JPH04220925A - 電子管用陰極 - Google Patents
電子管用陰極Info
- Publication number
- JPH04220925A JPH04220925A JP2404823A JP40482390A JPH04220925A JP H04220925 A JPH04220925 A JP H04220925A JP 2404823 A JP2404823 A JP 2404823A JP 40482390 A JP40482390 A JP 40482390A JP H04220925 A JPH04220925 A JP H04220925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- metal
- layer
- base metal
- earth metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 32
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 9
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 3
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 abstract description 3
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium oxide Chemical compound O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 3
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- -1 alkaline earth metal carbonate Chemical class 0.000 description 2
- 229910052916 barium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ba+2].[O-][Si]([O-])=O HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- AHKZTVQIVOEVFO-UHFFFAOYSA-N oxide(2-) Chemical compound [O-2] AHKZTVQIVOEVFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はブラウン管などに使用さ
れる電子管用陰極に関する。
れる電子管用陰極に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は、たとえば特公昭64−5417
号公報に開示された従来のテレビジョン受像機用ブラ
ウン管や撮像管に用いられている電子管用陰極の一部拡
大断面図である。図4において、(1) はシリコン(
Si)、マグネシウム(Mg)などの還元性元素を微量
含有し、主成分がニッケル(Ni)の一端が閉塞された
帽状の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4) の
一端に溶接固定されている。 (2) は基体金属(1) の一端が閉塞された頂部上
面に被覆形成された電子放射物質層である。この電子放
射物質層(2) は、バリウム(Ba)を含み、他にス
トロンチウム(Sr)およびカルシウム(Ca)を含む
3元のアルカリ土類金属酸化物(21)の中に酸化スカ
ンジウムなどの希土類金属酸化物(22)を分散させた
構成である。(3) は前記スリーブ(4) 内に配設
されたヒータであり、このヒータ(3) を加熱するこ
とによって基体金属(1) が加熱され、電子放射物質
層(2) から熱電子が放出せしめられる。
号公報に開示された従来のテレビジョン受像機用ブラ
ウン管や撮像管に用いられている電子管用陰極の一部拡
大断面図である。図4において、(1) はシリコン(
Si)、マグネシウム(Mg)などの還元性元素を微量
含有し、主成分がニッケル(Ni)の一端が閉塞された
帽状の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4) の
一端に溶接固定されている。 (2) は基体金属(1) の一端が閉塞された頂部上
面に被覆形成された電子放射物質層である。この電子放
射物質層(2) は、バリウム(Ba)を含み、他にス
トロンチウム(Sr)およびカルシウム(Ca)を含む
3元のアルカリ土類金属酸化物(21)の中に酸化スカ
ンジウムなどの希土類金属酸化物(22)を分散させた
構成である。(3) は前記スリーブ(4) 内に配設
