。その後、露光部材保持機構５０の水平移動テ
ーブル５２及び垂直移動テーブル５３を移動させて、被
露光部材Ｓの最初のパターン露光領域９２を投影レンズ
ＰＬによる露光領域に位置決めする。Next, the opening/closing door 21b of the chamber 20 is opened, and after positioning and holding the exposed member S on the holding chuck 54 of the exposure member holding mechanism 50, the opening/closing door 21b is opened.
Close. Thereafter, the horizontal movement table 52 and the vertical movement table 53 of the exposure member holding mechanism 50 are moved to position the first pattern exposure area 92 of the member S to be exposed to the exposure area by the projection lens PL.
【００２５】この状態で、アライメントマーク検出機構
７０のマーク検出部７１ａ及び７１ｂの垂直移動テーブ
ル７５ａ及び７５ｂを夫々下方及び上方に移動させて、
光案内筒７９ａ，７９ｂの全反射ミラー８１をマスクＭ
のアライメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ２に対向させ
る。
次いで、照明機構６０のハロゲンランプ（図示せず）を
点灯させて、照明装置６２ａ及び６２ｂのレンズ筒６６
から被露光部材Ｓ Ｕ照明光を出射し、被露光部材Ｓ
のアライメントマークＡＭＳ１及びＡＭＳ２を局部的に
照射する。In this state, the vertical movement tables 75a and 75b of the mark detection sections 71a and 71b of the alignment mark detection mechanism 70 are moved downward and upward, respectively.
The total reflection mirrors 81 of the light guide tubes 79a and 79b are covered with a mask M.
alignment marks AMM1 and AMM2. Next, the halogen lamp (not shown) of the illumination mechanism 60 is turned on, and the lens barrels 66 of the illumination devices 62a and 62b are lit.
The exposed member S U emits illumination light from the exposed member S
The alignment marks AMS1 and AMS2 are locally irradiated.
【００２６】このように、アライメントマークＡＭＳ１
及びＡＭＳ２に照明光が照射されることにより、アライ
メントマークＡＭＳ１及びＡＭＳ２の照明像が投影レン
ズＰＬによってマスクＭのアライメントマークＡＭＭ１
及びＡＭＭ２に投影され、これらアライメントマークＡ
ＭＭ１及びＡＭＭ２が透孔９１であることにより、この
透孔９１を透過したアライメントマークＡＭＳ１及びＡ
ＭＳ２の照明像がアライメントマーク検出機構７０にお
けるマーク検出部７１ａ及び７１ｂの光案内筒７９ａ及
び７９ｂに導入され、これら光案内筒７９ａ及び７９ｂ
内を通ってＣＣＤイメージセンサ８０ａ及び８０ｂに結
像される。In this way, the alignment mark AMS1
By irradiating the illumination light onto AMS2 and AMS2, the illumination images of the alignment marks AMS1 and AMS2 are projected onto the alignment mark AMM1 of the mask M by the projection lens PL.
and AMM2, these alignment marks A
Since MM1 and AMM2 are through-holes 91, alignment marks AMS1 and A that have passed through the through-holes 91
The illumination image of MS2 is introduced into the light guide tubes 79a and 79b of the mark detection sections 71a and 71b in the alignment mark detection mechanism 70, and these light guide tubes 79a and 79b
The light passes through the interior and is imaged onto CCD image sensors 80a and 80b.
【００２７】したがって、ＣＣＤイメージセンサ８０ａ
及び８０ｂでは、マスクＭのアライメントマークＡＭＭ
１及びＡＭＭ２と被露光部材ＳのアライメントマークＡ
ＭＳ１及びＡＭＳ２とが重畳された図１４に示す画像出
力を得ることができる。このとき、図１４で実線図示の
ように、被露光部材ＳのアライメントマークＡＭＳ１及
びＡＭＳ２の垂直線ＬＶ 及び水平線ＬＨ と、これら
に対向するマスクＭのアライメントマークＡＭＭ１及び
ＡＭＭ２の対向辺との距離が等しくなって、被露光部材
ＳのアライメントマークＡＭＳ１及びＡＭＳ２がマスク
ＭのアライメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ２の中央に
位置する場合には、被露光部材ＳとマスクＭとが整合し
ており、且つ投影レンズＰＬが両者の中間位置にあって
、倍率が１：１となっていることを確認することができ
る。Therefore, the CCD image sensor 80a
and 80b, alignment marks AMM of mask M
1 and AMM2 and the alignment mark A of the exposed member S
An image output shown in FIG. 14 in which MS1 and AMS2 are superimposed can be obtained. At this time, as shown by the solid line in FIG. 14, the distance between the vertical line LV and horizontal line LH of the alignment marks AMS1 and AMS2 of the exposed member S and the opposing sides of the alignment marks AMM1 and AMM2 of the mask M that oppose them is When the alignment marks AMS1 and AMS2 of the member to be exposed S are located at the center of the alignment marks AMM1 and AMM2 of the mask M, the member to be exposed S and the mask M are aligned, and the projection lens PL It can be confirmed that the image is located at an intermediate position between the two, and the magnification is 1:1.
【００２８】ところが、ＣＣＤイメージセンサ８０ａ及
び８０ｂの画像出力が、図１４で鎖線図示のように、Ｃ
ＣＤイメージセンサ８０ａについてはアライメントマー
クＡＭＳ１が上方にずれ、ＣＣＤイメージセンサ８０ｂ
についてはアライメントマークＡＭＳ２がアライメント
マークＡＭＳ１のずれ量ΔＸ１ より大きなずれ量ΔＸ
２ だけ下側にずれているときには、被露光部材Ｓとマ
スクＭとの相対位置がずれていると共に、投影レンズＰ
Ｌが被露光部材Ｓ側に寄っていてその倍率が例えば１．
１ ：０．９ となっていると判断することができる。
このため、例えばマスク保持機構３０のステージ移動機
構３６によってマスクステージ３５を下降させてマスク
Ｍを下降させることにより、各アライメントマークＡＭ
Ｓ１及びＡＭＳ２のアライメントマークＡＭＭ１及びＡ
ＭＭ２の中心からのずれ量が等しくなるように調整する
。この調整が終了したら、レンズ保持機構４０の直線移
動機構４８を駆動して投影レンズＰＬを徐々に後退させ
る。これによって、各アライメントマークＡＭＳ１及び
ＡＭＳ２がアライメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ２の
中心に向かって移動し、これが中心位置に達したときに
投影レンズＰＬの後退を停止することにより、投影レン
ズＰＬの倍率が１：１となる。However, the image outputs of the CCD image sensors 80a and 80b, as shown by the chain lines in FIG.
Regarding the CD image sensor 80a, the alignment mark AMS1 shifts upward, and the CCD image sensor 80b
, the alignment mark AMS2 has a deviation amount ΔX greater than the deviation amount ΔX1 of the alignment mark AMS1.
2, the relative positions of the exposed member S and the mask M are shifted, and the projection lens P
L is closer to the exposed member S side and the magnification is, for example, 1.
It can be determined that the ratio is 1:0.9. For this reason, for example, by lowering the mask stage 35 by the stage moving mechanism 36 of the mask holding mechanism 30 and lowering the mask M, each alignment mark AM
Alignment marks AMM1 and A of S1 and AMS2
Adjust so that the amount of deviation from the center of MM2 is equal. When this adjustment is completed, the linear movement mechanism 48 of the lens holding mechanism 40 is driven to gradually retreat the projection lens PL. As a result, the alignment marks AMS1 and AMS2 move toward the centers of the alignment marks AMM1 and AMM2, and when they reach the center positions, the projection lens PL stops retreating, thereby increasing the magnification of the projection lens PL to 1: It becomes 1.
【００２９】さらに、マスクＭと被露光部材Ｓとに角度
ずれが生じている場合には、被露光部材Ｓのアライメン
トマークＡＭＳ１及びＡＭＳ２の中心がマスクＭのアラ
イメントマークＡＭＭ１及びＡＭＭ２に対して時計方向
又は反時計方向にずれて検出されるので、マスク保持機
構３０の垂直方向駆動部３６ａ，３６ｂ及び水平方向駆
動部３６ｃを調整してマスクＭを微回動させることによ
って回転方向の調整を行う。Furthermore, if there is an angular deviation between the mask M and the exposed member S, the centers of the alignment marks AMS1 and AMS2 on the exposed member S are clockwise relative to the alignment marks AMM1 and AMM2 of the mask M. Alternatively, since it is detected with a shift in the counterclockwise direction, the rotation direction is adjusted by adjusting the vertical drive parts 36a, 36b and the horizontal drive part 36c of the mask holding mechanism 30 to slightly rotate the mask M.
