JPH04216897A - ワイヤソーによる切断法および加工液 - Google Patents
ワイヤソーによる切断法および加工液Info
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- JPH04216897A JPH04216897A JP41171990A JP41171990A JPH04216897A JP H04216897 A JPH04216897 A JP H04216897A JP 41171990 A JP41171990 A JP 41171990A JP 41171990 A JP41171990 A JP 41171990A JP H04216897 A JPH04216897 A JP H04216897A
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 19
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 20
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- -1 carbitol Chemical compound 0.000 description 4
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はSi、GaAs等の硬脆
材料のインゴットをワイヤソーで高速切断する方法およ
び加工液に関するものである。
材料のインゴットをワイヤソーで高速切断する方法およ
び加工液に関するものである。
【0002】
【従来の技術】硬脆材料のインゴットを切断するには、
外周刃による切断法、内周刃による切断法、ブレードソ
ーによる切断法およびワイヤソーによる切断法が用いら
れる。
外周刃による切断法、内周刃による切断法、ブレードソ
ーによる切断法およびワイヤソーによる切断法が用いら
れる。
【0003】外周刃による切断法は、比較的小断面の切
断に適しており、例えばSiウエハ(厚み約0.6mm
)からチップを切り出す場合に使用されている。
断に適しており、例えばSiウエハ(厚み約0.6mm
)からチップを切り出す場合に使用されている。
【0004】しかし、3インチ以上のインゴット(円柱
)を切断する場合には、外周部分が拘束されていないた
めに変形して、切断面の形状が悪く、使用できないのが
現状である。
)を切断する場合には、外周部分が拘束されていないた
めに変形して、切断面の形状が悪く、使用できないのが
現状である。
【0005】内周刃による切断法は、外周部分に張力を
加えて張り上げて、砥粒の着いている内周部分の変形を
少なくすることにより、外周刃による切断法よりも口径
の大きいインゴットの切断が可能である。
加えて張り上げて、砥粒の着いている内周部分の変形を
少なくすることにより、外周刃による切断法よりも口径
の大きいインゴットの切断が可能である。
【0006】現在、Siインゴットでは直径8インチ品
までの切断に使用されている。
までの切断に使用されている。
【0007】しかし、刃の厚みは0.5mm以上必要で
あるため、約0.6mm以上は切り屑となり捨てられて
おり、収率が良くないことが問題である。
あるため、約0.6mm以上は切り屑となり捨てられて
おり、収率が良くないことが問題である。
【0008】ブレードソーによる切断法は、ブレードの
両端に張力を加えて、刃面を直線に近く張り上げて、フ
ェライト等の切断に用いられている。
両端に張力を加えて、刃面を直線に近く張り上げて、フ
ェライト等の切断に用いられている。
【0009】約10mm程度の厚みの切断であれば、直
線が保たれるが、3インチを越えるインゴットでは十分
な直線性が得られず、厚み差は100μmを越えてしま
うのが現状である。
線が保たれるが、3インチを越えるインゴットでは十分
な直線性が得られず、厚み差は100μmを越えてしま
うのが現状である。
【0010】ワイヤソーによる切断法は、切断するイン
ゴットの口径の影響を受けにくく、8インチ以上のイン
ゴットでも、ワイヤ線径は0.18mmφで切断でき、
内周刃による切断法に比較して収率が良い。
ゴットの口径の影響を受けにくく、8インチ以上のイン
ゴットでも、ワイヤ線径は0.18mmφで切断でき、
内周刃による切断法に比較して収率が良い。
【0011】しかし、切断速度を2mm/min以上に