されたヒータであり、このヒータ(3) を加熱するこ
とによって基体金属(1) が加熱され、電子放射物質
層(2) から熱電子が放出せしめられる。
【0003】つぎに、このように構成された電子管用陰
極における、基体金属(1) への電子放射物質層(2
) の被着形成方法について説明する。
極における、基体金属(1) への電子放射物質層(2
) の被着形成方法について説明する。
【0004】まず、バリウム、ストロンチウム、カルシ
ウムの3元炭酸塩と所定量の酸化スカンジウムとをバイ
ンダーであるニトロセルロースおよび有機溶剤である酢
酸ブチルとともに混合して懸濁液を調製し、この懸濁液
を基体金属(1) の頂部にスプレイ法などにより塗布
して電子放射物質層(2) となる膜を形成する。つい
でこの陰極を電子銃に組み込み、ブラウン管の排気工程
中にヒータ(3) によって加熱する。このとき、3元
炭酸塩は熱分解によりアルカリ土類金属酸化物(21)
に変化する。排気工程ののち、さらに高温で加熱して活
性化を行なう。このとき、アルカリ土類金属酸化物(2
1)の一部が還元されて電子放射物質層(2) が半導
体的性質を有するようになり、基体金属(1) 上にア
ルカリ土類金属酸化物(21)と希土類金属酸化物(2
2)との混合物からなる電子放射物質層(2) が形成
される。
ウムの3元炭酸塩と所定量の酸化スカンジウムとをバイ
ンダーであるニトロセルロースおよび有機溶剤である酢
酸ブチルとともに混合して懸濁液を調製し、この懸濁液
を基体金属(1) の頂部にスプレイ法などにより塗布
して電子放射物質層(2) となる膜を形成する。つい
でこの陰極を電子銃に組み込み、ブラウン管の排気工程
中にヒータ(3) によって加熱する。このとき、3元
炭酸塩は熱分解によりアルカリ土類金属酸化物(21)
に変化する。排気工程ののち、さらに高温で加熱して活
性化を行なう。このとき、アルカリ土類金属酸化物(2
1)の一部が還元されて電子放射物質層(2) が半導
体的性質を有するようになり、基体金属(1) 上にア
ルカリ土類金属酸化物(21)と希土類金属酸化物(2
2)との混合物からなる電子放射物質層(2) が形成
される。
【0005】この活性化工程において、アルカリ土類金
属酸化物(21)の一部はつぎのように反応する。すな
わち、基体金属(1) 中に含有されるシリコン、マグ
ネシウムなどの還元性元素は拡散によってアルカリ土類
金属酸化物(21)と基体金属(1) の界面に移動し
、アルカリ土類金属酸化物(21)と反応する。たとえ
ば、アルカリ土類金属酸化物(21)として酸化バリウ
ム(BaO) を例にあげると、次式(I) 、(II
)のように反応する。
属酸化物(21)の一部はつぎのように反応する。すな
わち、基体金属(1) 中に含有されるシリコン、マグ
ネシウムなどの還元性元素は拡散によってアルカリ土類
金属酸化物(21)と基体金属(1) の界面に移動し
、アルカリ土類金属酸化物(21)と反応する。たとえ
ば、アルカリ土類金属酸化物(21)として酸化バリウ
ム(BaO) を例にあげると、次式(I) 、(II
)のように反応する。
【0006】
4BaO + Si → 2Ba + Ba2SiO4
(I)BaO + Mg → Ba + MgO
(II)この反応の結果、基体金属(
1) 上に被着形成されているアルカリ土類金属酸化物
(21)の一部が還元されて、酸素欠乏型の半導体とな
り、電子放射が容易となる。電子放射物質層(2) に
希土類金属酸化物(22)が含まれないばあいは、陰極
温度が700 〜 800℃の動作温度で0.5 〜0
.8A/cm2 の電流密度動作が可能である。一方、
電子放射物質層(2) に酸化スカンジウムなどの希土
類金属酸化物(22)が含まれるばあいには、同じ動作
温度で1.32〜2.64 A/cm2 の高電流密度
動作が可能となる。
(I)BaO + Mg → Ba + MgO
(II)この反応の結果、基体金属(
1) 上に被着形成されているアルカリ土類金属酸化物
(21)の一部が還元されて、酸素欠乏型の半導体とな
り、電子放射が容易となる。電子放射物質層(2) に
希土類金属酸化物(22)が含まれないばあいは、陰極
温度が700 〜 800℃の動作温度で0.5 〜0
.8A/cm2 の電流密度動作が可能である。一方、
電子放射物質層(2) に酸化スカンジウムなどの希土
類金属酸化物(22)が含まれるばあいには、同じ動作
温度で1.32〜2.64 A/cm2 の高電流密度
動作が可能となる。
【0007】このように希土類酸化物が含まれないばあ
いの動作可能な電流密度が小さいのは、一般に酸化物陰
極のばあい、電子放出能力は酸化物中の過剰Baの存在
量に依存するので、希土類金属酸化物(22)が含まれ
ないばあいには、高電流密度動作に必要な充分な過剰B
aの供給が行なわれず、動作可能な最大電流密度が制約
されるからである。すなわち、前記反応時に生成される