【００３０】この結果、アライメントマーク検出機構７
０で検出した被露光部材ＳのアライメントマークＡＭＳ
１及びＡＭＳ２をマスクＭのアライメントマークＡＭＭ
１及びＡＭＭ２の中心位置に一致させることにより、被
露光部材ＳとマスクＭの相対位置調整と、投影レンズＰ
Ｌの倍率調整との双方を同時に行うことができる。この
ように、被露光部材ＳとマスクＭとのアライメントを完
了したら、光源装置１のシャッター１６を開いて露光を
開始する。すなわち、シャッター１６を開くことにより
、赤外域の波長を除去し、且つフィルタ１７で露光波長
のみとなった露光光が全反射鏡１８で反射され、この反
射光を凹面鏡１９で水平光軸Ｌ１ 方向に反射し、イン
テグレータ１５の出口の光像がマスクＭを透過して投影
レンズＰＬの入射瞳に結像される。このため、マスクＭ
に形成された露光パターンが被露光部材Ｓの露光領域に
等倍で露光される。As a result, the alignment mark detection mechanism 7
Alignment mark AMS of exposed member S detected at 0
1 and AMS2 as alignment marks AMM of mask M
1 and AMM2, the relative position adjustment of the exposed member S and the mask M, and the projection lens P
Both the L magnification adjustment and the L magnification adjustment can be performed at the same time. After completing the alignment of the member S to be exposed and the mask M in this way, the shutter 16 of the light source device 1 is opened to start exposure. That is, by opening the shutter 16, wavelengths in the infrared region are removed, and the exposure light, which is reduced to only the exposure wavelength by the filter 17, is reflected by the total reflection mirror 18, and this reflected light is reflected by the concave mirror 19 in the horizontal optical axis L1 direction. The light image at the exit of the integrator 15 passes through the mask M and is focused on the entrance pupil of the projection lens PL. For this reason, the mask M
The exposure pattern formed in is exposed to the exposure area of the member S to be exposed at the same magnification.
【００３１】その後、パターンの露光が完了したら、光
源装置１のシャッター１６を閉じて、露光光を遮断し、
次いで露光部材保持機構５０の水平移動テーブル５２（
又は垂直移動テーブル５３）を水平方向（又は垂直方向
）に移動させ、隣接する新たな露光領域を投影レンズＰ
Ｌに対向させ、この状態でアライメントマーク検出機構
７０のマーク検出結果に基づいて再度マスクＭと被露光
部材Ｓとの相対位置調整及び投影レンズＰＬの倍率調整
を行ってから光源装置１のシャッター１６を開いてマス
クＭの露光パターンを被露光部材Ｓの露光領域に露光す
る。After that, when the exposure of the pattern is completed, the shutter 16 of the light source device 1 is closed to block the exposure light,
Next, the horizontal movement table 52 of the exposure member holding mechanism 50 (
Or move the vertical movement table 53) in the horizontal direction (or vertical direction) and move the adjacent new exposure area to the projection lens P.
In this state, the relative position between the mask M and the exposed member S and the magnification of the projection lens PL are adjusted again based on the mark detection results of the alignment mark detection mechanism 70, and then the shutter 16 of the light source device 1 is is opened to expose the exposure area of the member S to be exposed with the exposure pattern of the mask M.
【００３２】その後、露光部材保持機構５０をステップ
アンドリピートして順次被露光部材Ｓの露光領域にマス
クＭの露光パターンを露光し、全ての露光領域に対する
露光が完了したら、チャンバー２０の開閉扉２０ｂを開
き、次いで露光部材保持機構５０の保持チャック５４の
真空吸着状態を解除して露光済の被露光部材Ｓを取出し
、新たな被露光部材Ｓを保持チャック５４に位置決め保
持させてから、開閉扉２０ｂを閉じ、前述したと同様の
露光動作を行う。Thereafter, the exposure member holding mechanism 50 is operated in a step-and-repeat manner to sequentially expose the exposure areas of the exposed member S with the exposure pattern of the mask M, and when all the exposure areas have been exposed, the opening/closing door 20b of the chamber 20 is opened. , then release the vacuum suction state of the holding chuck 54 of the exposure member holding mechanism 50, take out the exposed member S that has already been exposed, position and hold the new exposed member S on the holding chuck 54, and then close the opening/closing door. 20b is closed, and the same exposure operation as described above is performed.
【００３３】このように、上記実施例によると、光源装
置１でダイクロイックミラー１２によって赤外域の波長
を透過させることにより、露光光に赤外域の波長が含ま
れることがないので、この露光光によるマスクＭ及び被
露光部材Ｓの熱膨張を抑制することができると共に、光
源装置１と露光装置本体２とが分離独立しているので、
光源装置１で発生する熱が露光装置本体２に影響するこ
とを確実に防止することができ、しかもチャンバー２０
には露光装置本体２のみを収納すればよいので、チャン
バー２０自体を小型化することができ、イニシャルコス
ト及びランニングコストを低減することができる。As described above, according to the above embodiment, by transmitting wavelengths in the infrared region by the dichroic mirror 12 in the light source device 1, the exposure light does not include wavelengths in the infrared region. Since thermal expansion of the mask M and the exposed member S can be suppressed, and the light source device 1 and the exposure device main body 2 are separated and independent,
It is possible to reliably prevent the heat generated in the light source device 1 from affecting the exposure device main body 2, and also to prevent the heat generated by the light source device 1 from affecting the exposure device body 2.
Since only the exposure apparatus main body 2 needs to be housed in the chamber 20, the chamber 20 itself can be downsized, and initial costs and running costs can be reduced.
【００３４】また、上記実施例のように、被露光部材Ｓ
をステップアンドリピートする毎にアライメントマーク
検出機構７０の検出結果に基づいて被露光部材Ｓとマス
クＭとの相対位置調整及び投影レンズＰＬの倍率調整を
行うことにより、被露光部材Ｓ及び／又はマスクＭが熱
膨張した場合であっても、高精度の重ね合わせ露光を行
うことができる。Further, as in the above embodiment, the member to be exposed S
By adjusting the relative position of the exposed member S and the mask M and adjusting the magnification of the projection lens PL based on the detection result of the alignment mark detection mechanism 70 each time step and repeat is performed, the exposed member S and/or the mask Even if M undergoes thermal expansion, highly accurate overlapping exposure can be performed.
【００３５】さらに、露光部材保持機構５０によって被
露光部材Ｓが垂直方向に保持されているので、その自重
による撓みを防止することができ、高精度の露光を行う
ことができる。またさらに、被露光部材Ｓのアライメン
トマークＡＭＳ１及びＡＭＳ２に対する照明機構６０の
照明光を小さなスポット状としているので、この照明光
による被露光部材Ｓの熱膨張を防止することができる。Furthermore, since the member S to be exposed is held vertically by the exposure member holding mechanism 50, it is possible to prevent the member S from bending due to its own weight, and highly accurate exposure can be performed. Furthermore, since the illumination light of the illumination mechanism 60 for the alignment marks AMS1 and AMS2 of the exposed member S is in the form of a small spot, thermal expansion of the exposed member S due to this illumination light can be prevented.
【００３６】なお、上記実施例においては、光源装置１
を発光源１４から出射されてインテグレータ１５を透過
した露光光を全反射鏡１８及び凹面鏡１９によって光軸
変更して水平光軸Ｌ１ 上に集光させるようにした場合
について説明したが、これに限定されるものではなく、
発光源１４から出射されてインテグレータ１５を透過し
た露光光を水平光軸Ｌ１ 上に所定間隔を保った配置し
た２枚の凸レンズによって投影レンズＰＬの入射瞳位置
に集光させるようにしてもよい。Note that in the above embodiment, the light source device 1
A case has been described in which the exposure light emitted from the light emitting source 14 and transmitted through the integrator 15 is changed in optical axis by the total reflection mirror 18 and the concave mirror 19 and focused on the horizontal optical axis L1, but the present invention is limited to this. It is not something that is done, but
The exposure light emitted from the light emitting source 14 and transmitted through the integrator 15 may be focused at the entrance pupil position of the projection lens PL by two convex lenses arranged at a predetermined distance on the horizontal optical axis L1.
