JPH0421661A - N―ベンジルリンゴ酸イミドの製造法 - Google Patents

N―ベンジルリンゴ酸イミドの製造法

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JPH0421661A
JPH0421661A JP12461790A JP12461790A JPH0421661A JP H0421661 A JPH0421661 A JP H0421661A JP 12461790 A JP12461790 A JP 12461790A JP 12461790 A JP12461790 A JP 12461790A JP H0421661 A JPH0421661 A JP H0421661A
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JP
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benzyl
acid
hydroxysuccinamic
reaction
solvent
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JP12461790A
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English (en)
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Shunichi Maemoto
前本 俊一
Natsuki Mori
夏樹 森
Yoshihiro Suenaga
末永 義弘
Junzo Hasegawa
淳三 長谷川
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は医薬、農薬などの原料として有用なN−ベンジ
ルリンゴ酸イミドの有利な製造法に関する。
[従来の技術] N−ベンジルリンゴ酸イミドを製造する方法としては、
リンゴ酸とベンジルアミンとを無溶媒で直接加熱反応さ
せる方法が知られている(特開昭61−63652号公
報)。
しかしこの方法では、仕込時にリンゴ酸とベンジルアミ
ンを混合したときに生ずる塩が固化して撹拌不能となる
ためにこれを溶融せねばならず、通常のグラスライニン
グタンクなどで工業的に実施するのはきわめて困難であ
る。
一方、シンセティック・コミュニケーションズ(Syn
thetic Communications) 、1
3巻(I3号) 、1117−1123頁(I983年
)には、リンゴ酸のエタノール溶液にベンジルアミンの
エタノール溶液を添加後加熱して水およびエタノールを
留去し、さらにベンゼンを加えて水を共沸留去する方法
が記載されているが、この方法では水、エタノールおよ
びベンゼンの分離回収に多大の費用を要するので、経済
的に有利な製造法とは言い難い。
[発明か解決しようとする課題] 以上述べたように現在知られているN−ベンジルリンゴ
酸イミドの製造法は、操作性、経済性、製品純度などの
面から工業的に実施するにあたり満足できるものではな
い。本発明の目的は、従来の方法に比較して純度の高い
N−ベンジルリンゴ酸イミドを簡便な方法で安価に製造
する方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、N−ベンジルリンゴ酸イミドを製造する
方法について研究を続けてきた結果、N−ベンジル−3
−ヒドロキシスクシンアミド酸またはN−ベンジル−2
−ヒドロキシスクシンアミド酸を有機溶媒中で加熱する
ことによりN−ベンジルリンゴ酸イミドを容易に純度よ
く合成できることを見出し、本発明を完成するにいたっ
た。
すなわち、本発明は、式(I)で示されるN−ベンジル
−3−ヒドロキシスクシンアミド酸(I):または式(
I)で示されるN−ベンジル−2−ヒドロキシスクシン
アミド酸(■): を有機溶媒中で加熱し閉環させることを特徴とするN−
ベンジルリンゴ酸イミドの製造法に関する。
[実施例] 以下本発明について詳細に説明する。
N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸または
N−ベンジル−2−ヒドロキシスクシンアミド酸(以下
、両者を併せてモノアミド類という)を脱水閉環しイミ
ド化するには、モノアミド類を0.2〜30倍量(重量
、以下同じ)、好ましくは0.2〜5.0倍量の有機溶
媒と混合し、内温110〜200℃、好ましくは12o
〜160℃テ1〜lO時間撹拌することにより目的物を
うろことができる。原料に用いるモノアミド類としては
、N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸、N
−ベンジル−2−ヒドロキシスクシンアミド酸またはそ
れらの任意の比率の混合物があげられ、それらはまた、
リンゴ酸、ペンシルアミンを含有するものでもよく、含
水しているものでもよい。
有機溶媒としては、トルエン、キシレンなどのベンゼン
系溶剤、2−プ0パノール、ブタツルなどのアルコール
系溶剤、メチルイソブチルケトン(以下、MIBKとい
う) 、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、N、N−ジメチルセトアミドなどの非プロト
ン性極性溶剤など、一般に工業的に用いられる有機溶剤
を単独でまたは2種以上を混合して用いることかできる
か、なかでも上記のようなベンゼン系溶剤または非プロ
トン性極性溶剤から選ばれる単独または2種以上の混合
溶剤を用いるのか好ましい。
また、ベンゼン系溶剤、MIBKのように水と分離可能
な溶剤を用いるばあいには、水を除きながら実施できる
ので好ましい。すなわち、このような溶剤を用いたばあ
いには、水分離器を用いることにより水を除きなから反
応を進行させることができる。反応終了後、溶液を(I
)冷却して結晶を決取するか、(2)溶液を冷却してえ
られる粗結晶、または溶媒を留去して濃縮した溶液から
えられる粗結晶を再び溶媒に溶かし、弱アルカリ性水溶
液で洗浄後濃縮、再結晶することにより目的物をうろこ
とができる。
さらに精製を行なうばあいは、冷却晶析、抽出、活性炭
処理、活性アルミナ処理、再結晶など通常の精製法を適
用することができる。
出発物質であるモノアミド類は精製が容易なので、これ
らを出発原料として製造されたN−ベンジルリンゴ酸イ
ミドは純度が高く、かつ安価である。
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
参考例1 [リンゴ酸りロラリド(5−カルボキシメチル−2トリ
クロロメチル−4−オキソ−1,3−ジオキソラン)の
合成] DL−リンゴ酸26.4gおよび抱水クロラール37.
