JPH0421533A - 偏波保持光ファイバの製造方法 - Google Patents
偏波保持光ファイバの製造方法Info
- Publication number
- JPH0421533A JPH0421533A JP2123748A JP12374890A JPH0421533A JP H0421533 A JPH0421533 A JP H0421533A JP 2123748 A JP2123748 A JP 2123748A JP 12374890 A JP12374890 A JP 12374890A JP H0421533 A JPH0421533 A JP H0421533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- hole
- base material
- stress
- polarization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 81
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 24
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 9
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims description 7
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 28
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 abstract 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000007524 flame polishing Methods 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000007526 fusion splicing Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
- C03B37/01217—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube for making preforms of polarisation-maintaining optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/30—Polarisation maintaining [PM], i.e. birefringent products, e.g. with elliptical core, by use of stress rods, "PANDA" type fibres
- C03B2203/31—Polarisation maintaining [PM], i.e. birefringent products, e.g. with elliptical core, by use of stress rods, "PANDA" type fibres by use of stress-imparting rods, e.g. by insertion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、偏波保持光ファイバの製造方法の改良に関
する。
する。
従来より、偏波保持光ファイバの製造方法としていわゆ
る孔開ジャケット法が知られている(特公昭62−28
098)。これは、光ファイバ母材のコア部分の両側の
中心軸対称な位置においてクラッド部分に孔を開けて、
その孔内に、クラッド部分とは熱膨張係数の異なるガラ
スでてきた応力付与母材を挿入し、その後一体止及び線
引きを行うというものである。通常、光ファイバ母材に
孔を開けるに際し、孔内表面の平坦度を上けて気泡の発
生を防ぎ応力付与母材との一体化状態を良好にするため
に、まず超音波ドリルを使って孔開は加工した後、孔内
表面を機械研削し、つきに機械研磨を行い、さらにフッ
酸水によるエツチングを行い、その後火炎研磨を行うよ
うにしている。 また、応力付与母材については、機械研削、機械研磨を
行って所望の寸法・表面状態のものを作製するようにし
ているのであるが、この方法では表面にOH基や不純物
か残るため、機械研磨の後、フッ酸水によるエツチング
を行っている。 この孔開ジャケット法は、応力付与部の対称性に優れ、
偏波特性が良好である、母材の大型化が容易で量産性に
優れる、シングルモード光ファイバ母材に孔を開けて作
製するため設計の自由度が大きく再現性がよい、等の優
れた製造方法として知られている。
る孔開ジャケット法が知られている(特公昭62−28
098)。これは、光ファイバ母材のコア部分の両側の
中心軸対称な位置においてクラッド部分に孔を開けて、
その孔内に、クラッド部分とは熱膨張係数の異なるガラ
スでてきた応力付与母材を挿入し、その後一体止及び線
引きを行うというものである。通常、光ファイバ母材に
孔を開けるに際し、孔内表面の平坦度を上けて気泡の発
生を防ぎ応力付与母材との一体化状態を良好にするため
に、まず超音波ドリルを使って孔開は加工した後、孔内
表面を機械研削し、つきに機械研磨を行い、さらにフッ
酸水によるエツチングを行い、その後火炎研磨を行うよ
うにしている。 また、応力付与母材については、機械研削、機械研磨を
行って所望の寸法・表面状態のものを作製するようにし
ているのであるが、この方法では表面にOH基や不純物
か残るため、機械研磨の後、フッ酸水によるエツチング
を行っている。 この孔開ジャケット法は、応力付与部の対称性に優れ、
偏波特性が良好である、母材の大型化が容易で量産性に