【００３７】また、露光装置本体２を構成するマスク保
持機構３０、投影レンズ保持機構４０、露光部材保持機
構５０、照明機構６０、及びアライメントマーク検出機
構７０の構成は上記実施例の構成に限定されるものでは
なく、任意の構成とすることができる。さらに、上記実
施例では、投影レンズＰＬを水平光軸Ｌ１ の方向に移
動可能とした場合について説明したが、これに代えてマ
スク保持機構３０及び被露光部材保持機構５０を水平光
軸Ｌ１ の方向に移動可能に構成するようにしてもよい
。Furthermore, the configurations of the mask holding mechanism 30, projection lens holding mechanism 40, exposure member holding mechanism 50, illumination mechanism 60, and alignment mark detection mechanism 70 that constitute the exposure apparatus main body 2 are limited to the configurations of the above embodiments. It is not limited to the following, but can be of any configuration. Further, in the above embodiment, a case has been described in which the projection lens PL is movable in the direction of the horizontal optical axis L1, but instead of this, the mask holding mechanism 30 and the exposed member holding mechanism 50 are moved in the direction of the horizontal optical axis L1. It may be configured to be movable.
【００３８】次に、この発明に適用し得る露光部材保持
機構５０の他の実施例を図１５〜図１７について説明す
る。この実施例は、被露光部材Ｓとしてのシャドウマス
ク等の大型で厚みの薄いガラス板を歪を生じることなく
保持することが可能な露光部材保持機構５０を提供する
ものである。Next, another embodiment of the exposure member holding mechanism 50 applicable to the present invention will be described with reference to FIGS. 15 to 17. This embodiment provides an exposure member holding mechanism 50 that can hold a large and thin glass plate such as a shadow mask as an exposed member S without causing distortion.
【００３９】すなわち、図１５に示すように、方形枠状
の垂直移動テーブル５３の右端面の四隅に夫々被露光部
材Ｓを吸着保持する真空吸着部１００ａ〜１００ｄを右
端面に形成した保持チャック１０１ａ〜１０１ｄと、こ
れら保持チャック１０１ａ〜１０１ｄに保持される被露
光部材Ｓを不必要な歪を生じるさせることなくクランプ
するクランプ機構１０２とを備えている。That is, as shown in FIG. 15, a holding chuck 101a has vacuum suction parts 100a to 100d formed on the right end surface of a rectangular frame-shaped vertically movable table 53 for sucking and holding the exposed member S at the four corners of the right end surface, respectively. 101d, and a clamp mechanism 102 that clamps the exposed member S held by these holding chucks 101a to 101d without causing unnecessary distortion.
【００４０】保持チャック１０１ａ〜１０１ｄの夫々は
、保持する被露光部材Ｓの厚みにかかわらず真空吸着部
１００ａ〜１００ｄの突出長即ち被露光部材Ｓの保持面
Ｈを一定とするように予め設定されている。クランプ機
構１０２は、図１６及び図１７を参照して明らかなよう
に、保持チャック１０１ａ及び１０１ｂの左側並びに保
持チャック１０１ｃ及び１０１ｄの右側に夫々回動自在
に配設された中空の回動軸１０３Ａ並びに１０３Ｂと、
これら回動軸１０３Ａ及び１０３Ｂの下端部にカップリ
ング１０４Ａ及び１０４Ｂを介して連結されたロータリ
アクチュエータ１０５Ａ及び１０５Ｂと、回動軸１０３
Ａ及び１０３Ｂの保持チャック１０１ａ〜１０１ｄの真
空吸着部１００ａ〜１００ｄに対向する位置に夫々固定
されたＬ字状の支持片１０６ａ〜１０６ｄと、これら支
持片１０５ａ〜１０５ｄに装着されたクランプ部材１０
７ａ〜１０７ｄとで構成されている。Each of the holding chucks 101a to 101d is set in advance so that the protruding length of the vacuum suction portions 100a to 100d, that is, the holding surface H of the exposed member S, is constant regardless of the thickness of the exposed member S held. ing. As is clear from FIGS. 16 and 17, the clamp mechanism 102 includes a hollow rotation shaft 103A rotatably disposed on the left side of the holding chucks 101a and 101b and on the right side of the holding chucks 101c and 101d. and 103B,
Rotary actuators 105A and 105B are connected to the lower ends of these rotating shafts 103A and 103B via couplings 104A and 104B, and rotating shaft 103
L-shaped support pieces 106a to 106d fixed at positions facing the vacuum suction parts 100a to 100d of the holding chucks 101a to 101d of A and 103B, respectively, and the clamp member 10 attached to these support pieces 105a to 105d.
7a to 107d.
【００４１】ここで、回動軸１０３Ａ及び１０３Ｂの夫
々は、図１６に示すように、上端に被冠された軸部１０
８Ａ及び１０８Ｂが保持チャック１０１ａ及び１０１ｃ
の上端面に形成されたすべり軸受１０９Ａ及び１０９Ｂ
の透孔１１０Ａ及び１１０Ｂ内に挿入保持され、下端部
が垂直移動テーブル５３の保持チャック１０１ｂ及び１
０１ｄの下端面に形成された支持板１１１Ａ及び１１１
Ｂに保持されたロータリアクチュエータ１０５Ａ及び１
０５Ｂの回動軸にカップリング１０４Ａ及び１０４Ｂを
介して連結され、ロータリアクチュエータ１０５Ａ及び
１０５Ｂが退避回動位置にある状態でクランプ機構１０
２の支持片１０６ａ〜１０６ｄが保持チャック１０１ａ
〜１０１ｄの被露光部材Ｓの保持面より垂直移動テーブ
ル５３側となるように選定され、この退避回動位置から
ロータリアクチュエータ１０５Ａ及び１０５Ｂを１５０
度回動させたクランプ位置で、支持片１０６ａ〜１０６
ｄのクランプ部材１０７ａ〜１０７ｄが被露光部材Ｓに
その保持方向と直交する方向に対向するように設定され
ている。Here, each of the rotation shafts 103A and 103B has a shaft portion 10 crowned at the upper end, as shown in FIG.
8A and 108B are holding chucks 101a and 101c
Slide bearings 109A and 109B formed on the upper end surface of
are inserted and held in the through holes 110A and 110B of the
Support plates 111A and 111 formed on the lower end surface of 01d
Rotary actuators 105A and 1 held in B
05B via couplings 104A and 104B, and when the rotary actuators 105A and 105B are in the retracted rotation position, the clamp mechanism 10
The second support pieces 106a to 106d are the holding chuck 101a.
~101d is selected so that it is closer to the vertical movement table 53 than the holding surface of the exposed member S, and the rotary actuators 105A and 105B are moved from this retracted rotation position to 150
At the clamp position rotated once, the support pieces 106a to 106
Clamp members 107a to 107d of d are set to face the exposed member S in a direction orthogonal to the holding direction thereof.
【００４２】また、クランプ部材１０７ａ〜１０７ｄの
夫々は、図１７に示すように、支持片１０６ａ〜１０６
ｄの先端側にロータリアクチュエータ１０５Ａ及び１０
５Ｂがクランプ位置にある状態で、右端側となるように
取付けられ、左端面側から水平方向にシリンダボア１１
２が形成され、このシリンダボア１１２内にピンピスト
ン１１３が摺動自在に配設され、このピンピストン１１
３に連結されたピストンロッド１１４の先端に被露光部
材Ｓに接触するゴムパッド１１５が装着され、さらにピ
ストンロッド１１４の周りにピンピストン１１３を外方
に付勢するコイルスプリング１１６が内装された構成を
有し、ゴムパッド１１５が支持片１０６ａ〜１０６ｄに
形成された透孔１０６ｅを通じて被露光部材Ｓと対向さ
れている。そして、シリンダボア１１２のピストンロッ
ド１１４とは反対側に空気通路１１７が形成され、この
空気通路１１７がホースエルボ１１８，ホース１１９を
介して回動軸１０３Ａ及び１０３Ｂの空洞内に接続され
、これら回動軸１０３Ａ及び１０３Ｂの空洞がホースエ
ルボ１２０及びホース１２１を介し、さらに電磁方向切
換弁１２２を介して加圧空気供給源１２３に接続され、
電磁方向切換弁１２２を加圧空気供給源１２３側に切換
えることにより、ピンピストン１１３がコイルスプリン
グ１１６に抗して左動することによりゴムパッド１１５
が被露光部材Ｓの右端面に当接して被露光部材Ｓをクラ
ンプし、電磁方向切換弁１２２を大気側に切換えること
により、ピンピストン１１３がコイルスプリング１１６
によって右動してゴムパッド１１５が被露光部材Ｓから
離間する。Further, as shown in FIG. 17, each of the clamp members 107a to 107d has support pieces 106a to 106.