副生成物で中間層と呼ばれるバリウムシリケイト(Ba
2SiO4)や酸化マグネシウム(MgO)が基体金属
(1)のニッケルの結晶粒界や基体金属(1) と電子
放射物質層(2) との界面に集中的に形成されるため
、この中間層の影響によってマグネシウムおよびシリコ
ンの拡散速度が抑制され、それに起因して過剰Baの供
給が不足するのである。
いの動作可能な電流密度が小さいのは、一般に酸化物陰
極のばあい、電子放出能力は酸化物中の過剰Baの存在
量に依存するので、希土類金属酸化物(22)が含まれ
ないばあいには、高電流密度動作に必要な充分な過剰B
aの供給が行なわれず、動作可能な最大電流密度が制約
されるからである。すなわち、前記反応時に生成される
副生成物で中間層と呼ばれるバリウムシリケイト(Ba
2SiO4)や酸化マグネシウム(MgO)が基体金属
(1)のニッケルの結晶粒界や基体金属(1) と電子
放射物質層(2) との界面に集中的に形成されるため
、この中間層の影響によってマグネシウムおよびシリコ
ンの拡散速度が抑制され、それに起因して過剰Baの供
給が不足するのである。
【0008】一方、電子放射物質層(2) に希土類金
属酸化物(22)が含まれるばあいは、酸化スカンジウ
ムのばあいを例にとると、陰極動作時の基体金属(1)
と電子放射物質層(2) との界面では基体金属(1
) 中を拡散移動してきた還元剤の一部と酸化スカンジ
ウムとが次式(III) のように反応して少量の金属
状のスカンジウムを生成し、金属状のスカンジウムの一
部が基体金属(1) のニッケル中に固溶し、一部は前
記界面に存在する。
属酸化物(22)が含まれるばあいは、酸化スカンジウ
ムのばあいを例にとると、陰極動作時の基体金属(1)
と電子放射物質層(2) との界面では基体金属(1
) 中を拡散移動してきた還元剤の一部と酸化スカンジ
ウムとが次式(III) のように反応して少量の金属
状のスカンジウムを生成し、金属状のスカンジウムの一
部が基体金属(1) のニッケル中に固溶し、一部は前
記界面に存在する。
【0009】
1/2Sc2O3 + 3/2Mg → Sc +3/
2MgO (III)この金属状のスカンジウム
は基体金属(1) 上または基体金属(1)のニッケル
の結晶粒界に形成された前記中間層を次式(IV)のよ
うに分解する作用を有するので、過剰Baの供給が改善
され、希土類金属酸化物(22)が含まれないばあいよ
りも高電流密度動作が可能になると考えられている。
2MgO (III)この金属状のスカンジウム
は基体金属(1) 上または基体金属(1)のニッケル
の結晶粒界に形成された前記中間層を次式(IV)のよ
うに分解する作用を有するので、過剰Baの供給が改善
され、希土類金属酸化物(22)が含まれないばあいよ
りも高電流密度動作が可能になると考えられている。
【0010】
1/2Ba2SiO4 + 4/3Sc
→ Ba + 1/2Si + 2/3Sc2O3
(IV)
→ Ba + 1/2Si + 2/3Sc2O3
(IV)
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このように構成された
電子管用陰極においては、希土類金属酸化物が過剰Ba
の供給に寄与するものの、過剰Baの供給速度は基体金
属であるニッケル中に存在する微量の還元剤の拡散速度
に律速され、2A/cm2 以上の高電流密度動作では
寿命特性が低下するという問題を有している。
電子管用陰極においては、希土類金属酸化物が過剰Ba
の供給に寄与するものの、過剰Baの供給速度は基体金
属であるニッケル中に存在する微量の還元剤の拡散速度
に律速され、2A/cm2 以上の高電流密度動作では
寿命特性が低下するという問題を有している。
【0012】また、希土類金属酸化物は前述のように中
間層を分解する作用があるため、基体金属の表面にバリ
ウムシリケートなどの中間層物質が生成することを抑制
するという効果を有する反面、長時間の動作中に電子放
射物質層の基体金属に対する接着性を弱めるため、動作
中に電子放射物質層が基体金属から剥離して浮き上がっ
てしまうという問題もある。したがって、陰極に対向し
て配設してある第1グリッドとの間隔が変動するため、
カットオフ電圧が変動して画面の明るさが徐々に変動し
たり、またはカラーブラウン管のばあいは、色調が長時
間の動作中に変動するなどの問題がある。
間層を分解する作用があるため、基体金属の表面にバリ
ウムシリケートなどの中間層物質が生成することを抑制
するという効果を有する反面、長時間の動作中に電子放
射物質層の基体金属に対する接着性を弱めるため、動作
中に電子放射物質層が基体金属から剥離して浮き上がっ
てしまうという問題もある。したがって、陰極に対向し
て配設してある第1グリッドとの間隔が変動するため、
カットオフ電圧が変動して画面の明るさが徐々に変動し