優れる、シングルモード光ファイバ母材に孔を開けて作
製するため設計の自由度が大きく再現性がよい、等の優
れた製造方法として知られている。
しかしながら、従来の孔開ジャケット法では、孔開け、
機械研削、機械研磨、フッ酸水によるエツチング、火炎
研磨を行っているため、工数が非常に多く、量産化・低
コスト化が妨げられるばかりでなく、孔開けした光ファ
イバ母材に応力付与母材を挿入するという方法であるた
め、孔内表面と応力付与母材表面とに化学吸着したOH
基が線引き後も残留・拡散し、OH基の吸収損失増が避
けられないという、根本的な問題がある。また、光ファ
イバ母材の孔内表面の鏡面度を上げるための火炎研磨が
、母材にOH基をさらに付着させてOH基吸収損失低減
の妨げとなっている。 そのため、この方法で特に低損失を必要とする偏波保持
光ファイバを製造する場合、従来では、応力付与部の間
隔をコア径の2.5倍〜3倍以上離して、応力付与部と
クラッド境界のOH基の吸収損失の影響を少なくするよ
うにしている。しかし、このように応力付与部の間隔を
広くすると、偏波保持光ファイバのモード複屈折率が大
きくならないという別の問題が生じる。つまり、伝送損
失とモード複屈折率とはきびしいトレードオフの関係に
ある。たとえば、波長1.55μm用の偏波保持光ファ
イバにおいて、応力付与部の間隔をコア直径の2.5倍
とすると、得られるモード複屈折率は4.0X10−’
にとどまってしまう。光部品のピグテイルとして用いる
偏波保持光ファイバであればこの程度のモード複屈折率
で十分な偏波保持特性が得られるが、光ファイバジャイ
ロスコープなどの小型のセンサコイルでは偏波保持光フ
ァイバを何層にもわたって小さい径に巻き付けることが
多いため、モード複屈折率を7.0X10−’以上の大
きなものとして曲げ等の外乱による偏波保持特性の劣化
を防ぐ必要があり、上記のようなモード複屈折率では不
十分である。また、偏波保持光ファイバの等偏屈折率の
低いモードを漏洩波にして一つの偏波のみを伝送させる
単一偏波光ファイバでは、十分な単一偏波動作をさせる
ために1゜O/10−3というモード複屈折率が必要と
されるので、上記のようなモード複屈折率ではまったく
不十分であることになる。そこで、このように大きなモ
ード複屈折率を必要とする偏波保持光ファイバにおいて
は、伝送損失をある程度犠牲にして、応力付与母材隔を
狭くして必要なモード複屈折率を得る設計を行っている
。 また、応力付与部の間隔を広くしたまま大きなモード複
屈折率を得る方法として応力付与母材の熱膨張率を大き
くすることが考えられるが、これについても問題が多い
。すなわち、応力付与母材は5i02に、B2O3、G
eO2、P2O6、A1.Olなどの添加材を単独ある
いは複数添加して熱膨張率を高めるようにして作製され
る。これらの添加材の添加量を多くすれば熱膨張率が大
きくなる。しかし、これらB2O3、GeO2、P2O
,などの添加材は添加量を多くすると熱膨張係数を大き
くするが、同時に軟化点も低くする。モード複屈折率は
、コア及びコア近傍の応力の大きさで決まるので、熱膨
張係数が大きくなっても軟化点が低くなれば得られる応
力はそれほど大きくならない。ちなみに、B2O3の場
合、モル濃度20〜25io1%以上添加してもモード
複屈折率はあまり大きくならない。さらに軟化点が低く
なると、光ファイバの作製が困難になるという問題も生
じる。また、応力付与部の応力を大きくするということ
は、光ファイバのカッティングや融着接続を困難にし、
実用性を乏しくしてしまう。 さらに、応力付与部の間隔を広くしたまま大きなモード
複屈折率を得る方法として、ファイバ径を大きくすると
いう方法も採用されたが、同じ長さの光ファイバを得る
のにファイバ径の2乗に比例した体積の母材が必要とな
り不経済であること、光ファイバジャイロスコープなど
ではスペースファクタと静疲労の面からより細径の光フ
ァイバが求められていること、などの理由から現実性に
欠ける。 この発明は、孔開ジャケット法を改良することにより製
造工程を簡略化して製造コストの低減を図るとともに、
応力付与部とクラッド境界におけるOH基を除去してO
H基による吸収損失増を防ぎ5もって応力付与母材隔を
狭くしてモード複屈折率を大きくしても伝送損失の劣化
しない偏波保持光ファイバを安価に製造することができ
る、偏波保持光ファイバの製造方法を提供することを目
的とする。
機械研削、機械研磨、フッ酸水によるエツチング、火炎
研磨を行っているため、工数が非常に多く、量産化・低
コスト化が妨げられるばかりでなく、孔開けした光ファ
イバ母材に応力付与母材を挿入するという方法であるた
め、孔内表面と応力付与母材表面とに化学吸着したOH
基が線引き後も残留・拡散し、OH基の吸収損失増が避
けられないという、根本的な問題がある。また、光ファ
イバ母材の孔内表面の鏡面度を上げるための火炎研磨が
、母材にOH基をさらに付着させてOH基吸収損失低減
の妨げとなっている。 そのため、この方法で特に低損失を必要とする偏波保持
光ファイバを製造する場合、従来では、応力付与部の間
隔をコア径の2.5倍〜3倍以上離して、応力付与部と
クラッド境界のOH基の吸収損失の影響を少なくするよ
うにしている。しかし、このように応力付与部の間隔を
広くすると、偏波保持光ファイバのモード複屈折率が大
きくならないという別の問題が生じる。つまり、伝送損
失とモード複屈折率とはきびしいトレードオフの関係に
ある。たとえば、波長1.55μm用の偏波保持光ファ
イバにおいて、応力付与部の間隔をコア直径の2.5倍
とすると、得られるモード複屈折率は4.0X10−’
にとどまってしまう。光部品のピグテイルとして用いる
偏波保持光ファイバであればこの程度のモード複屈折率
で十分な偏波保持特性が得られるが、光ファイバジャイ
ロスコープなどの小型のセンサコイルでは偏波保持光フ
ァイバを何層にもわたって小さい径に巻き付けることが