Rotary actuators 105A and 10 are installed on the tip side of d.
5B is in the clamp position, it is installed so that it is on the right end side, and the cylinder bore 11 is installed horizontally from the left end side.
2 is formed, and a pin piston 113 is slidably disposed in this cylinder bore 112, and this pin piston 11
A rubber pad 115 that contacts the exposed member S is attached to the tip of a piston rod 114 connected to the piston rod 114, and a coil spring 116 that biases the pin piston 113 outward is installed around the piston rod 114. The rubber pad 115 faces the exposed member S through the through holes 106e formed in the support pieces 106a to 106d. An air passage 117 is formed on the opposite side of the cylinder bore 112 from the piston rod 114, and this air passage 117 is connected to the cavities of the rotation shafts 103A and 103B via a hose elbow 118 and a hose 119. The cavities 103A and 103B are connected to a pressurized air supply source 123 via a hose elbow 120 and a hose 121 and via an electromagnetic directional valve 122;
By switching the electromagnetic directional switching valve 122 to the pressurized air supply source 123 side, the pin piston 113 moves to the left against the coil spring 116, and the rubber pad 115
contacts the right end surface of the exposed member S, clamps the exposed member S, and switches the electromagnetic direction switching valve 122 to the atmosphere side, so that the pin piston 113 is moved to the coil spring 116.
The rubber pad 115 is moved to the right and separated from the member S to be exposed.
【００４３】次に、上記実施例の動作を説明する。今、
露光部材保持機構５０に被露光部材Ｓを保持していない
状態では、クランプ機構１０２のロータリアクチュエー
タ１０５Ａ及び１０５Ｂが退避回動位置に制御され、こ
れによってクランプ機構１０２の支持片１０６ａ〜１０
６ｄが、図１７で鎖線図示のように、被露光部材Ｓの保
持面より垂直移動テーブル５３側に位置することになり
、この状態では、被露光部材Ｓの保持面より右側には何
ら突出物が存在しないので、大型の薄いガラス板でなる
被露光部材Ｓのローディング及びアンローディングを適
当なローディング装置によって容易に行うことができる
。Next, the operation of the above embodiment will be explained. now,
When the exposure member holding mechanism 50 does not hold the exposed member S, the rotary actuators 105A and 105B of the clamp mechanism 102 are controlled to the retracted rotation position, and thereby the support pieces 106a to 10 of the clamp mechanism 102
6d is located closer to the vertical movement table 53 than the holding surface of the exposed member S, as shown by the chain line in FIG. Therefore, the exposed member S made of a large thin glass plate can be easily loaded and unloaded using an appropriate loading device.
【００４４】したがって、ローディング装置によって被
露光部材Ｓをその四隅が保持チャック１０１ａ〜１０１
ｄの真空吸着部１００ａ〜１００ｄに対向するようにロ
ーディングし、この状態で真空吸着部１００ａ〜１００
ｄを作動状態として被露光部材Ｓを真空吸着する。その
後、ロータリアクチュエータ１０５Ａ及び１０５Ｂを作
動状態としてクランプ回動位置に回動させる。これによ
って、回動軸１０３Ａ及び１０３Ｂが夫々１５０度程度
回動し、クランプ部材１０７ａ〜１０７ｄが被露光部材
Ｓに直角方向から対向することになる。この状態で電磁
方向切換弁１２２を切換えて加圧空気供給源１２３から
の加圧空気が回動軸１０３Ａ及び１０３Ｂを介してクラ
ンプ部材１０７ａ〜１０７ｄのシリンダボア１１２内に
供給されることにより、ピンピストン１１３が図１７で
被露光部材Ｓ側に移動し、これに応じてゴムパッド１１
５が被露光部材Ｓに対して直角方向から接触して被露光
部材Ｓを確実にクランプすることができる。Therefore, the four corners of the exposed member S are held by the loading chucks 101a to 101.
d so as to face the vacuum suction parts 100a to 100d, and in this state, the vacuum suction parts 100a to 100d
d is activated, and the member S to be exposed is vacuum-adsorbed. Thereafter, the rotary actuators 105A and 105B are activated and rotated to the clamp rotation position. As a result, the rotation axes 103A and 103B each rotate about 150 degrees, and the clamp members 107a to 107d face the member S to be exposed at right angles. In this state, by switching the electromagnetic directional control valve 122 and supplying pressurized air from the pressurized air supply source 123 into the cylinder bores 112 of the clamp members 107a to 107d via the rotation shafts 103A and 103B, the pin piston 113 moves to the exposed member S side in FIG. 17, and accordingly, the rubber pad 11
5 comes into contact with the exposed member S from the perpendicular direction and can reliably clamp the exposed member S.
【００４５】その後、クランプ動作の確認を経て、ロー
ディング装置を退避させる。このとき、クランプ機構１
０２が支持片１０６ａ〜１０６ｄを回動させる回動軸１
０３Ａ及び１０３Ｂとロータリアクチュエータ１０５Ａ
及び１０５Ｂとで構成さる回動機構と、ゴムパッド１１
５を被露光部材Ｓに対して直角方向に進退させるシリン
ダ機構とで構成されているので、クランプ機構１０２に
よるクランプ力を被露光部材Ｓに対して直角方向から作
用させることができ、力の作用方向が斜め方向となって
被露光部材Ｓに歪を生じることを確実に防止することが
でき、大型で厚みの薄い被露光部材Ｓを撓みや歪を生じ
させることなく確実に保持することができると共に、ロ
ータリアクチュエータ１０５Ａ及び１０５Ｂを退避回動
位置に制御したときに、クランプ機構１０２を構成する
各部品が保持チャック１０１ａ〜１０１ｄで吸着保持さ
れた被露光部材Ｓより右側面側に突出することがないの
で、被露光部材Ｓのローディング装置による脱着を容易
に行うことができる。[0045] Thereafter, after confirming the clamping operation, the loading device is evacuated. At this time, the clamp mechanism 1
02 is a rotation shaft 1 for rotating the support pieces 106a to 106d.
03A and 103B and rotary actuator 105A
and 105B, and the rubber pad 11.
5 is configured with a cylinder mechanism that advances and retreats in a direction perpendicular to the exposed member S, the clamping force by the clamp mechanism 102 can be applied to the exposed member S from the perpendicular direction, and the effect of the force is reduced. It is possible to reliably prevent the exposed member S from being distorted due to the oblique direction, and it is possible to reliably hold the large and thin exposed member S without bending or distorting it. At the same time, when the rotary actuators 105A and 105B are controlled to the retracted rotation position, each component constituting the clamp mechanism 102 can protrude to the right side from the exposed member S held by suction by the holding chucks 101a to 101d. Therefore, the exposed member S can be easily attached and detached by the loading device.
【００４６】なお、上記実施例においては、回動軸１０
３Ａ及び１０３Ｂの内部を加圧空気通路として直接使用
した場合について説明したが、これに限定されるもので
はなく、別途空気管路を内装するようにしてもよい。ま
た、上記実施例においては、クランプ部材１０７ａ〜１
０７ｄを空気圧シリンダ構成とした場合について説明し
たが、これに限定されるものではなく、ボールネジやラ
ックアンドピニオン等を使用した直線駆動機構を適用す
ることもできる。Note that in the above embodiment, the rotation shaft 10
Although the case has been described in which the insides of 3A and 103B are directly used as pressurized air passages, the present invention is not limited to this, and air pipes may be provided separately. Further, in the above embodiment, the clamp members 107a to 1
Although the case where 07d has a pneumatic cylinder configuration has been described, the present invention is not limited to this, and a linear drive mechanism using a ball screw, rack and pinion, etc. can also be applied.
【００４７】次に、この発明に適用し得る露光部材保持
機構５０の他の実施例を図１８〜図２１について説明す
る。この実施例は、被露光部材Ｓとしてのシャドウマス
ク等の大型で厚みの薄いガラス板をローディング装置に
よって水平状態で受け渡しすることが可能な露光部材保
持機構５０を提供するものである。Next, another embodiment of the exposure member holding mechanism 50 applicable to the present invention will be described with reference to FIGS. 18 to 21. This embodiment provides an exposure member holding mechanism 50 that is capable of horizontally transferring a large, thin glass plate such as a shadow mask as the member S to be exposed using a loading device.