すると、反りが10μmを越えることが明らかになって
いる。
すると、反りが10μmを越えることが明らかになって
いる。
【0012】したがって、生産性を上げるためには切断
速度を高めて、なおかつ反りを10μm以下にする必要
がある。
速度を高めて、なおかつ反りを10μm以下にする必要
がある。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記問題に鑑み、本発
明はワイヤソーを用いて、高切断速度で反りの小さい硬
脆材料を切断する方法およびこの方法に用いるワイヤソ
ー用加工液を提供することを目的とする。
明はワイヤソーを用いて、高切断速度で反りの小さい硬
脆材料を切断する方法およびこの方法に用いるワイヤソ
ー用加工液を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記問題に鑑み、本発明
はワイヤソーを用いてSi等のインゴットを切断する場
合において、加工液の粘度を20℃において90mPa
・s超〜500mPa・sとすることにより、切断速度
を2mm/min以上にすることを特徴とするものであ
る。
はワイヤソーを用いてSi等のインゴットを切断する場
合において、加工液の粘度を20℃において90mPa
・s超〜500mPa・sとすることにより、切断速度
を2mm/min以上にすることを特徴とするものであ
る。
【0015】
さらに、(a)下式(I)で表されるグリコール類、R
1―O―(CH2CH2O)n―R2 (I
)ここで、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアル
キル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基 (b)水溶性増粘剤 (c)水
1―O―(CH2CH2O)n―R2 (I
)ここで、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアル
キル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基 (b)水溶性増粘剤 (c)水
【0016】を必須成分とし、かつ必須成分(a)、(
b)、(c)の合計重量を100重量部として、必須成
分(a)の含量が1ないし90重量部、必須成分(b)
の含量が0.1ないし5重量部、必須成分(c)の含量
が10ないし99重量部であり、かつ粘度が20℃で9
0mPa・s超〜500mPa・sである加工液を特徴
とする。
b)、(c)の合計重量を100重量部として、必須成
分(a)の含量が1ないし90重量部、必須成分(b)
の含量が0.1ないし5重量部、必須成分(c)の含量
が10ないし99重量部であり、かつ粘度が20℃で9
0mPa・s超〜500mPa・sである加工液を特徴
とする。
【0017】
【作用】以下本発明について詳細に説明する。
【0018】本発明による被切断物とは、直径が3から
16インチで、長さが300から2000mmのSi等
の単結晶の円柱をいう。
16インチで、長さが300から2000mmのSi等
の単結晶の円柱をいう。
【0019】ワイヤソーの機構を図2に示す。
【0020】テーブル9上に固定されたSiインゴット
1を、テーブル9を押し上げ方向8に押し上げることに
よりワイヤ2に接触させる。
1を、テーブル9を押し上げ方向8に押し上げることに
よりワイヤ2に接触させる。
【0021】ワイヤ2は加工液がアルカリ性の場合には
ピアノ線を用い、前記加工液が酸性の場合にはアモルフ
ァス線を用いる。
ピアノ線を用い、前記加工液が酸性の場合にはアモルフ
ァス線を用いる。
【0022】ワイヤ線径は0.08mmから0.25m
mである。
mである。
【0023】前記ワイヤ2には右巻き取りリール3と左
巻き取りリール4により一定の張力Tを掛け、かつ右巻
き取りリール3で巻き取り、左巻き取りリール4に巻き
付けられたワイヤがなくなれば反転し、左巻き取りリー
ル4で巻き取る。
巻き取りリール4により一定の張力Tを掛け、かつ右巻
き取りリール3で巻き取り、左巻き取りリール4に巻き
付けられたワイヤがなくなれば反転し、左巻き取りリー
ル4で巻き取る。
【0024】ワイヤ2はアイドラーリール5に支持され
てSiインゴット1に接触し、ワイヤ2とSiインゴッ
ト1との間に砥粒を分散させた加工液7が介在し、砥粒