多いため、モード複屈折率を7.0X10−’以上の大
きなものとして曲げ等の外乱による偏波保持特性の劣化
を防ぐ必要があり、上記のようなモード複屈折率では不
十分である。また、偏波保持光ファイバの等偏屈折率の
低いモードを漏洩波にして一つの偏波のみを伝送させる
単一偏波光ファイバでは、十分な単一偏波動作をさせる
ために1゜O/10−3というモード複屈折率が必要と
されるので、上記のようなモード複屈折率ではまったく
不十分であることになる。そこで、このように大きなモ
ード複屈折率を必要とする偏波保持光ファイバにおいて
は、伝送損失をある程度犠牲にして、応力付与母材隔を
狭くして必要なモード複屈折率を得る設計を行っている
。 また、応力付与部の間隔を広くしたまま大きなモード複
屈折率を得る方法として応力付与母材の熱膨張率を大き
くすることが考えられるが、これについても問題が多い
。すなわち、応力付与母材は5i02に、B2O3、G
eO2、P2O6、A1.Olなどの添加材を単独ある
いは複数添加して熱膨張率を高めるようにして作製され
る。これらの添加材の添加量を多くすれば熱膨張率が大
きくなる。しかし、これらB2O3、GeO2、P2O
,などの添加材は添加量を多くすると熱膨張係数を大き
くするが、同時に軟化点も低くする。モード複屈折率は
、コア及びコア近傍の応力の大きさで決まるので、熱膨
張係数が大きくなっても軟化点が低くなれば得られる応
力はそれほど大きくならない。ちなみに、B2O3の場
合、モル濃度20〜25io1%以上添加してもモード
複屈折率はあまり大きくならない。さらに軟化点が低く
なると、光ファイバの作製が困難になるという問題も生
じる。また、応力付与部の応力を大きくするということ
は、光ファイバのカッティングや融着接続を困難にし、
実用性を乏しくしてしまう。 さらに、応力付与部の間隔を広くしたまま大きなモード
複屈折率を得る方法として、ファイバ径を大きくすると
いう方法も採用されたが、同じ長さの光ファイバを得る
のにファイバ径の2乗に比例した体積の母材が必要とな
り不経済であること、光ファイバジャイロスコープなど
ではスペースファクタと静疲労の面からより細径の光フ
ァイバが求められていること、などの理由から現実性に
欠ける。 この発明は、孔開ジャケット法を改良することにより製
造工程を簡略化して製造コストの低減を図るとともに、
応力付与部とクラッド境界におけるOH基を除去してO
H基による吸収損失増を防ぎ5もって応力付与母材隔を
狭くしてモード複屈折率を大きくしても伝送損失の劣化
しない偏波保持光ファイバを安価に製造することができ
る、偏波保持光ファイバの製造方法を提供することを目
的とする。
上記の目的を達成するため、この発明によれば、光ファ
イバ母材のコア部分の両側の中心軸対称な位置において
クラッド部分に孔を開けて、その孔内に、クラッド部分
とは熱膨張係数の異なるガラスでてきた応力付与母材を
挿入し、その後−像化及び線引きを行う偏波保持光ファ
イバの製造方法において、孔開は後、該孔内にフッ素化
合物ガスを流しながら該光ファイバ母材を高温に加熱し
、その後減圧雰囲気とすることが特徴となっている。
イバ母材のコア部分の両側の中心軸対称な位置において
クラッド部分に孔を開けて、その孔内に、クラッド部分
とは熱膨張係数の異なるガラスでてきた応力付与母材を
挿入し、その後−像化及び線引きを行う偏波保持光ファ
イバの製造方法において、孔開は後、該孔内にフッ素化
合物ガスを流しながら該光ファイバ母材を高温に加熱し
、その後減圧雰囲気とすることが特徴となっている。
光ファイバ母材に設けられた孔内にフッ素化合物ガスを
流しながら該光ファイバ母材を高温に加熱すると、その
孔内表面が気相工・7チンクされるとともに、火炎研磨
か行われて孔内表面か鏡面化される。 この孔内表面を気相エツチングする場合、OH基や不純
物は同時に除去される。 また、この工程により、孔内表面層において、OH基が
81と強く結合することが起こりにくい状態となる。 つぎに減圧雰囲気とすることにより、孔内表面のOH基
は結合が弱いため減圧下でその表面より解離する。 その結果、応力付与部の間隔をたとえはコア径の2.5
倍以下としてモード複屈折率を高めなから、OH基によ
る吸収損失の少ない低損失の偏波保持光ファイバを製造
することができる。
流しながら該光ファイバ母材を高温に加熱すると、その
孔内表面が気相工・7チンクされるとともに、火炎研磨
か行われて孔内表面か鏡面化される。 この孔内表面を気相エツチングする場合、OH基や不純
物は同時に除去される。 また、この工程により、孔内表面層において、OH基が
81と強く結合することが起こりにくい状態となる。 つぎに減圧雰囲気とすることにより、孔内表面のOH基
は結合が弱いため減圧下でその表面より解離する。 その結果、応力付与部の間隔をたとえはコア径の2.5
倍以下としてモード複屈折率を高めなから、OH基によ
る吸収損失の少ない低損失の偏波保持光ファイバを製造
することができる。
つぎにこの発明の一実施例について図面を参照しながら
説明する。まずシングルモードの光ファイバ母材に超音
波ドリルなどを用いて孔開は加工を行ない、第1図に示
すようなコア部分の両側の中心軸に対称な位置に孔11
(この実施例では2つ)を有する光ファイバ母材1を得
る。この光ファイバ母材1の両端に石英管2.2を融着
、接続し、この石英管2.2の部分でガラス旋盤3に回
転自在に把持させる。そして、酸素・水素火炎を発生す
るバーナ(またはプラズマトーチ)4をトラバースさせ
てこの光ファイバ母材1を外側から加熱する。このとき
、レーザ測長器5で孔11の内径を監視する。また、石
英管2の一方の側(この図では左側)にコネクタ6を介
してテフロンのバイブ7を接続し、フィルタ及びスイベ
ル8を介してSF6.02が流される。他方の側(図で
は右側)の石英管2の先端にはスクラバ(図示しない)