【００４８】すなわち、図１８及び図１９に示すように
、方形枠状の垂直移動テーブル５３の右端面における開
口部の四隅に夫々被露光部材Ｓの基準位置を設定する基
準ストッパ２０１ａ〜２０１ｄが突出形成されていると
共に、下端側に所定間隔を保って２つの支柱２０２ａ，
２０２ｂが突出形成されている。各支柱２０２ａ，２０
２ｂには、夫々比較的短い杆部２０３とこれより長い杆
部２０４とで略Ｌ字状に形成された回動レバー２０５ａ
，２０５ｂがその屈折部位置で枢着されている。That is, as shown in FIGS. 18 and 19, reference stoppers 201a to 201d for setting the reference position of the exposed member S are protruded from the four corners of the opening on the right end surface of the rectangular frame-shaped vertically movable table 53, respectively. At the same time, two pillars 202a are formed at a predetermined interval on the lower end side.
202b is formed protrudingly. Each pillar 202a, 20
2b includes a rotating lever 205a formed into a substantially L-shape with a relatively short rod portion 203 and a longer rod portion 204.
, 205b are pivotally mounted at the bent portion position.
【００４９】これら回動レバー２０５ａ，２０５ｂの一
方の杆部２０３には、夫々シリンダチューブ２０６が垂
直移動テーブル５３の右端面上方部に枢着されたエアシ
リンダ２０７ａ，２０７ｂのピストンロッド２０８が枢
着され、他方の杆部２０４の先端が、保持チャック５４
の右端面における下端側に突出形成されたブラケット２
０９ａ，２０９ｂに枢着されている。Piston rods 208 of air cylinders 207a and 207b, each having a cylinder tube 206 pivoted to the upper right end surface of the vertically movable table 53, are pivoted to the rod portion 203 of one of the rotating levers 205a and 205b. The tip of the other rod portion 204 is attached to the holding chuck 54.
Bracket 2 protrudingly formed on the lower end side of the right end surface of
09a and 209b.
【００５０】一方、各回動レバー２０５ａ，２０５ｂに
おける杆部２０４の右端側中央部には、ブラケット２１
０ａ，２１０ｂが突設され、これらブラケット２１０ａ
，２１０ｂにエアシリンダ２１１ａ，２１１ｂのシリン
ダチューブ２１２が枢着され、このエアシリンダ２１１
ａ，２１１ｂのピストンロッド２１３の先端が保持チャ
ック５４の右端面における上端側に突出形成されたブラ
ケット２１４ａ，２１４ｂに枢着されている。On the other hand, a bracket 21 is provided at the center of the right end side of the rod portion 204 of each rotating lever 205a, 205b.
0a, 210b are provided protrudingly, and these brackets 210a
, 210b, the cylinder tubes 212 of the air cylinders 211a, 211b are pivotally attached to the air cylinders 211a, 210b.
The tips of the piston rods 213 a and 211b are pivotally connected to brackets 214a and 214b that protrude from the upper end side of the right end surface of the holding chuck 54.
【００５１】ここで、エアシリンダ２０７ａ，２０７ｂ
のピストンロッド２０８のストロークは、図１９で一点
鎖線図示のように、被露光部材Ｓの露光基準面が垂直移
動テーブル５３の基準ストッパ２０１ａ〜２０１ｄに当
接する回動レバー２０５ａ，２０５ｂの回動位置から時
計方向に約５０°程度回動した実線図示の回動位置まで
の間で往復動可能な値に選定されていると共に、エアシ
リンダ２１１ａ，２１１ｂのピストンロッド２１３のス
トロークは、保持チャック５４が、図１９で実線図示の
ように、被露光部材Ｓが水平状態となる回動位置と、こ
の回動位置からブラケット２０９ａ，２０９ｂを支点と
して反時計方向に約４０°程度回動した二点鎖線図示の
回動位置との間で往復動可能な値に選定されている。[0051] Here, air cylinders 207a, 207b
The stroke of the piston rod 208 corresponds to the rotational position of the rotational levers 205a and 205b at which the exposure reference surface of the exposed member S contacts the reference stoppers 201a to 201d of the vertical movement table 53, as shown by the dashed line in FIG. The strokes of the piston rods 213 of the air cylinders 211a and 211b are selected such that the holding chuck 54 , as shown by the solid line in FIG. 19, a rotational position where the exposed member S is in a horizontal state, and a two-dot chain line at which the exposed member S is rotated approximately 40 degrees counterclockwise from this rotational position using the brackets 209a and 209b as fulcrums. The value is selected to allow reciprocating movement between the rotational position shown in the figure.
【００５２】また、保持チャック５４は、図２０及び図
２１に示すように、方形の平板部５４ａと、その各側縁
から下方に延長する枠状部５４ｂとで構成され、平板部
５４ａの上面には、図２０に示すように、被露光部材Ｓ
の位置決めを行う３本の位置決めピン２２１ａ〜２２１
ｃが突設されていると共に、これら位置決めピン２２１
ａ〜２２１ｃで位置決めされた被露光部材Ｓで覆われる
位置に方形で互いに相似形の吸着溝２２２ａ〜２２２ｃ
が形成され、各吸着溝２２２ａ〜２２２ｃは、図２１に
示すように、一端が真空吸着源（図示せず）に接続され
たフレキシブルホース２２３の他端が接続された継手２
２４が裏面側から接続されている。Further, as shown in FIGS. 20 and 21, the holding chuck 54 is composed of a rectangular flat plate part 54a and a frame-shaped part 54b extending downward from each side edge of the rectangular flat plate part 54a. As shown in FIG. 20, the exposed member S
Three positioning pins 221a to 221 for positioning
c protrudes, and these positioning pins 221
Rectangular suction grooves 222a to 222c that are similar in shape to each other are located at positions covered by the exposed member S positioned at a to 221c.
As shown in FIG. 21, each suction groove 222a to 222c is connected to a flexible hose 223, one end of which is connected to a vacuum suction source (not shown), and the other end of which is connected to a joint 2.
24 are connected from the back side.
【００５３】さらに、平板部５４ａには、外側の吸着溝
２２２ｃの外側で且つ被露光部材Ｓで覆われる位置に被
露光部材Ｓを平板部５４ａの上面から所定距離Ｌだけ上
昇させる受渡しアクチュエータ２２５ａ〜２２５ｄが配
設されている。これら受渡しアクチュエータ２２５ａ〜
２２５ｄの夫々は、図２１に示すように、平板部５４ａ
に形成された透孔２２６の下面側に支持フレーム２２７
が形成され、この支持フレーム２２７にエアシリンダ２
２８のシリンダチューブ２２８ａが固着され、エアシリ
ンダ２２８の先端に被露光部材Ｓを受けるゴム等の支持
片２２９が装着されたピストンロッド２３０が透孔２２
６を通じて上下に進退自在に構成されている。Further, on the flat plate part 54a, there are delivery actuators 225a to 225a for raising the exposed member S by a predetermined distance L from the upper surface of the flat plate part 54a to a position outside the outer suction groove 222c and covered with the exposed member S. 225d is provided. These delivery actuators 225a~
As shown in FIG. 21, each of 225d is a flat plate portion 54a.
A support frame 227 is attached to the bottom side of the through hole 226 formed in the
is formed, and the air cylinder 2 is attached to this support frame 227.
28 cylinder tubes 228a are fixed, and a piston rod 230 with a support piece 229 made of rubber or the like attached to the tip of the air cylinder 228 for receiving the exposed member S is inserted into the through hole 22.
6, it is configured to move up and down freely.
【００５４】そして、図２０及び図２１に示すように、
水平状態にある平板部５４ａの上面と、受渡しアクチュ
エータ２２５ａ〜２２５ｄによって上昇された被露光部
材Ｓとの間に、鎖線図示のローディング機構を構成する
上面に真空吸着溝を形成したローディング用移載アーム
２３１Ｌ及びアンローディング用移載アーム２３１Ｕが
夫々相対向して進退自在に配設されている。[0054] As shown in FIGS. 20 and 21,
Between the upper surface of the flat plate part 54a in a horizontal state and the exposed member S raised by the delivery actuators 225a to 225d, a loading transfer arm is provided with a vacuum suction groove formed on its upper surface and constitutes a loading mechanism shown in chain lines. The unloading transfer arm 231L and the unloading transfer arm 231U are arranged to face each other and move forward and backward.