6gの混合物に、濃硫酸50 mlを加え、室温で4.
5時間撹拌後、室温で20時間放置した。反応混合物を
氷水にあけ、さらに0.5時間撹拌したのち、濾過した
。えられた結晶を水洗ののち、酢酸エチル800 ml
にとかし、無水の硫酸ナトリウムで乾燥後、ン濾過、濃
縮して、リンゴ酸のフロラリド48゜4gをえた。この
ものの融点は 173〜175℃であり、収率は94%
であった。
参考例2 [N−ベンジル−5−カルバモイルメチル−2−トリク
ロロメチル−4−オキソ−1,3−ジオキソランの合成
コ リンゴ酸りロラリド30.0gと、塩化チオニル120
m1を混合し、撹拌しながら、4時間還流した。室温下
に減圧で塩化チオニルを反応液から留去したのち、えら
れた酸塩化物に塩化メチレン300m1を加え、水冷下
で撹拌しなから111i、3gのベンジルアミンを滴下
した。水冷下さらに2時間撹拌のち反応液を水にあけ、
塩化メチレン層を分離した。さらに水層から酢酸エチル
で抽出後、有機層を合わせて炭酸水素ナトリウムの飽和
水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、ン濾過、濃縮して粗生成物3fli、2g (
収率90%)をえた。この一部をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン、酢酸エチル−3:l)で精
製して、融点131〜135℃のN−ベンジル−5−カ
ルバモイルメチル−2トリクロロメチル−4−オキソ−
1,3−ジオキソランをえた。
’H−NMR(90MHz、 CDCj3)δppm(
内部標*TMS):2.90 (a+、J−4Hz、2
H)   4.45 (dl−6Hz2H)   4.
76〜4.95(Il、IH)   5.86〜6.2
5(br、、IH)   5.813〜5.95(m、
1B)7.13〜7 、51 (m 、 5H)参考例
3 [N−ベンジル−2−ヒドロキシスクシンアミド酸の合
成] 参考例2でえたN−ベンジル−5−カルバモイルメチル
−2−トリクロロメチル−4−オキソ−1,3ジオキソ
ランの粗生成物25gをT)IP (テトラヒドロフラ
ン)147に溶かし、IN NaOH水溶液195 m
lを加えて、2時間還流下に撹拌した。反応液を冷却し
、室温で INの塩酸195m1を加えて中和後濃縮し
た。えられた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー精製(ヘキサン:酢酸エチル−1: 50) 
して、11.3gのN−ベンジル−2−ヒドロキシスク
シンアミド酸をえた(収率7I%)。このものはエタノ
ールより再結晶した。
融点119〜120℃ Rr−0,33(酢酸エチル:メタノール−1:1)ν
KB’   −1: 3B00〜2300.1710.
1650.1580、ITI aX 1430.1280.1140.740.700IH−
NMR(90MH2,アセトン−ds)δppm(内部
標準TMS) : 2.51−3.01(m、2H)   4.45 (d
、J−6Hz。
2H)   4.33〜4.59(m、1)i)   
7.16〜7.49(+a、5H)   7.62〜8
.24(br、、IH)実施例I N−ベンジル−2−ヒドロキシスクシンアミド酸10.