が接続され、石英管2内のガスが排気されるようになっ
ている。 上記のように光ファイバ母材1に孔11を設けると、そ
の孔11の内表面にはS 1−OHのような形でOH基
が化学吸着している。これが母材の一体化・線引き時に
残留・拡散してOH基吸収損失をもたらすのであり、と
くに従来のように孔11の内面の鏡面度を良くして気泡
の発生を防ぐために酸素と水素の火炎で孔11の内面を
火炎研磨するとOH基が孔11の周辺に拡散し、脱水を
行うことは不可能となる。 そこで、ここでは孔11の内面の火炎研磨は行わず、第
1図に示すようにフッ素化合物ガスを孔11内に導入し
なから、光ファイバ母材1を加熱することにより、孔1
1の内表面を気相エツチングする。光ファイバ母材1の
クラッド部分が5i02のみからなる場合、 5in2+SF、、→SiF4+ SO2+F2の反応
か生して孔11の内表面がエツチングされる。孔11の
内表面に吸着していたOH基や不純物は石英表面層がエ
ツチングされるときに同時に除去されてしまう。光ファ
イバ母材1のクラッド部分か5i02のみからなるもの
であれば、母材1の部分の温度を1600°C以上にし
て内面の火炎研磨効果を出すことにより、酸水素火炎で
直接火炎研磨した場合とほぼ同様の鏡面状態が得られる
。 このとき母材1の孔11がつぶれないように、石英管2
及び孔11内部を若干加圧状態としておく。 このような処理により、光ファイバ母材1の孔11の内
面における表面層は、5t−Fという状態になっており
、OH基のSiとの強い結合が起こりにくい状態となっ
ている。 二の実施例では、SF6.0□をそれぞれ150SCC
M、3000 SCCM流しながら、バーナ4からの酸
水素火炎で光ファイバ母材1を加熱し、このバーナ4を
2回トラバースさせて孔11の内表面を鏡面とした。エ
ツチング前の孔11の直径を10鴫、2つの孔11の中
心の間隔を6mに設定し、エツチング後に孔11の直径
11.2ss、2つの孔11の中心の間隔4.8mの光
ファイバ母材1を得た。 この光ファイバ母材lの2つの孔11に、第2図に示す
ように、一端に石英ロッド91が融着接続された応力付
与母材9をそれぞれ挿入する。そして、光ファイバ母材
1の一端(下端)に石英棒10を融着接続し、孔11内
部を10−2Torr以下に減圧して光ファイバ母材1
の部分を加熱することにより光ファイバ母材1と応力付
与母材9とを一体化し、その後線引きしてファイバ化す
る。孔11の内表面のOH基は、結合が弱いために減圧
下で表面より解離する。 この実施例では、光ファイバ母材1の孔11に挿入すべ
き応力付与母材9として、直径10.8閣に研削・研磨
したものを用い、この応力付与母材9を光ファイバ母材
1の孔11に挿入した上で、孔11内部を10−2To
rr以下に減圧しながら抵抗加熱炉にて光ファイバ母材
lの部分を加熱し一体化を行った後、ファイバ径を12
5amに設定し、第2図の下部の石英棒10から加熱し
て下方に線引きした。 この実施例で得た光ファイバの損失波長特性は第3図A
のようになった。なお、第3図B、Cは、参考までに従
来法で作製した光ファイバについての損失波長特性を示
すものである。これらの特性A、B、C,をそれぞれ持
つ光7フイバ1blla2、No3の構造パラメータは
以下の表1のようになっている。 表1 この実施例で作製した光ファイバ(Nol)の損失波長
特性(第3図A)と、従来法で作製したほぼ同一構造の
光ファイバ(No2)の損失波長特性(第3図B)とを
比較すると、本発明によるものはモードフィールド径が
NQ2の光ファイバよりも大きいにもかかわらず、明ら
かにOH基の吸収損失が少なく、低損失である。 また、No3の光ファイバは従来法でOH基の吸収損失
を少なくするために応力付与部間隔を21μmと広くし
たものであり、たしかに第3図Cに示すようにOH基の
吸収損失が少なくなってはいる。 しかし、応力付与部間隔を広くしたことにより、モード
複屈折率が上記の表1の通り4.Ox 10−4にとど
まってしまい、高いモード複屈折率のものは得られない
。 一方の偏波軸のみに直線偏波を入射したときに他方の偏
波軸にパワーが単位長さ当り結合する量をh−パラメー
タというが、これも本実施例で作製した光ファイバ(N
ol)が一番少なく、偏波保持特性が一番よいことが分
かる。本発明によりモ−ド複屈折率を大きくした効果が
現れている。 これらから、上記のような製造方法をとることにより、
応力付与部をコアに近づけてモード複屈折率が高くなる
ような設計をしても、OH基吸収損失のきわめて低い、
偏波保持特性の良好な偏波保持光ファイバを得ることが
できることが分かる。 つぎに、第2の実施例について説明する。この実施例で
は、最初の光ファイバ母材1として、直径9.2鵬の2
つの孔11を、それらの孔11の中心の間隔が4.8M
となるようにして設けたものを用いている。この光ファ
イバ母材1の2つの孔11に、上記の第1の実施例と同
様の方法により、SF6ガスを流して孔11の内表面を
エツチングし、孔11の直径11.3M、2つの孔11
の中心の間隔2.7mの光ファイバ母材1とした。 この光ファイバ母材1の答礼11に、直径10゜7Mの
応力付与母材9を挿入し、一体止した後、線引きを行っ
て光ファイバを製造した。その結果、つぎの表2に示す
ような特性を持つ光ファイバが得られた。 表2 この表2から、本発明の製造方法によれば、応力付与母
材9の間隔をコア径以下に設定しても、OH基吸収損失
を非常に小さく抑えることができ、そのため1.0X1
0−3という、かつて得られなかった非常に大きなモー
ド複屈折率が得られ、偏波保持特性も優れている光ファ
イバが得られることが分かる。すなわち、この結果より
、本発明による偏波保持光ファイバの製造方法は、OH
基除去に優れ、且つ超高モード複屈折の偏波保持光ファ
イバを作成するのに適していることが証明されている。 なお、上記では応力付与母材9を孔11内に挿入した後