【００５５】この実施例によれば、エアシリンダ２０７
ａ，２０７ｂのピストンロッド２０８を収縮させ、且つ
エアシリンダ２１１ａ，２１１ｂのピストンロッド２１
３を収縮させた状態では、保持チャック５４が図１９で
実線図示のように、略水平状態となる。この状態で、ロ
ーディング用移載アーム２３１Ｌの上面に被露光部材Ｓ
を吸着保持しながら前進させて、被露光部材Ｓの前側縁
及び左側縁を夫々位置決めピン２２１ａ〜２２ｃに当接
させる。次いで、ローディング用移載アーム２３１Ｌに
よる被露光部材Ｓの真空吸着状態を解除し、その後受渡
しアクチュエータ２２５ａ〜２２５ｄのピストンロッド
２３０を伸長させる。これによって、ピストンロッド２
３０の支持片２２９が被露光部材Ｓの下面に当接してこ
れをローディング用移載アーム２３１Ｌから上方に離間
させる。According to this embodiment, the air cylinder 207
The piston rods 208 of the air cylinders 211a and 211b are contracted, and the piston rods 21 of the air cylinders 211a and 211b are
3 is in a contracted state, the holding chuck 54 is in a substantially horizontal state as shown by the solid line in FIG. In this state, the exposed member S is placed on the upper surface of the loading transfer arm 231L.
is moved forward while being sucked and held, and the front side edge and left side edge of the exposed member S are brought into contact with the positioning pins 221a to 22c, respectively. Next, the vacuum suction state of the exposed member S by the loading transfer arm 231L is released, and then the piston rods 230 of the delivery actuators 225a to 225d are extended. As a result, the piston rod 2
30 supporting pieces 229 come into contact with the lower surface of the exposed member S and separate it upward from the loading transfer arm 231L.
【００５６】この状態で、ローディング用移載アーム２
３１Ｌを後方に退出させてから、受渡しアクチュエータ
２２５ａ〜２２５ｄのピストンロッド２３０を収縮させ
て、被露光部材Ｓを保持チャック５４の平板部５４ａの
上面に接触させ、これと同時に又は遅れて吸着溝２２２
ａ〜２２２ｃを継手２２１及びフレキシブルホース２２
０を介して真空吸着源に接続することにより、被露光部
材Ｓを吸着保持する。In this state, the loading transfer arm 2
31L backward, the piston rods 230 of the delivery actuators 225a to 225d are contracted to bring the exposed member S into contact with the upper surface of the flat plate portion 54a of the holding chuck 54, and at the same time or later, the suction groove 222
a to 222c to the joint 221 and flexible hose 22
By connecting to a vacuum suction source through 0, the member S to be exposed is held by suction.
【００５７】このように、保持チャック５４で被露光部
材Ｓを吸着保持すると、先ずエアシリンダ２１１ａ，２
１１ｂのピストンロッド２１３を伸長させて、保持チャ
ック５４をブラケット２０９ａ，２０９ｂを支点として
反時計方向に角度θ１ （約４０°程度）回動させ、次
いでエアシリンダ２０７ａ，２０７ｂのピストンロッド
２０８を伸長させて回動レバー２０５ａ，２０５ｂを反
時計方向に角度θ２ （約５０°程度）回動させる。こ
れによって、保持チャック５４が略垂直状態となって、
この保持チャック５４に吸着保持している被露光部材Ｓ
の表面が垂直移動テーブル５３に形成した基準ストッパ
２０１ａ〜２０１ｄに当接されて、被露光部材の露光面
が露光基準面に位置決めされる。In this manner, when the member S to be exposed is suctioned and held by the holding chuck 54, first the air cylinders 211a, 2
11b is extended, the holding chuck 54 is rotated counterclockwise by an angle θ1 (approximately 40°) about the brackets 209a and 209b, and then the piston rods 208 of the air cylinders 207a and 207b are extended. to rotate the rotating levers 205a, 205b counterclockwise by an angle θ2 (approximately 50°). As a result, the holding chuck 54 is in a substantially vertical state,
The exposed member S held by this holding chuck 54
The surface of the member is brought into contact with the reference stoppers 201a to 201d formed on the vertically moving table 53, and the exposed surface of the member to be exposed is positioned on the exposure reference surface.
【００５８】このとき、保持チャック５４は、２組のエ
アシリンダ２０７ａ，２０７ｂ及び２１１ａ，２１１ｂ
によって回動されて水平状態から垂直状態に移行して被
露光部材Ｓが基準ストッパ２０１ａ〜２０１ｄに当接す
ることになり、回動レバー２０５ａ，２０５ｂ及び保持
チャック５４にはこれらの回動位置を規制するストッパ
が設けられていないので、例えばエアシリンダ２０７ａ
，２０７ｂの推力をエアシリンダ２１１ａ，２１１ｂの
推力より大きく設定しておくことにより、被露光部材Ｓ
の上端側が最初に基準ストッパ２０１ａ，２０１ｂにの
み当接した場合であっても、エアシリンダ２０７ａ，２
０７ｂの推力が大きいことにより、エアシリンダ２１１
ａ，２１１ｂのピストンロッド２１３が収縮して、被露
光部材Ｓの下端側が基準ストッパ２０１ｃ，２０１ｄに
当接することになり、被露光部材Ｓを各基準ストッパ２
０１ａ〜２０１ｄの全てに確実に当接させて露光基準面
に正確に一致させることができる。At this time, the holding chuck 54 has two sets of air cylinders 207a, 207b and 211a, 211b.
The exposed member S changes from the horizontal state to the vertical state by being rotated by , and comes into contact with the reference stoppers 201a to 201d. For example, air cylinder 207a
, 207b is set to be larger than the thrust of the air cylinders 211a, 211b, the exposed member S
Even if the upper end side first contacts only the reference stoppers 201a, 201b, the air cylinders 207a, 2
Due to the large thrust of 07b, air cylinder 211
The piston rods 213 of a and 211b contract, and the lower end side of the exposed member S comes into contact with the reference stoppers 201c and 201d.
01a to 201d can be brought into reliable contact with each other to accurately match the exposure reference plane.
【００５９】その後、被露光部材Ｓに対する露光が完了
すると、先ずエアシリンダ２０７ａ，２０７ｂのピスト
ンロッド２０８を収縮させ、次いでエアシリンダ２１１
ａ，２１１ｂを収縮させることにより、保持チャック５
４を図１９で実線図示の水平状態に復帰させる。そして
、この状態で、吸着溝２２２ａ〜２２２ｃを真空吸着源
から切り離すことにより、被露光部材Ｓの真空吸着状態
を解除し、これと同時に又は遅れて受渡しアクチュエー
タ２２５ａ〜２２５ｄを作動させて、エアシリンダ２２
８のピストンロッド２３０を伸長させることにより、被
露光部材Ｓを保持チャック５４の表面から所定距離離間
させる。次いで、アンローディング用移載アーム２３１
Ｕを保持チャック５４及び被露光部材Ｓ間に挿入し、こ
の挿入が完了したら受渡しアクチュエータ２２５ａ〜２
２５ｄを非作動状態として、被露光部材Ｓをアンローデ
ィング用移載アーム２３１Ｕ上に載置し、この状態で移
載アーム２３１Ｕで被露光部材Ｓを真空吸着してから移
載アーム２３１Ｕを原位置に復帰させることによって被
露光部材Ｓのアンローディングを完了する。Thereafter, when the exposure of the exposed member S is completed, the piston rods 208 of the air cylinders 207a and 207b are first contracted, and then the air cylinders 211
By contracting a and 211b, the holding chuck 5
4 is returned to the horizontal state shown by the solid line in FIG. Then, in this state, the vacuum suction state of the exposed member S is released by separating the suction grooves 222a to 222c from the vacuum suction source, and at the same time or with a delay, the delivery actuators 225a to 225d are actuated, and the air cylinder 22
By extending the piston rod 230 of No. 8, the exposed member S is separated from the surface of the holding chuck 54 by a predetermined distance. Next, the transfer arm 231 for unloading
U is inserted between the holding chuck 54 and the exposed member S, and when this insertion is completed, the delivery actuators 225a-2
25d is inactive, the exposed member S is placed on the unloading transfer arm 231U, and in this state, the exposed member S is vacuum-suctioned by the transfer arm 231U, and then the transfer arm 231U is returned to its original position. The unloading of the exposed member S is completed by returning the exposed member S to .