たり、またはカラーブラウン管のばあいは、色調が長時
間の動作中に変動するなどの問題がある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、主成分がニッ
ケルであり、少なくとも1種の還元剤を含む基体金属上
に、少なくともタングステン粉末とニッケル粉末とを含
む金属粉末層を設け、その上に少なくともバリウムを含
むアルカリ土類金属酸化物と希土類金属酸化物とからな
る電子放射物質層を被着形成した電子管用陰極に関する
。
ケルであり、少なくとも1種の還元剤を含む基体金属上
に、少なくともタングステン粉末とニッケル粉末とを含
む金属粉末層を設け、その上に少なくともバリウムを含
むアルカリ土類金属酸化物と希土類金属酸化物とからな
る電子放射物質層を被着形成した電子管用陰極に関する
。
【0014】
【作用】本発明では、金属粉末層中に含まれるタングス
テン粉末が過剰Baの供給に寄与するため、2A/cm
2 以上の高電流密度動作における寿命特性を改善しう
る。
テン粉末が過剰Baの供給に寄与するため、2A/cm
2 以上の高電流密度動作における寿命特性を改善しう
る。
【0015】また、この金属粉末層中に含まれているニ
ッケル粉末は基体金属表面へのタングステン粉末の接着
性を改善する作用を有する。
ッケル粉末は基体金属表面へのタングステン粉末の接着
性を改善する作用を有する。
【0016】さらに、この金属粉末層は、長時間の動作
中における電子放射物質層が基体金属から剥離しやすい
という欠点を解消でき、陰極の信頼性を大幅に向上させ
る。
中における電子放射物質層が基体金属から剥離しやすい
という欠点を解消でき、陰極の信頼性を大幅に向上させ
る。
【0017】
【実施例】本発明では、主成分がニッケルであり、少な
くとも1種、通常2〜4種の還元剤を含有してなる基体
金属が用いられる。
くとも1種、通常2〜4種の還元剤を含有してなる基体
金属が用いられる。
【0018】前記還元剤としては、たとえばシリコン、
マグネシウム、ジルコニウム、タングステンなどがあげ
られる。
マグネシウム、ジルコニウム、タングステンなどがあげ
られる。
【0019】基体金属は、還元剤の割合が通常0.01
〜3%(重量%、以下同様)のものが用いられている。
〜3%(重量%、以下同様)のものが用いられている。
【0020】前記基体金属上には、少なくともタングス
テン粉末とニッケル粉末とを含む金属粉末層が設けられ
ている。
テン粉末とニッケル粉末とを含む金属粉末層が設けられ
ている。
【0021】金属粉末層の中にタングステン粉末ととも
にニッケル粉末を混合して被着形成しているのはつぎの
ような理由による。
にニッケル粉末を混合して被着形成しているのはつぎの
ような理由による。
【0022】基体金属上にタングステン粉末のみの金属
粉末層を形成しても過剰Baの生成に寄与し、電子放射
物質層の基体金属への接着性が改善される。しかし、タ
ングステン粉末の融点がニッケルの融点よりもかなり高
く、両者の焼結がなされていないので、タングステン粉
末層が基体金属から剥離することがある。一方、本発明
のように小粒径のタングステン粉末とニッケル粉末とを
均一に混合したものを基体金属上にスプレイ法により塗
布して熱処理するなどすれば、タングステン粉末が剥離
しない。これは、ニッケル粉末同士の焼結、ニッケル粉
末と基体金属との焼結によりタングステン粉末がニッケ
ル粉末またはニッケル粉末と基体金属との間に挾まれる
ような形で強固に固着するためであると推測される。
粉末層を形成しても過剰Baの生成に寄与し、電子放射
物質層の基体金属への接着性が改善される。しかし、タ
ングステン粉末の融点がニッケルの融点よりもかなり高
く、両者の焼結がなされていないので、タングステン粉
末層が基体金属から剥離することがある。一方、本発明
のように小粒径のタングステン粉末とニッケル粉末とを
均一に混合したものを基体金属上にスプレイ法により塗
布して熱処理するなどすれば、タングステン粉末が剥離
しない。これは、ニッケル粉末同士の焼結、ニッケル粉
末と基体金属との焼結によりタングステン粉末がニッケ
ル粉末またはニッケル粉末と基体金属との間に挾まれる
ような形で強固に固着するためであると推測される。
【0023】前記タングステン粉末の粒径は基体金属上
へ均一に被着させるために0.5〜1.0μmであるの
が好ましく、ニッケル粉末の粒径も同様の理由により0
.5〜1.0μmであるのが好ましい。
へ均一に被着させるために0.5〜1.0μmであるの
が好ましく、ニッケル粉末の粒径も同様の理由により0
.5〜1.0μmであるのが好ましい。
【0024】金属粉末層中のタングステン粉末の割合は
50〜90%、さらには70%程度であるのが好ましい
。該割合が50%未満では還元能が低下する傾向があり
、90%をこえると接着性が低下する傾向がある。また