によりSiインゴット等が削られる。
てSiインゴット1に接触し、ワイヤ2とSiインゴッ
ト1との間に砥粒を分散させた加工液7が介在し、砥粒
によりSiインゴット等が削られる。
【0025】
本発明における加工液とは、
(a)下式(I)で表されるグリコール類、R1―O―
(CH2CH2O)n―R2 (I)ここで
、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアルキル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基 (b)水溶性増粘剤 (c)水
(CH2CH2O)n―R2 (I)ここで
、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアルキル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基 (b)水溶性増粘剤 (c)水
【0026】を必須成分とし、かつ必須成分(a)、(
b)、(c)の合計重量を100重量部として、必須成
分(a)の含量が1ないし90重量部、必須成分(b)
の含量が0.1ないし5重量部、必須成分(c)の含量
が10ないし99重量部であり、粘度を20℃で90m
Pa・s超〜500mPa・sにコントロールすること
を特徴とする。
b)、(c)の合計重量を100重量部として、必須成
分(a)の含量が1ないし90重量部、必須成分(b)
の含量が0.1ないし5重量部、必須成分(c)の含量
が10ないし99重量部であり、粘度を20℃で90m
Pa・s超〜500mPa・sにコントロールすること
を特徴とする。
【0027】本発明を構成する各要素について以下詳細
に説明する。
に説明する。
【0028】(グリコール類)
本発明の加工液において使用するグリコール類は下記(
I)式で表される化合物である。
I)式で表される化合物である。
【0029】
R1―O―(CH2CH2O)n―R2 (I)
ここで、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアルキ
ル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基
ここで、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアルキ
ル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基
【0030】グリコール類としては、例えば、ブチルセ
ルソルブ、カービトール、カービトールアセテイト、ブ
チルエチルソルブ、エチレングリコールなどを挙げるこ
とができ、中でもカービトール、エチレングリコールの
ような蒸発および引火しにくく、かつ水に易溶性のグリ
コール類を用いると、砥粒の分散安定性の良い加工液が
得られ、かつ後工程における水による洗浄除去に好都合
である。
ルソルブ、カービトール、カービトールアセテイト、ブ
チルエチルソルブ、エチレングリコールなどを挙げるこ
とができ、中でもカービトール、エチレングリコールの
ような蒸発および引火しにくく、かつ水に易溶性のグリ
コール類を用いると、砥粒の分散安定性の良い加工液が
得られ、かつ後工程における水による洗浄除去に好都合
である。
【0031】上記グリコール類が1重量部未満であると
加工液の持つ潤滑性が失われ切断用ワイヤ2および巻き
取りリール3、4の摩耗が大きくなり好ましくない。
加工液の持つ潤滑性が失われ切断用ワイヤ2および巻き
取りリール3、4の摩耗が大きくなり好ましくない。
【0032】また、90重量部を超えると以下に述べる
水溶性増粘剤の作用を低減するため好ましくない。
水溶性増粘剤の作用を低減するため好ましくない。
【0033】(水溶性増粘剤)
メチルセルローズ、エチルセルローズ、ソジウムカルボ
キシメチルセルローズ、ザンサンガァム、ポリアクリル
酸、ポリアクリルアミド等が使用できる。
キシメチルセルローズ、ザンサンガァム、ポリアクリル
酸、ポリアクリルアミド等が使用できる。
【0034】水溶性増粘剤は加工液中に分散させた砥粒
が沈降するのを防止するために用いるものであり、0.
1重量部未満では砥粒の分散保持力が無く、5重量部を
超えると加工液の粘性が増加し、液状化しなくなるため
である。
が沈降するのを防止するために用いるものであり、0.