【００６０】その後、ローディング用移載アーム２３１
Ｌによって新たな被露光部材Ｓを保持チャック５４上に
移動させることにより、前述したと同様の動作を繰り返
して、被露光部材Ｓの露光を行う。このように、上記実
施例によると、保持チャック５４が被露光部材Ｓを垂直
状態の露光基準面に一致させる露光位置と、これに保持
した被露光部材を水平状態とする受渡し位置との間で回
動可能に構成されているので、被露光部材Ｓの受け渡し
を容易に行うことができ、従来の露光光軸が垂直型の露
光装置に適用されているローディング機構をそのまま適
用することができる利点がある。また、保持チャック５
４の回動を２組のエアシリンダを適用して行うことによ
り、エアシリンダのクッション作用によって被露光部材
Ｓを露光基準面に正確に位置決めすることができる利点
もある。After that, the loading transfer arm 231
By moving a new member S to be exposed onto the holding chuck 54 using L, the same operation as described above is repeated to expose the member S to be exposed. As described above, according to the above embodiment, the holding chuck 54 moves the exposed member S between the exposure position where it aligns the exposed member S with the exposure reference plane in the vertical state and the delivery position where the exposed member held thereon is in the horizontal state. Since it is configured to be rotatable, it is possible to easily transfer the exposed member S, and the advantage is that the loading mechanism applied to a conventional exposure apparatus with a vertical exposure light axis can be applied as is. There is. In addition, the holding chuck 5
By performing the rotation in step 4 using two sets of air cylinders, there is also the advantage that the exposed member S can be accurately positioned on the exposure reference plane due to the cushioning effect of the air cylinders.
【００６１】なお、上記図１８〜図２１の実施例におい
ては、２組のエアシリンダを設けた場合について説明し
たが、これらに代えてクッション作用の少ない油圧シリ
ンダ、或いはボールねじ等の直線移動機構などのアクチ
ュエータを適用し、これらアクチュエータと回動レバー
２０５ａ，２０５ｂ、保持チャック５４との間にクッシ
ョン作用を有するばね等の弾性体を介挿するようにして
もよい。In the embodiments shown in FIGS. 18 to 21, two sets of air cylinders are provided, but instead of these, a hydraulic cylinder with less cushioning effect or a linear movement mechanism such as a ball screw may be used. It is also possible to apply actuators such as the above, and to insert an elastic body such as a spring having a cushioning effect between these actuators and the rotating levers 205a, 205b and the holding chuck 54.
【００６２】また、上記図１８〜図２１の実施例におい
ては、回動レバー２０５ａ，２０５ｂを回動させるアク
チュエータとして、エアシリンダ２０７ａ，２０７ｂを
適用した場合について説明したが、これに限らずエアモ
ータや電動モータ等の回転駆動機構を適用するようにし
てもよい。さらに、上記図１８〜図２１の実施例におい
ては、被露光部材のローディング方向とアンローディン
グ方向とを異ならせた場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、両者を同一方向とすることも
でき、任意の方向にローディング及びアンローディング
を行うことができる。Furthermore, in the embodiments shown in FIGS. 18 to 21, the air cylinders 207a and 207b are used as the actuators for rotating the rotation levers 205a and 205b, but the invention is not limited to this. A rotational drive mechanism such as an electric motor may be applied. Further, in the embodiments shown in FIGS. 18 to 21, the case where the loading direction and the unloading direction of the exposed member are different has been described, but the invention is not limited to this, and both directions are set in the same direction. Loading and unloading can be performed in any direction.
【００６３】またさらに、前記各実施例では、水平移動
テーブル５２と垂直移動テーブル５３との間に定張力ば
ね５８を配設して垂直移動テーブル５３、保持チャック
５４及び被露光部材の重量分を支持する場合について説
明したが、これに限定されるものではなく、定張力ばね
５８に代えて、図２２に示すように、水平移動テーブル
５２の左右端縁部にカウンタバランス用エアシリンダ３
０１ａ，３０１ｂのシリンダチューブ３０２を配置し、
これらエアシリンダ３０１ａ，３０１ｂのピストンロッ
ド３０３を垂直移動テーブル５３に形成した突出片３０
４ａ，３０４ｂに係合させ、エアシリンダ３０１ａ，３
０１ｂをエア絞り弁（図示せず）を介してエア供給源に
接続することにより、供給されるエア圧と絞り弁で発生
する減衰力とでカウンタバランスを調整するようにして
もよい。Furthermore, in each of the embodiments described above, a constant tension spring 58 is disposed between the horizontally moving table 52 and the vertically moving table 53 to reduce the weight of the vertically moving table 53, the holding chuck 54, and the exposed member. Although the case where the horizontally moving table 52 is supported has been described, it is not limited to this, and instead of the constant tension spring 58, as shown in FIG.
Arrange the cylinder tubes 302 of 01a and 301b,
A protruding piece 30 formed on the vertically movable table 53 with the piston rod 303 of these air cylinders 301a, 301b
4a, 304b, and the air cylinders 301a, 3
01b to an air supply source via an air throttle valve (not shown), the counterbalance may be adjusted by the supplied air pressure and the damping force generated by the throttle valve.
【００６４】なおさらに、前記各実施例では、光源装置
１がインテグレータ１５で均一化された露光光を全反射
鏡１８及び凹面鏡１９による光軸変更手段で水平光軸に
集光させる場合について説明したが、これに限らず図２
３に示すように、下方に向けて光線を出射する水銀灯、
キセノンランプ等の光源１２と、この光源からの露光光
がシャッタ１６及び露光波長（例えばｇ線）のみを通過
させるフィルタ１７を介して入射され、これを水平光軸
Ｌ１ 方向に反射するダイクロイックミラー１３と、こ
のダイクロイックミラー１３上の照明光像を投影レンズ
ＰＬの入射瞳Ｐに結像するフレネルレンズ３１０とで構
成するようにしてもよく、この場合には図１の光源装置
１における光軸を変更する全反射鏡１８を省略すること
ができると共に、凹面鏡１９に代えてフレネルレンズ３
１０を適用しているので、構造が簡単で、省スペース化
を図ることができ、しかも製作コストを低減することが
でき、さらに凹面鏡のように取付け誤差による光軸方向
の影響が大きくならず、フレネルレンズの取付作業が容
易となる利点がある。Furthermore, in each of the above embodiments, a case has been described in which the light source device 1 condenses the exposure light uniformized by the integrator 15 onto the horizontal optical axis using the optical axis changing means including the total reflection mirror 18 and the concave mirror 19. However, this is not limited to Figure 2.
As shown in Figure 3, a mercury lamp that emits light beams downward;
A light source 12 such as a xenon lamp, and a dichroic mirror 13 that receives exposure light from this light source through a shutter 16 and a filter 17 that allows only the exposure wavelength (for example, g-line) to pass, and reflects it in the direction of the horizontal optical axis L1. and a Fresnel lens 310 that focuses the illumination light image on the dichroic mirror 13 onto the entrance pupil P of the projection lens PL. In this case, the optical axis of the light source device 1 in FIG. The total reflection mirror 18 to be changed can be omitted, and the Fresnel lens 3 can be used instead of the concave mirror 19.
10 is applied, the structure is simple, space saving can be achieved, and production costs can be reduced.Furthermore, unlike concave mirrors, the influence of mounting errors in the optical axis direction is not large. This has the advantage that the work of attaching the Fresnel lens is easy.
【００６５】[0065]
【発明の効果】以上説明したように、この発明に係る投
影露光装置によれば、光源装置から露光光を水平光軸に
沿って出射し、これを水平光軸上に配置したマスク、投
影レンズを介して被露光部材に照射することにより、マ
スクの露光パターンを被露光部材に露光するように構成
したので、被露光部材を保持機構によって、垂直状態に
保持することにより、被露光部材を水平状態に保持する
場合に比較してその自重による撓みを防止することがで
き、高精度の露光を行うことができると共に、保持機構
が被露光部材を水平光軸と直交する面内で移動可能に保
持しているので、被露光部材をステップアンドリピート
するができ、露光パターンを複数個所に露光することが
できるので、露光装置のスループットを向上させること
ができる等の効果が得られる。As explained above, according to the projection exposure apparatus according to the present invention, exposure light is emitted from the light source device along the horizontal optical axis, and the exposure light is emitted from the mask and the projection lens arranged on the horizontal optical axis. Since the exposure pattern of the mask is configured to be exposed to the exposed member by irradiating the exposed member through the It is possible to prevent deflection due to its own weight compared to when it is held in the same state, and high-precision exposure can be performed, and the holding mechanism can move the exposed member in a plane perpendicular to the horizontal optical axis. Since it is held, the member to be exposed can be step-and-repeat and the exposure pattern can be exposed at a plurality of locations, so that effects such as improving the throughput of the exposure apparatus can be obtained.