母材1の内部を10−2Torr程度に減圧して一体化
し、その後線引きしているが、応力付与母材9を孔11
内に挿入した後母材1の内部を一旦10−2Torr程
度に減圧した後10−1程度の塩素ガスまたは塩素化合
物ガスを不活性ガスで希釈した雰囲気にしておき、一体
止してから線引きすれば、 5i−OH+5OCh→Si+HC1+5O2B−OH
+5OC12→B+HC1+SO2の反応で、孔11の
内表面と応力付与母材9の外表面のOH基が除去され、
さらに低損失化が図れる。 また、一体止と同時に線引きを行えは、加圧状態でも十
分に一体化てきるため、減圧後、760mm1−1g程
度の塩素ガス 塩素化合物ガス雰囲気にしておくことに
より、OH基をより除去することができる。このとき、
Heガスを混合するとその効果がさらに向上する。 さらに、応力付与母材9の加工方法を改良することによ
り、その表面でのOH基や不純物を少なくして、光ファ
イバからOH基・不純物を完全に除去し、より低損失な
偏波保持光ファイバを得るようにすることもてきる。す
なわち、この応力付与母材9は、通常、機械研削、機械
研磨を行って所望の寸法、表面状態としているが、これ
では表面にOH基や不純物が残るため、従来では機械研
磨の後、フッ酸水によるエツチングを行っている。 このような加工方法に代えて、機械研磨にである程度の
外径の研削を行った後、ただちにフッ素系化合物ガスを
流しながらAr等のプラズマ火炎によりエツチングを行
って所定の外径とし、その後、Ar等のプラズマ火炎に
より火炎研磨を行うのである。こうして得た応力付与母
材9を光ファイバ母材1の孔11に挿入するという他の
工程は上記と同じである。
説明する。まずシングルモードの光ファイバ母材に超音
波ドリルなどを用いて孔開は加工を行ない、第1図に示
すようなコア部分の両側の中心軸に対称な位置に孔11
(この実施例では2つ)を有する光ファイバ母材1を得
る。この光ファイバ母材1の両端に石英管2.2を融着
、接続し、この石英管2.2の部分でガラス旋盤3に回
転自在に把持させる。そして、酸素・水素火炎を発生す
るバーナ(またはプラズマトーチ)4をトラバースさせ
てこの光ファイバ母材1を外側から加熱する。このとき
、レーザ測長器5で孔11の内径を監視する。また、石
英管2の一方の側(この図では左側)にコネクタ6を介
してテフロンのバイブ7を接続し、フィルタ及びスイベ
ル8を介してSF6.02が流される。他方の側(図で
は右側)の石英管2の先端にはスクラバ(図示しない)
が接続され、石英管2内のガスが排気されるようになっ
ている。 上記のように光ファイバ母材1に孔11を設けると、そ
の孔11の内表面にはS 1−OHのような形でOH基
が化学吸着している。これが母材の一体化・線引き時に
残留・拡散してOH基吸収損失をもたらすのであり、と
くに従来のように孔11の内面の鏡面度を良くして気泡
の発生を防ぐために酸素と水素の火炎で孔11の内面を
火炎研磨するとOH基が孔11の周辺に拡散し、脱水を
行うことは不可能となる。 そこで、ここでは孔11の内面の火炎研磨は行わず、第
1図に示すようにフッ素化合物ガスを孔11内に導入し
なから、光ファイバ母材1を加熱することにより、孔1
1の内表面を気相エツチングする。光ファイバ母材1の
クラッド部分が5i02のみからなる場合、 5in2+SF、、→SiF4+ SO2+F2の反応
か生して孔11の内表面がエツチングされる。孔11の
内表面に吸着していたOH基や不純物は石英表面層がエ
ツチングされるときに同時に除去されてしまう。光ファ
イバ母材1のクラッド部分か5i02のみからなるもの
であれば、母材1の部分の温度を1600°C以上にし
て内面の火炎研磨効果を出すことにより、酸水素火炎で
直接火炎研磨した場合とほぼ同様の鏡面状態が得られる
。 このとき母材1の孔11がつぶれないように、石英管2
及び孔11内部を若干加圧状態としておく。 このような処理により、光ファイバ母材1の孔11の内
面における表面層は、5t−Fという状態になっており
、OH基のSiとの強い結合が起こりにくい状態となっ
ている。 二の実施例では、SF6.0□をそれぞれ150SCC
M、3000 SCCM流しながら、バーナ4からの酸
水素火炎で光ファイバ母材1を加熱し、このバーナ4を
2回トラバースさせて孔11の内表面を鏡面とした。エ
ツチング前の孔11の直径を10鴫、2つの孔11の中
心の間隔を6mに設定し、エツチング後に孔11の直径
11.2ss、2つの孔11の中心の間隔4.8mの光
ファイバ母材1を得た。 この光ファイバ母材lの2つの孔11に、第2図に示す
ように、一端に石英ロッド91が融着接続された応力付
与母材9をそれぞれ挿入する。そして、光ファイバ母材
1の一端(下端)に石英棒10を融着接続し、孔11内
部を10−2Torr以下に減圧して光ファイバ母材1
の部分を加熱することにより光ファイバ母材1と応力付
与母材9とを一体化し、その後線引きしてファイバ化す
る。孔11の内表面のOH基は、結合が弱いために減圧
下で表面より解離する。 この実施例では、光ファイバ母材1の孔11に挿入すべ
き応力付与母材9として、直径10.8閣に研削・研磨
したものを用い、この応力付与母材9を光ファイバ母材
1の孔11に挿入した上で、孔11内部を10−2To
rr以下に減圧しながら抵抗加熱炉にて光ファイバ母材
lの部分を加熱し一体化を行った後、ファイバ径を12
5amに設定し、第2図の下部の石英棒10から加熱し
て下方に線引きした。 この実施例で得た光ファイバの損失波長特性は第3図A
のようになった。なお、第3図B、Cは、参考までに従
来法で作製した光ファイバについての損失波長特性を示
すものである。これらの特性A、B、C,をそれぞれ持
つ光7フイバ1blla2、No3の構造パラメータは
以下の表1のようになっている。 表1 この実施例で作製した光ファイバ(Nol)の損失波長