1重量部未満では砥粒の分散保持力が無く、5重量部を
超えると加工液の粘性が増加し、液状化しなくなるため
である。
【0035】(水)
本発明の加工液に使用する水は、水溶性増粘剤を溶解さ
せて粘度調整を行い易くする目的で配合する。
せて粘度調整を行い易くする目的で配合する。
【0036】水が10重量部未満であると水溶性増粘剤
の溶解が不十分となり、99重量部を超えると上述のよ
うに加工液の潤滑性が失われる。
の溶解が不十分となり、99重量部を超えると上述のよ
うに加工液の潤滑性が失われる。
【0037】(その他の成分)
本発明の加工液には、所望に応じて、その他の配合成分
としてアルコール類、ポリアルキレングリコール類など
をも適宜添加し適切な粘度になるよう調整したりするこ
ともできる。
としてアルコール類、ポリアルキレングリコール類など
をも適宜添加し適切な粘度になるよう調整したりするこ
ともできる。
【0038】本発明の加工液に用いる任意成分のアルコ
ール類およびポリアルキレングリコール類は加工精度の
維持あるいは加工時の環境汚染防止などより、できるだ
け蒸発および引火しにくいものが要求され、また水に対
して易溶性であることが望まれる。
ール類およびポリアルキレングリコール類は加工精度の
維持あるいは加工時の環境汚染防止などより、できるだ
け蒸発および引火しにくいものが要求され、また水に対
して易溶性であることが望まれる。
【0039】したがって、アルコール類としてプロピレ
ングリコール、トリメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、1,3―ブタンジオール、1,4―ブタン
ジオール、2,3―ブタンジオールのような常温で液状
で比較的引火点の高いアルコール類を用いることが望ま
しい。
ングリコール、トリメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、1,3―ブタンジオール、1,4―ブタン
ジオール、2,3―ブタンジオールのような常温で液状
で比較的引火点の高いアルコール類を用いることが望ま
しい。
【0040】また、ポリアルキレングリコール類はポリ
オキシエチレン類を多く含み、水に溶解し易い分子量2
00〜1000程度のものが好適である。
オキシエチレン類を多く含み、水に溶解し易い分子量2
00〜1000程度のものが好適である。
【0041】また、加工液に砥粒を分散させ易くするた
めに界面活性剤を添加したり、加工液の腐敗を防止する
ために防腐剤を添加することもできる。
めに界面活性剤を添加したり、加工液の腐敗を防止する
ために防腐剤を添加することもできる。
【0042】本発明の特長は、前記加工液に所定の粘性
を持たせることにより、図3に示した反りを10μm以
下にして、かつ切断速度が上る点にある。
を持たせることにより、図3に示した反りを10μm以
下にして、かつ切断速度が上る点にある。
【0043】図1に加工液の粘度と切断速度の関係を示
す。
す。
【0044】加工液の粘度が90mPa・s〜500m
Pa・sの場合に切断速度は3mm/min以上にでき
ることが判る。
Pa・sの場合に切断速度は3mm/min以上にでき
ることが判る。
【0045】90mPa・s以下ではワイヤ上における
砥粒の保持力が低下し、切断速度が上がらない。
砥粒の保持力が低下し、切断速度が上がらない。
【0046】
【実施例】表1に本発明の加工液の実施例の組成を示す
。
。
【0047】実施例の結果を図1および以下に具体的に
説明する。
説明する。
【0048】
【表1】
【0049】実施例1の試料液をワイヤソーの加工液と
して使用して、5inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
して使用して、5inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
【0050】
加工液の粘度 ;95mPa・s(20
℃)砥粒 ;GC#1
500加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒1.2
kgワイヤ線径 ;0.12φmm
ピアノ線の張力 ;1.0kgf加工変質層
は2.4μmで、切断速度は3.0mm/minで反り
は8μmであった。
℃)砥粒 ;GC#1
500加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒1.2
kgワイヤ線径 ;0.12φmm
ピアノ線の張力 ;1.0kgf加工変質層
は2.4μmで、切断速度は3.0mm/minで反り
は8μmであった。
【0051】実施例3の試料液をワイヤソーの加工液と
して使用して、5inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
して使用して、5inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
【0052】
加工液の粘度 ;150mPa・s(2
0℃)砥粒 ;GC#
1200加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒1.
0kgワイヤ線径 ;0.12φm
mピアノ線の張力 ;1.0kgf加工変質
層は2.4μmで、切断速度は3.5mm/minで反
りは6μmであった。
0℃)砥粒 ;GC#
1200加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒1.