、金属粉末層中のニッケル粉末の割合は10〜50%、
さらには30%程度であるのが好ましい。該割合が10
%未満では接着性が低下する傾向があり、50%をこえ
るとタングステン粉末の還元能が低下する傾向がある。
50〜90%、さらには70%程度であるのが好ましい
。該割合が50%未満では還元能が低下する傾向があり
、90%をこえると接着性が低下する傾向がある。また
、金属粉末層中のニッケル粉末の割合は10〜50%、
さらには30%程度であるのが好ましい。該割合が10
%未満では接着性が低下する傾向があり、50%をこえ
るとタングステン粉末の還元能が低下する傾向がある。
【0025】前記金属粉末層の厚さは0.5〜5μmが
好ましく、2〜3μmであるのがさらに好ましい。厚さ
が0.5μm未満ではコーティングが均一になりにくく
なる傾向があり、5μmをこえると基体金属と電子放射
物質との反応が遅くなる傾向がある。
好ましく、2〜3μmであるのがさらに好ましい。厚さ
が0.5μm未満ではコーティングが均一になりにくく
なる傾向があり、5μmをこえると基体金属と電子放射
物質との反応が遅くなる傾向がある。
【0026】本発明の電子管用陰極は、前記金属粉末層
上に、少なくともバリウムを含むアルカリ土類金属酸化
物と希土類金属酸化物とからなる電子放射物質層が被着
形成された電子管用陰極である。
上に、少なくともバリウムを含むアルカリ土類金属酸化
物と希土類金属酸化物とからなる電子放射物質層が被着
形成された電子管用陰極である。
【0027】前記アルカリ土類金属酸化物には、バリウ
ムの他、ストロンチウム、カルシウムなどが含まれてい
る。
ムの他、ストロンチウム、カルシウムなどが含まれてい
る。
【0028】前記希土類金属酸化物は、前記アルカリ土
類金属酸化物中に分散せしめられている成分であり、そ
の具体例としては、たとえば酸化スカンジウム、酸化イ
ットリウムなどがあげられる。
類金属酸化物中に分散せしめられている成分であり、そ
の具体例としては、たとえば酸化スカンジウム、酸化イ
ットリウムなどがあげられる。
【0029】電子放射物質層中のアルカリ土類金属酸化
物の割合は90〜99%が好ましく、希土類金属酸化物
の割合は1〜10%が好ましい。
物の割合は90〜99%が好ましく、希土類金属酸化物
の割合は1〜10%が好ましい。
【0030】電子放射物質層の厚さは、60〜100μ
m程度であるのが好ましい。
m程度であるのが好ましい。
【0031】つぎに本発明の電子管陰極の製法の一例を
説明する。
説明する。
【0032】まず基体金属をスリーブに溶接したのち、
洗浄、水素処理などの熱処理を施して表面の汚れや酸化
層を除去する。
洗浄、水素処理などの熱処理を施して表面の汚れや酸化
層を除去する。
【0033】つぎに、タングステン粉末およびニッケル
粉末と、硝化綿などのバインダーと、酢酸ブチルなどの
有機溶媒とを24〜48時間程度、ボールミルなどで均
一に混合し、スプレイ法などにより、基体金属上に塗布
したのち、熱処理を行なうことにより、基体金属上に金
属粉末層を設ける。前記バインダー、有機溶媒の使用割
合にとくに限定はない。前記熱処理は、バインダーの熱
分解および金属粉末層の酸化層を除去する目的から水素
雰囲気中または10−5Torr程度以下の真空雰囲気
中で行なうのが好ましい。処理温度は800〜1000
℃、処理時間は10〜30分間であるのが好ましい。
粉末と、硝化綿などのバインダーと、酢酸ブチルなどの
有機溶媒とを24〜48時間程度、ボールミルなどで均
一に混合し、スプレイ法などにより、基体金属上に塗布
したのち、熱処理を行なうことにより、基体金属上に金
属粉末層を設ける。前記バインダー、有機溶媒の使用割
合にとくに限定はない。前記熱処理は、バインダーの熱
分解および金属粉末層の酸化層を除去する目的から水素
雰囲気中または10−5Torr程度以下の真空雰囲気
中で行なうのが好ましい。処理温度は800〜1000
℃、処理時間は10〜30分間であるのが好ましい。
【0034】また、前記金属粉末層では、ニッケル粉末
のかわりに酸化ニッケル粉末を、さらにタングステン粉
末のかわりに三酸化タングステン粉末を用いてもよく、
基体金属上に前記と同様にしてこれらの粉末などを含有
する混合物を塗布して水素処理を行なえば、酸化ニッケ
ルは水素によって還元されて金属ニッケルになり、同様
に三酸化タングステンは金属タングステンに還元されて
、前述のようにしてえられたものと同様の効果を奏する
層になる。
のかわりに酸化ニッケル粉末を、さらにタングステン粉
末のかわりに三酸化タングステン粉末を用いてもよく、
基体金属上に前記と同様にしてこれらの粉末などを含有
する混合物を塗布して水素処理を行なえば、酸化ニッケ
ルは水素によって還元されて金属ニッケルになり、同様
に三酸化タングステンは金属タングステンに還元されて