特性(第3図A)と、従来法で作製したほぼ同一構造の
光ファイバ(No2)の損失波長特性(第3図B)とを
比較すると、本発明によるものはモードフィールド径が
NQ2の光ファイバよりも大きいにもかかわらず、明ら
かにOH基の吸収損失が少なく、低損失である。 また、No3の光ファイバは従来法でOH基の吸収損失
を少なくするために応力付与部間隔を21μmと広くし
たものであり、たしかに第3図Cに示すようにOH基の
吸収損失が少なくなってはいる。 しかし、応力付与部間隔を広くしたことにより、モード
複屈折率が上記の表1の通り4.Ox 10−4にとど
まってしまい、高いモード複屈折率のものは得られない
。 一方の偏波軸のみに直線偏波を入射したときに他方の偏
波軸にパワーが単位長さ当り結合する量をh−パラメー
タというが、これも本実施例で作製した光ファイバ(N
ol)が一番少なく、偏波保持特性が一番よいことが分
かる。本発明によりモ−ド複屈折率を大きくした効果が
現れている。 これらから、上記のような製造方法をとることにより、
応力付与部をコアに近づけてモード複屈折率が高くなる
ような設計をしても、OH基吸収損失のきわめて低い、
偏波保持特性の良好な偏波保持光ファイバを得ることが
できることが分かる。 つぎに、第2の実施例について説明する。この実施例で
は、最初の光ファイバ母材1として、直径9.2鵬の2
つの孔11を、それらの孔11の中心の間隔が4.8M
となるようにして設けたものを用いている。この光ファ
イバ母材1の2つの孔11に、上記の第1の実施例と同
様の方法により、SF6ガスを流して孔11の内表面を
エツチングし、孔11の直径11.3M、2つの孔11
の中心の間隔2.7mの光ファイバ母材1とした。 この光ファイバ母材1の答礼11に、直径10゜7Mの
応力付与母材9を挿入し、一体止した後、線引きを行っ
て光ファイバを製造した。その結果、つぎの表2に示す
ような特性を持つ光ファイバが得られた。 表2 この表2から、本発明の製造方法によれば、応力付与母
材9の間隔をコア径以下に設定しても、OH基吸収損失
を非常に小さく抑えることができ、そのため1.0X1
0−3という、かつて得られなかった非常に大きなモー
ド複屈折率が得られ、偏波保持特性も優れている光ファ
イバが得られることが分かる。すなわち、この結果より
、本発明による偏波保持光ファイバの製造方法は、OH
基除去に優れ、且つ超高モード複屈折の偏波保持光ファ
イバを作成するのに適していることが証明されている。 なお、上記では応力付与母材9を孔11内に挿入した後
母材1の内部を10−2Torr程度に減圧して一体化
し、その後線引きしているが、応力付与母材9を孔11
内に挿入した後母材1の内部を一旦10−2Torr程
度に減圧した後10−1程度の塩素ガスまたは塩素化合
物ガスを不活性ガスで希釈した雰囲気にしておき、一体
止してから線引きすれば、 5i−OH+5OCh→Si+HC1+5O2B−OH
+5OC12→B+HC1+SO2の反応で、孔11の
内表面と応力付与母材9の外表面のOH基が除去され、
さらに低損失化が図れる。 また、一体止と同時に線引きを行えは、加圧状態でも十
分に一体化てきるため、減圧後、760mm1−1g程
度の塩素ガス 塩素化合物ガス雰囲気にしておくことに
より、OH基をより除去することができる。このとき、
Heガスを混合するとその効果がさらに向上する。 さらに、応力付与母材9の加工方法を改良することによ
り、その表面でのOH基や不純物を少なくして、光ファ
イバからOH基・不純物を完全に除去し、より低損失な
偏波保持光ファイバを得るようにすることもてきる。す
なわち、この応力付与母材9は、通常、機械研削、機械
研磨を行って所望の寸法、表面状態としているが、これ
では表面にOH基や不純物が残るため、従来では機械研
磨の後、フッ酸水によるエツチングを行っている。 このような加工方法に代えて、機械研磨にである程度の
外径の研削を行った後、ただちにフッ素系化合物ガスを
流しながらAr等のプラズマ火炎によりエツチングを行
って所定の外径とし、その後、Ar等のプラズマ火炎に
より火炎研磨を行うのである。こうして得た応力付与母
材9を光ファイバ母材1の孔11に挿入するという他の
工程は上記と同じである。
この発明の偏波保持光ファイバの製造方法によれば、応
力付与部の間隔を狭くしてモード複屈折率を高めても、
OH基による吸収損失の少ない低損失の偏波保持光ファ
イバを製造することができる。また、光ファイバ母材に
対する孔開けの後、その孔内にフッ素化合物ガスを流し
ながら加熱して孔内表面のエツチングとともに孔内表面
の火炎研磨を行っているため、製造工程が簡素化され、
製造コストの低減を図ることができる。すなわち、従来
の、孔開け、機械研削、機械研磨、フッ酸水によるエツ
チング、火炎研磨という、孔内面の鏡面化のための複雑
な工程のうち、少なくとも火炎研磨以降の工程を省くこ
とができ、さらに製造条件の最適化により機械研磨以降
の工程を不要とすることができる。そこで、この発明は
、光ファイバジャイロスコープ等のセンサコイルにおい
て、小さい径に何層にもわたって巻き付けられる偏波保
持光ファイバを安価に製造することにとくに有用である
。すなわち、このような偏波保持光ファイバでは、応力
付与部の間隔を狭くしてモード複屈折率を大きくするこ
とにより曲げ等の外乱による偏波保持特性の劣化を防ぐ
必要があるが、この発明の偏波保持光ファイバの製造方
法によれば、モード複屈折率を大きくしても伝送損失を
低減することができるからである。また、大きなモード
複屈折率が必要とされる単一偏波光ファイバの伝送損失
を低減することにも有効である。
力付与部の間隔を狭くしてモード複屈折率を高めても、
OH基による吸収損失の少ない低損失の偏波保持光ファ
イバを製造することができる。また、光ファイバ母材に
対する孔開けの後、その孔内にフッ素化合物ガスを流し