【００６６】また、投影レンズをマスク及び被露光部材
の中央位置に配置すると共に、マスク及び被露光部材を
各々独立して水平光軸と直交する面内で移動可能と構成
することにより、被露光部材とマスクとの相対位置調整
及び倍率調整を容易に行うことができ、高精度のパター
ン露光を行うことができる効果が得られる。さらに、光
源装置を独立させ、且つ赤外域の波長を除く露光光を出
射する発光源と、インテグレータで均一化された露光光
を光軸変更手段によって光軸を変更し、さらに凸面鏡に
よって水平光軸上に集光させることにより、光源装置を
小型化することができ、しかも光源装置の発熱が被露光
部材に影響することを防止して、被露光部材の熱膨張を
抑制することができると共に、露光光自体による被露光
部材の熱膨張も抑制することができ、さらにマスク、投
影レンズ及び被露光部材のみをチャンバーに収納すれば
よいので、チャンバーを小型化してそのイニシャルコス
ト及びランニングコストを低減することができる効果が
得られる。Furthermore, by arranging the projection lens at the center position of the mask and the exposed member, and configuring the mask and the exposed member to be movable independently in a plane orthogonal to the horizontal optical axis, the exposed The relative position adjustment and magnification adjustment between the member and the mask can be easily performed, and the effect that highly accurate pattern exposure can be performed can be obtained. Furthermore, the light source device is made independent, and the light emitting source that emits exposure light excluding wavelengths in the infrared region, the optical axis of the exposure light that has been made uniform by the integrator is changed by an optical axis changing means, and the optical axis is changed by a convex mirror to the horizontal optical axis. By concentrating the light upward, the light source device can be made smaller, and the heat generated by the light source device can be prevented from affecting the exposed member, and thermal expansion of the exposed member can be suppressed. Thermal expansion of the exposed member due to the exposure light itself can be suppressed, and since only the mask, projection lens, and exposed member need be housed in the chamber, the chamber can be made smaller and its initial cost and running cost reduced. You can get the desired effect.
【図１】この発明の一実施例を示す全体構成図である。FIG. 1 is an overall configuration diagram showing an embodiment of the present invention.
【図２】マスク保持機構を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a mask holding mechanism.
【図３】右半部がマスクチャックを取り外した状態を示
す正面図である。FIG. 3 is a front view showing the right half with the mask chuck removed.
【図４】図３の中央縦断面図である。FIG. 4 is a central vertical cross-sectional view of FIG. 3;
【図５】左半部が図４のＢ−Ｂ線、右半部が図４のＡ−
Ａ線上の断面図である。[Figure 5] The left half is line BB in Figure 4, and the right half is line A- in Figure 4.
It is a sectional view on the A line.
【図６】レンズ保持機構を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a lens holding mechanism.
【図７】露光部材保持機構を示す正面図である。FIG. 7 is a front view showing the exposure member holding mechanism.
【図８】図７の中央縦断面図である。FIG. 8 is a central vertical cross-sectional view of FIG. 7;
【図９】照明機構を示す一部を断面とした側面図である
。FIG. 9 is a partially sectional side view showing the illumination mechanism.
【図１０】図９のＸ−Ｘ線断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along the line XX in FIG. 9;
【図１１】アライメントマーク検出機構を示す平面図で
ある。FIG. 11 is a plan view showing an alignment mark detection mechanism.
【図１２】図１１の正面図である。FIG. 12 is a front view of FIG. 11;
【図１３】図１２の右側面図である。FIG. 13 is a right side view of FIG. 12;
【図１４】アライメントマークを示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing alignment marks.
【図１５】被露光部材保持機構の他の実施例を示す正面
図である。FIG. 15 is a front view showing another embodiment of the exposed member holding mechanism.
【図１６】図１５図の被露光部材保持機構の側面図であ
る。16 is a side view of the exposed member holding mechanism shown in FIG. 15; FIG.
【図１７】クランプ部材の拡大断面図である。FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view of the clamp member.
【図１８】被露光部材保持機構の更に他の実施例を示す
側面図である。FIG. 18 is a side view showing still another embodiment of the exposed member holding mechanism.
【図１９】図１８の被露光部材保持機構の正面図である
。19 is a front view of the exposed member holding mechanism of FIG. 18. FIG.
【図２０】保持チャックの平面図である。FIG. 20 is a plan view of the holding chuck.
【図２１】保持チャックの部分拡大断面図である。FIG. 21 is a partially enlarged sectional view of the holding chuck.
【図２２】被露光部材保持機構のまた他の実施例を示す
側面図である。FIG. 22 is a side view showing yet another embodiment of the exposed member holding mechanism.
【図２３】光源装置の他の実施例を示す斜視図である。FIG. 23 is a perspective view showing another embodiment of the light source device.
１ 光源装置 ２ 露光装置本体 １４ 発光源 １５ インテグレータ １８ 全反射鏡 １９ 凹面鏡 ２０ チャンバー Ｍ マスク Ｓ 被露光部材 ３０ マスク保持機構 ４０ レンズ保持機構 ５０ 露光部材保持機構 ６０ 照明機構 ７０ アライメントマーク検出機構 1 Light source device 2 Exposure equipment body 14 Light emitting source 15 Integrator 18 Total reflection mirror 19 Concave mirror 20 Chamber M Mask S Exposed member 30 Mask holding mechanism 40 Lens holding mechanism 50 Exposure member holding mechanism 60 Lighting mechanism 70 Alignment mark detection mechanism
Claims (1)
を形成したマスクを透過させた後、投影レンズによって
マスクパターンを、保持機構で保持した被露光部材に結
像させるようにした投影露光装置において、前記光源装
置から水平光軸に沿って露光光を出射させると共に、当
該水平光軸上に前記マスク、投影レンズ及び被露光部材
を配置し、且つ前記保持機構は、前記被露光部材を少な
くとも水平光軸と直交する面内で移動可能に構成されて
いることを特徴とする投影露光装置。1. A projection exposure apparatus in which exposure light from a light source device is transmitted through a mask on which a predetermined pattern is formed, and then the mask pattern is imaged by a projection lens onto an exposed member held by a holding mechanism. , the light source device emits exposure light along a horizontal optical axis, and the mask, the projection lens, and the exposed member are arranged on the horizontal optical axis, and the holding mechanism holds the exposed member at least horizontally. A projection exposure apparatus characterized in that it is configured to be movable within a plane perpendicular to an optical axis.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3126006A JPH04226463A (en) | 1990-06-08 | 1991-05-29 | Projecting/exposing device |
| US07/712,100 US5204711A (en) | 1990-06-08 | 1991-06-07 | Projection exposure device |
| FR9106965A FR2663130B1 (en) | 1990-06-08 | 1991-06-07 | PROJECTION EXPOSURE DEVICE. |
| NL9100997A NL9100997A (en) | 1990-06-08 | 1991-06-10 | PROJECTION LIGHTING DEVICE. |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15090190 | 1990-06-08 | ||
| JP2-150901 | 1990-06-08 | ||
| JP3126006A JPH04226463A (en) | 1990-06-08 | 1991-05-29 | Projecting/exposing device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04226463A true JPH04226463A (en) | 1992-08-17 |
Family
ID=26462285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3126006A Pending JPH04226463A (en) | 1990-06-08 | 1991-05-29 | Projecting/exposing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04226463A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004354909A (en) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Orc Mfg Co Ltd | Projection exposure apparatus and projection exposure method |
| JP2010080941A (en) * | 2008-08-29 | 2010-04-08 | Komatsu Ltd | Extreme ultraviolet light source device |
| JP2013130608A (en) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Ushio Inc | Exposure equipment |
| JP2018182230A (en) * | 2017-04-20 | 2018-11-15 | キヤノン株式会社 | Imprint device, control data generation method, and article manufacturing method |
-
1991
- 1991-05-29 JP JP3126006A patent/JPH04226463A/en active Pending
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| US9052615B2 (en) | 2008-08-29 | 2015-06-09 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
| US9332625B2 (en) | 2008-08-29 | 2016-05-03 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
| US9429847B2 (en) | 2008-08-29 | 2016-08-30 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
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