0g(44,8ミリモル)を旧BK 50m1と混合し
、水分離器を用い、生成水を共沸除去しながら3時間還
流下に撹拌した。そののちMIBK 35 mlを留去
し、生成物および旧BK 15 mlを含む反応液を一
15℃まで徐々に冷却した。析出した結晶をン戸取し真
空乾燥して融点111〜114℃のN−ベンジルリンゴ
酸イミドの結晶7.44gをえた(収率81%)。
このものの結晶はガスクロマトグラフィ(3%5ili
cone ov−22/UniportHP、カラム温
度220℃、N2圧0.7kg/cd)で分析を行なツ
タところ純度は99%であった。
実施例2 反応溶媒をトルエンとした以外は実施例1と同様に反応
を行なった。そののち反応液を−lO℃まで徐々に冷却
して粗結晶をえたのち、これを酢酸エチルに溶かして飽
和の炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後ン濾過、濃縮してえた結晶を
再びトルエン60m1を加え加熱して溶解したのち、徐
々に一10℃にまで冷却した。析出した結晶をン戸取し
真空乾燥して目的物5.88gをえた(収率64%、1
.L 113〜115℃)。
実施例3 N−ベンジル−2−ヒドロキシスクシンアミド酸10.
0g(42,9ミリモル)をN、N−ジメチルホルムア
ミド50m1と混合し、4時間還流した。そののち減圧
下、N、N−ジメチルホルムアミドを留去後、粗生成物
を酢酸エチルに溶かし、実施例2と同様の抽出、再結晶
操作を行なって5.32gの目的物をえた(収率58%
、ff1.I)、 112〜115℃)。
実施例4 反応溶剤をジメチルスルホキシドとした以外は実施例3
と同様に反応を行なって4.87gの目的物をえた(収
率53%、LI)、 112〜115℃)。
参考例4 [N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸の合
成〕 参考例1てえたリンゴ酸りロラリド25.0gをトルエ
ン1gに溶解し、撹拌しながら、トリエチルアミン9.
6gを加え、つづいてベンジルアミン11.2gを加え
たのち、95〜105℃で2時間撹拌した。反応液を室
温まで冷却したのち、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液
で2回抽出後、水層を6N塩酸でpH2に調節し、酢酸
エチルで3回抽出した。抽出液を、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、浄過、濃縮した。えられた粗結晶を酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶して、N−ベンジル−3−ヒ
ドロキシスクシンアミド酸0.7gをえた(収率51%
、m、p、 103〜104℃)。
実施例5 N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸を原料
とした以外は実施例1と同様に反応を行なって7 、2
5gの目的物をえた(収率79%、a+、p。
113〜115℃)。純度は99?6であった。
実施例6 N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸を原料
とした以外は実施例2と同様に反応を行なって8.OO
gの目的物をえた(収率61%、m、p111〜114
℃)。
実施例7 N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸を原料
とした以外は実施例3と同様に反応を行なって5.05
gの目的物をえた(収率55%、m、p113〜115
℃)。
実施例8 N−ベンジル−3−ヒドロキシスクシンアミド酸を原料
とした以外は実施例4と同様に反応を行なって5.05
gの目的物をえた(収率55%、m、p112〜114
℃)。
[発明の効果コ 本発明の方法によれば、モノアミド類を有機溶媒中で加
熱することによって閉環イミド化することができるので
、反応から晶析による結晶採取までをきわめて高濃度か
つワンポットで実施でき、非常に高い生産性をもって高
純度のN−ベンジルリンゴ酸イミドを経済的に製造でき
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式( I )で示されるN−ベンジル−3−ヒドロキ
    シスクシンアミド酸( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) または式(II)で示されるN−ベンジル−2−ヒドロキ
    シスクシンアミド酸(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) を有機溶媒中で加熱し閉環させることを特徴とするN−
    ベンジルリンゴ酸イミドの製造法。 2 有機溶媒が非プロトン性極性溶剤である請求項1記
    載の製造法。 3 有機溶媒がメチルイソブチルケトンである請求項2
    記載の製造法。
JP12461790A 1990-05-15 1990-05-15 N―ベンジルリンゴ酸イミドの製造法 Pending JPH0421661A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000043000A1 (fr) * 1999-01-20 2000-07-27 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Inhibiteurs de proteasome

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000043000A1 (fr) * 1999-01-20 2000-07-27 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Inhibiteurs de proteasome

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