0kgワイヤ線径 ;0.12φm
mピアノ線の張力 ;1.0kgf加工変質
層は2.4μmで、切断速度は3.5mm/minで反
りは6μmであった。
【0053】実施例4の試料液をワイヤソーの加工液と
して使用して、5inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
して使用して、5inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
【0054】
加工液の粘度 ;360mPa・s(2
0℃)砥粒 ;GC#
1200加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒1.
0kgワイヤ線径 ;0.18φm
mピアノ線の張力 ;2.5kgf加工変質
層は8.4μmで、切断速度は4mm/minで反りは
6μmであった。
0℃)砥粒 ;GC#
1200加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒1.
0kgワイヤ線径 ;0.18φm
mピアノ線の張力 ;2.5kgf加工変質
層は8.4μmで、切断速度は4mm/minで反りは
6μmであった。
【0055】実施例6の試料液をワイヤソーの加工液と
して使用して、6inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
して使用して、6inSiインゴットを以下の条件で切
断した。
【0056】
加工液の粘度 ;490mPa・s(2
0℃)砥粒 ;GC#
1200加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒0.
9kgワイヤ線径 ;0.18φm
mピアノ線の張力 ;2.5kgf加工変質
層は9.5μmで、切断速度は4.3mm/minで反
りは7μmであった。
0℃)砥粒 ;GC#
1200加工液と砥粒の混合比;加工液1l―砥粒0.
9kgワイヤ線径 ;0.18φm
mピアノ線の張力 ;2.5kgf加工変質
層は9.5μmで、切断速度は4.3mm/minで反
りは7μmであった。
【0057】
【発明の効果】従来のワイヤソーによる切断法では、切
断速度は2mm/min以下であったが、本発明により
、2mm/min以上にすることが可能となり、能率が
50%向上した。
断速度は2mm/min以下であったが、本発明により
、2mm/min以上にすることが可能となり、能率が
50%向上した。
【0058】さらに、加工液が水溶性であり、ワイヤソ
ー機および被加工物が水または水性洗剤で容易に洗浄で
きるとの効果も認められた。
ー機および被加工物が水または水性洗剤で容易に洗浄で
きるとの効果も認められた。
【図1】切断速度と加工液粘度の関係の図。
【図2】ワイヤソーの機構を説明するための図。
【図3】反りの説明図。
1 Siインゴット
2 ワイヤ
3、4 リール
5 アイドラリール
6 ノズル
7 加工液
8 押上げ方法
9 テーブル
Claims (2)
- 【請求項1】 ワイヤソーを用いて硬脆材料のインゴ
ットを切断する方法において、粘度が20℃で90mP
a・s超〜500mPa・sを有する水溶性加工液を用
いることを特徴とする切断法。 - 【請求項2】 (a)下式(I)で表されるグリコー
ル類、 R1―O―(CH2CH2O)n―R2 (
I)ここで、R1は水素または炭素原子数が1〜4のア
ルキル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基 (b)水溶性増粘剤 (c)水 を必須成分とし、かつ必須成分(a)、(b)、(c)
の合計重量を100重量部として、必須成分(a)の含
量が1ないし90重量部、必須成分(b)の含量が0.
1ないし5重量部、必須成分(c)の含量が10ないし
99重量部であり、粘度が20℃で90mPa・s超〜
500mPa・sであることを特徴とするワイヤソー用
加工液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41171990A JPH04216897A (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | ワイヤソーによる切断法および加工液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41171990A JPH04216897A (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | ワイヤソーによる切断法および加工液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04216897A true JPH04216897A (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=18520668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP41171990A Pending JPH04216897A (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | ワイヤソーによる切断法および加工液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04216897A (ja) |
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-
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- 1990-12-19 JP JP41171990A patent/JPH04216897A/ja active Pending
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