ながら加熱して孔内表面のエツチングとともに孔内表面
の火炎研磨を行っているため、製造工程が簡素化され、
製造コストの低減を図ることができる。すなわち、従来
の、孔開け、機械研削、機械研磨、フッ酸水によるエツ
チング、火炎研磨という、孔内面の鏡面化のための複雑
な工程のうち、少なくとも火炎研磨以降の工程を省くこ
とができ、さらに製造条件の最適化により機械研磨以降
の工程を不要とすることができる。そこで、この発明は
、光ファイバジャイロスコープ等のセンサコイルにおい
て、小さい径に何層にもわたって巻き付けられる偏波保
持光ファイバを安価に製造することにとくに有用である
。すなわち、このような偏波保持光ファイバでは、応力
付与部の間隔を狭くしてモード複屈折率を大きくするこ
とにより曲げ等の外乱による偏波保持特性の劣化を防ぐ
必要があるが、この発明の偏波保持光ファイバの製造方
法によれば、モード複屈折率を大きくしても伝送損失を
低減することができるからである。また、大きなモード
複屈折率が必要とされる単一偏波光ファイバの伝送損失
を低減することにも有効である。
第1図及び第2図はこの発明の一実施例における各工程
を説明するためのもので、第1図は一部切り欠いた正面
図、第2図は断面図、第3図は損失波長特性を示すグラ
フである。 1・・光ファイバ母材、11・・・孔、2・・・石英管
、3・・・カラス旋磐、4・・・バーナ、5・・・レー
ザ測長器、6・・・コネクタ、7・・・パイプ、8・・
・フィルタ及びスイベル、9・・・応力付与母材、91
・・・石英ロッド、10・・・石英棒。
を説明するためのもので、第1図は一部切り欠いた正面
図、第2図は断面図、第3図は損失波長特性を示すグラ
フである。 1・・光ファイバ母材、11・・・孔、2・・・石英管
、3・・・カラス旋磐、4・・・バーナ、5・・・レー
ザ測長器、6・・・コネクタ、7・・・パイプ、8・・
・フィルタ及びスイベル、9・・・応力付与母材、91
・・・石英ロッド、10・・・石英棒。
Claims (1)
- (1)光ファイバ母材のコア部分の両側の中心軸対称な
位置においてクラッド部分に孔を開けて、その孔内に、
クラッド部分とは熱膨張係数の異なるガラスでできた応
力付与母材を挿入し、その後一体化及び線引きを行う偏
波保持光ファイバの製造方法において、孔開け後、該孔
内にフッ素化合物ガスを流しながら該光ファイバ母材を
高温に加熱し、その後減圧雰囲気とすることを特徴とす
る偏波保持光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2123748A JPH0421533A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 偏波保持光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2123748A JPH0421533A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 偏波保持光ファイバの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0421533A true JPH0421533A (ja) | 1992-01-24 |
Family
ID=14868347
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2123748A Pending JPH0421533A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 偏波保持光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0421533A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0630864A2 (en) * | 1993-05-24 | 1994-12-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fabrication process of polarization-maintaining optical fiber |
GB2384322A (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-23 | Sumitomo Electric Industries | Making polarisation maintaining optic fibre |
JP2006327858A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Fujikura Ltd | 石英ガラス母材の処理方法及び光ファイバ用母材の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5992929A (ja) * | 1982-11-17 | 1984-05-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 偏波保持光フアイバの製造方法 |
JPS6212626A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 定偏波光フアイバの製造方法 |
JPS6259545A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバ母材の製造方法 |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP2123748A patent/JPH0421533A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5992929A (ja) * | 1982-11-17 | 1984-05-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 偏波保持光フアイバの製造方法 |