、前述のようにしてえられたものと同様の効果を奏する
層になる。
【0035】つぎに、前記金属粉末層上に、アルカリ土
類金属炭酸塩の粉末と希土類金属酸化物の粉末とを酢酸
ブチルや硝化綿などと混合して調製した懸濁液をスプレ
イ法により塗布することにより、本発明の電子管用陰極
が製造される。
類金属炭酸塩の粉末と希土類金属酸化物の粉末とを酢酸
ブチルや硝化綿などと混合して調製した懸濁液をスプレ
イ法により塗布することにより、本発明の電子管用陰極
が製造される。
【0036】以上のような本発明の電子管用陰極は、高
解像度を実現するために細い電子ビームを取り出すデイ
スプレイ用ブラウン管、大電流を流して高輝度化を図る
投射型ブラウン管や大型ブラウン管、さらには大電流が
要求される進行波管などの電力管にも好適である。
解像度を実現するために細い電子ビームを取り出すデイ
スプレイ用ブラウン管、大電流を流して高輝度化を図る
投射型ブラウン管や大型ブラウン管、さらには大電流が
要求される進行波管などの電力管にも好適である。
【0037】つぎに本発明の一実施例を図1に基づいて
さらに具体的に説明する。
さらに具体的に説明する。
【0038】図1において、(1) は一端が閉塞され
た帽状の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4)
の一端に固定されている。(5) は基体金属(1)
の一端が閉塞された頂部上面に被着形成された金属粉末
層であり、さらにその上に電子放射物質層(2)が被覆
形成されている。電子放射物質層(2) ではアルカリ
土類金属酸化物(21)の中に希土類金属酸化物(22
)が分散せしめられている。(3) はスリーブ(4)
内に挿入配設されて基体金属(1) を加熱するため
のヒータであり、ヒータ(3) を加熱することによっ
て電子放射物質層(2) から熱電子が放出せしめられ
る。実施例1および比較例1まず、ニッケルが主成分で
0.05%程度のシリコンと0.05%程度のマグネシ
ウムとを含有する基体金属(1) をスリーブ(4)
に溶接したのち、洗浄、1000℃×10分間の水素処
理を行なって表面の汚れ、酸化層を除去した。
た帽状の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4)
の一端に固定されている。(5) は基体金属(1)
の一端が閉塞された頂部上面に被着形成された金属粉末
層であり、さらにその上に電子放射物質層(2)が被覆
形成されている。電子放射物質層(2) ではアルカリ
土類金属酸化物(21)の中に希土類金属酸化物(22
)が分散せしめられている。(3) はスリーブ(4)
内に挿入配設されて基体金属(1) を加熱するため
のヒータであり、ヒータ(3) を加熱することによっ
て電子放射物質層(2) から熱電子が放出せしめられ
る。実施例1および比較例1まず、ニッケルが主成分で
0.05%程度のシリコンと0.05%程度のマグネシ
ウムとを含有する基体金属(1) をスリーブ(4)
に溶接したのち、洗浄、1000℃×10分間の水素処
理を行なって表面の汚れ、酸化層を除去した。
【0039】つぎに粒径が0.5〜1.0μmのタング
ステン粉末と粒径が0.5〜1.0μmのニッケル粉末
とを重量比で3/7になるように計量したもの100g
を、バインダーである硝化綿5gの酢酸ブチル溶液50
0mlと一緒にして24時間ボールミルで混合した。え
られた混合物を通常のスプレイ法によって熱処理後の厚
さが約3μmになるように基体金属(1) 上に塗布し
たのち、水素雰囲気中で1000℃×5分間の熱処理を
行ない、金属粉末層(5) を成形した。
ステン粉末と粒径が0.5〜1.0μmのニッケル粉末
とを重量比で3/7になるように計量したもの100g
を、バインダーである硝化綿5gの酢酸ブチル溶液50
0mlと一緒にして24時間ボールミルで混合した。え
られた混合物を通常のスプレイ法によって熱処理後の厚
さが約3μmになるように基体金属(1) 上に塗布し
たのち、水素雰囲気中で1000℃×5分間の熱処理を
行ない、金属粉末層(5) を成形した。
【0040】つぎに、酸化スカンジウムとアルカリ土類
金属炭酸塩とを酢酸ブチルおよび硝化綿と混合した。え
られた混合物をスプレイ法によって乾燥後の厚さが約8
0μmになるように金属粉末層(5) 上に塗布し、乾
燥した。このようにして酸化スカンジウムをアルカリ土
類金属酸化物に重量比で約3%分散させた電子放射物質
層(2) を形成した。
金属炭酸塩とを酢酸ブチルおよび硝化綿と混合した。え
られた混合物をスプレイ法によって乾燥後の厚さが約8
0μmになるように金属粉末層(5) 上に塗布し、乾
燥した。このようにして酸化スカンジウムをアルカリ土
類金属酸化物に重量比で約3%分散させた電子放射物質
層(2) を形成した。
【0041】えられた電子管用陰極をブラウン管用の電
子銃に組み込み、ヒータ電圧を定格6.3Vとし、陰極
からの取り出し電流を2A/cm2として14インチの
デイスプレイ用ブラウン管で寿命試験を実施した。結果
を図2に示す。図2において、横軸は寿命試験時間、縦
軸はカソード電流値であり、初期値を100とした相対
値で示している。
子銃に組み込み、ヒータ電圧を定格6.3Vとし、陰極
からの取り出し電流を2A/cm2として14インチの
デイスプレイ用ブラウン管で寿命試験を実施した。結果
を図2に示す。図2において、横軸は寿命試験時間、縦
軸はカソード電流値であり、初期値を100とした相対
値で示している。
【0042】また比較例として、タングステン粉末と金
属粉末とを含む金属粉末層を有さない従来の電子管用陰
極を同様に評価した。
属粉末とを含む金属粉末層を有さない従来の電子管用陰
極を同様に評価した。
【0043】図2から、本発明の電子管用陰極のカソー
ド電流の劣化が従来のものと比較して少ないことがわか
る。
ド電流の劣化が従来のものと比較して少ないことがわか
る。
【0044】このように本発明の電子管用陰極の寿命特
性が良好な要因は、以下のように推測される。
性が良好な要因は、以下のように推測される。
【0045】過剰Baは基体金属(1) に含有される
還元性不純物の作用によって前記式(I) 、(II)
に示したようにして生成される。さらにそれに加えて、
タングステン粉末は、式(V): 2BaO + 1/3W → Ba + 1/3Ba
3W06 (V)のように反応して過剰Baの
生成に寄与する。このように、過剰Baの生成が従来の
ものに比較して多いため高電流密度動作においても負荷
が低減され、寿命特性が良好に推移するものと考えられ
る。
還元性不純物の作用によって前記式(I) 、(II)
に示したようにして生成される。さらにそれに加えて、
タングステン粉末は、式(V): 2BaO + 1/3W → Ba + 1/3Ba
3W06 (V)のように反応して過剰Baの
生成に寄与する。このように、過剰Baの生成が従来の
ものに比較して多いため高電流密度動作においても負荷
が低減され、寿命特性が良好に推移するものと考えられ
る。
【0046】また、実施例1の電子管用陰極には金属粉
末層が設けられているので電子放射物質層の基体金属へ
の接着性が改善され、長期間動作させても電子放射物質
層の局部的な浮き上がりを防止することができた。図3
はカットオフ電圧の変動を示すグラフであり、電子放射
物質層(2) の浮き上がりが低減されてカットオフ電
圧が従来のものに比較して安定であることがわかる。
末層が設けられているので電子放射物質層の基体金属へ
の接着性が改善され、長期間動作させても電子放射物質
層の局部的な浮き上がりを防止することができた。図3
はカットオフ電圧の変動を示すグラフであり、電子放射
物質層(2) の浮き上がりが低減されてカットオフ電
圧が従来のものに比較して安定であることがわかる。
【0047】
【発明の効果】以上のように、本発明の電子管用陰極は
、希土類金属酸化物を含む電子放射物質層と基体金属と
の間に少なくともタングステン粉末とニッケル粉末とを
含む金属粉末層が形成されているため、過剰Baの生成
が促進され、高電流密度動作が可能となる。さらに、タ
ングステン粉末がニッケル粉末の作用で強固に基体金属
に固着され、また金属粉末層が電子放射物質層と基体金
属との接合性を改善するため、長時間にわたって安定し
た高電流密度動作が可能となる。したがって、従来の電
子管用陰極では問題のあった高輝度、高精細ブラウン管
への適用が可能である。
、希土類金属酸化物を含む電子放射物質層と基体金属と
の間に少なくともタングステン粉末とニッケル粉末とを
含む金属粉末層が形成されているため、過剰Baの生成
が促進され、高電流密度動作が可能となる。さらに、タ
ングステン粉末がニッケル粉末の作用で強固に基体金属
に固着され、また金属粉末層が電子放射物質層と基体金
属との接合性を改善するため、長時間にわたって安定し
た高電流密度動作が可能となる。したがって、従来の電
子管用陰極では問題のあった高輝度、高精細ブラウン管
への適用が可能である。
【図1】本発明の電子管用陰極の一部拡大断面図である
。
。
【図2】カソード電流の経時変化を示すグラフである。
【図3】カットオフ電圧の変動を示すグラフである。
【図4】従来の電子管用陰極の一部拡大断面図である。
1 基体金属
2 電子放射物質層
5 金属粉末層
21 アルカリ土類金属酸化物
22 希土類金属酸化物
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分がニッケルであり、少なくとも
1種の還元剤を含む基体金属上に、少なくともタングス
テン粉末とニッケル粉末とを含む金属粉末層を設け、そ
の上に少なくともバリウムを含むアルカリ土類金属酸化
物と希土類金属酸化物とからなる電子放射物質層を被着