JPS6212626A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 定偏波光フアイバの製造方法 |
JPS6259545A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバ母材の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0630864A2 (en) * | 1993-05-24 | 1994-12-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fabrication process of polarization-maintaining optical fiber |
EP0630864A3 (en) * | 1993-05-24 | 1995-05-24 | Sumitomo Electric Industries | Method of manufacturing an optical fiber with polarization conservation. |
GB2384322A (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-23 | Sumitomo Electric Industries | Making polarisation maintaining optic fibre |
JP2006327858A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Fujikura Ltd | 石英ガラス母材の処理方法及び光ファイバ用母材の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4354736A (en) | Stress-induced birefringent single mode optical fiber and a method of fabricating the same | |
US4978377A (en) | Method of assembling a fiber optic preform from discrete preformed elements | |
US4906068A (en) | Polarization-maintaining optical fibers for coupler fabrication | |
CA2028525C (en) | Achromatic fiber optic coupler | |
US4415230A (en) | Polarization retaining single-mode optical waveguide | |
CA2060016C (en) | Method of making polarization retaining fiber | |
US5295210A (en) | Optical waveguide fiber achromatic coupler | |
EP0061901B1 (en) | Optical waveguide fiber, and methods of forming an optical waveguide fiber, and an optical waveguide preform | |
US4935045A (en) | Method of manufacturing a preform for asymmetrical optical fiber | |
US4360371A (en) | Method of making polarization retaining single-mode optical waveguide | |
EP1101744A3 (en) | Method of making a multimode optical fiber and fiber made by the method | |
AU753111B2 (en) | Method of manufacturing optical fiber base material | |
JPH03182704A (ja) | 受動光部品およびその製造方法 | |
US8689587B2 (en) | Polarization controlling optical fiber preform and preform fabrication methods | |
JPH037613B2 (ja) | ||
JPH01153551A (ja) | 定偏波光フアイバの製造方法 | |
JP2003212581A (ja) | 偏波保持ファイバの製造方法 | |
JPH0421533A (ja) | 偏波保持光ファイバの製造方法 | |
KR950000689B1 (ko) | 편파유지 광파이버용 모재의 제조방법 | |
JPS6212626A (ja) | 定偏波光フアイバの製造方法 | |
JP2762571B2 (ja) | 偏波保持光ファイバの製造方法 | |
JP3836730B2 (ja) | 偏波保存フォトニッククリスタルファイバ及びその製造方法 | |
JPS62167235A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JP2003146680A (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
JPH0723228B2 (ja) | 定偏波光フアイバの製造方法 |