形成した電子管用陰極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2404823A JPH04220925A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 電子管用陰極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2404823A JPH04220925A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 電子管用陰極 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04220925A true JPH04220925A (ja) | 1992-08-11 |
Family
ID=18514485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2404823A Pending JPH04220925A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 電子管用陰極 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04220925A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6124666A (en) * | 1996-11-29 | 2000-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron tube cathode |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP2404823A patent/JPH04220925A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6124666A (en) * | 1996-11-29 | 2000-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron tube cathode |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2758244B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2876591B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
JPH04220924A (ja) | 電子管用陰極 | |
JPH04220925A (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2928155B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2835023B2 (ja) | 電子管用陰極の製造方法 | |
JPH0418660B2 (ja) | ||
JP2936460B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
JPH04220926A (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2000173441A (ja) | 電子銃用陰極 | |
JP2937145B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2897938B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2891209B2 (ja) | 電子管用陰極 | |
US6641450B2 (en) | Method of making a cathode for an electron tube | |
JPH09185939A (ja) | 電子管用陰極およびその製造方法 | |
JPH04220927A (ja) | 電子管用陰極 | |
JP2882386B2 (ja) | 電子管用陰極の製造方法 | |
JPS5949131A (ja) | 電子管陰極 | |
JPH0233822A (ja) | 電子管用陰極 | |
JPH03295128A (ja) | 電子管用陰極 | |
JPH09320449A (ja) | 電子管用陰極 | |
JP3010155B2 (ja) | 電子管用陰極の製造方法 | |
JPS63257153A (ja) | 電子管用陰極 | |
JPH02247934A (ja) | 電子管用陰極 | |
JPS62165833A (ja) | 電子管用陰極 |