JPH04212360A - 押出粒子の製造方法およびこれに使用する装置 - Google Patents

押出粒子の製造方法およびこれに使用する装置

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JPH04212360A
JPH04212360A JP3044538A JP4453891A JPH04212360A JP H04212360 A JPH04212360 A JP H04212360A JP 3044538 A JP3044538 A JP 3044538A JP 4453891 A JP4453891 A JP 4453891A JP H04212360 A JPH04212360 A JP H04212360A
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lance
gas
gas flow
strand
nozzle
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JP3044538A
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Herbert Huttllin
ヒュットリン ヘルベルト
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    • B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
    • B29B9/00—Making granules
    • B29B9/02—Making granules by dividing preformed material
    • B29B9/06—Making granules by dividing preformed material in the form of filamentary material, e.g. combined with extrusion
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/14—Particulate form, e.g. powders, Processes for size reducing of pure drugs or the resulting products, Pure drug nanoparticles
    • A61K9/16—Agglomerates; Granulates; Microbeadlets ; Microspheres; Pellets; Solid products obtained by spray drying, spray freeze drying, spray congealing,(multiple) emulsion solvent evaporation or extraction
    • A61K9/1682—Processes
    • A61K9/1688—Processes resulting in pure drug agglomerate optionally containing up to 5% of excipient
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
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    • B01J13/04—Making microcapsules or microballoons by physical processes, e.g. drying, spraying
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ストランドの形態の練
粉状物質をガス流中にこれと交差させて押出し、ガス流
によって折取ることより、押出粒子、特に薬剤ペレット
用前駆物質である押出粒子を製造する方法に関するもの
である。さらに、本発明は、少なくとも１個の処理室を
具え、該処理室はガス流を処理室内に発生させるための
少なくとも１個のガス入口および少なくとも１個のガス
出口を有し、さらにガス流の方向を横切って処理室内に
開口する押出ノズルを経て押出すために物質を輸送する
ための少なくとも１個のポンプを具えた、上述の方法を
実施するのに使用する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】上述のような方法および装置は米国特許
第３，２１３，１７０号明細書から既知である。この場
合には、ストランド形態の練粉状物質を、ガス流が頂部
から底部まで垂直に案内される通路内に水平に押出す。 押出された粒子をガス流によって乾燥しかつせん断作用
を加え、次いで水平管内に接線方向に落下させて押出粒
子を回転移動させることにより、この粒子に丸味を付け
る。
【０００３】この方法を使用した場合にガス流を押出粒
子が可能な最短時間の後に折取られるような強さに調整
すると、押出粒子は風下側において湿っていて、落下中
に他の押出粒子と凝集する危険がある。他方、ガス流を
押出粒子が均一に乾燥するように弱くすると、粒子が適
切な時に折取られず、通路内に詰込まれる危険がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、押出粒子の付着または詰込みが確実に回避されるよ
うに、押出粒子の製造方法を改善し、かつこの方法を実
施するのに使用する装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】製造方法に関し、本発明
においては、冒頭に記載した方法において、ストランド
の予備乾燥および折取りをガス流によって行い、ストラ
ンドに向けた少なくとも１個の強く集束させた圧力ガス
噴流によって支援することを特徴とすることによって、
上述の目的を達成する。本発明方法の有利な追加の展開
は請求項２〜７に記載した通りである。
【０００６】本発明方法を実施するには、冒頭に記載し
た装置において、処理室内においてガス流を横切って延
在する少なくとも１個の中空ランスを具え、該ランスは
押出ノズルを具え、かつランスの長手方向に延在し縦ス
ロットを介して分配通路に連通する輸送通路を有し、前
記分配通路には押出ノズルが連結されていることを特徴
とする装置を使用するのが好ましい。本発明装置の有利
な追加の展開は請求項９〜１８に記載した通りである。
【０００７】
【実施例】本発明装置の一例を、図面を参照して、例に
ついて説明する。図示した流動床装置はハウジング１０
を具え、ハウジング１０は水平方向に細長い形状を有す
る平行六面体であって、熱絶縁壁を有する。ハウジング
１０の内側には６個の処理室１２が形成され、処理室１
２は共通の底１４、底１４に配置された２個のガス入口
１６およびガス出口１８を有し、５個のガス出口１８が
それぞれ２個の隣接する処理室１２と関連している。
【０００８】処理室１２はガス入口１６を介して共通の
空気供給室２０に連通し、空気供給室２０は底１４の下
に配置され、除湿した熱空気または他の処理用ガスを連
結部２２から受け取る。ガス出口１８は使用済み空気室
２４に開口し、空気室２４はハウジング１０の両側に長
手方向に配置され、底１４の下まで下方に延在し、空気
室２４は連結部２６を介して従来のブロアの吸込端に連
結できるようになっている。稼働中、各処理室１２をそ
の頂部でふた２８によって閉鎖する。ふた２８は例えば
ガラス製であり、揺動させて掃除のために開けることが
できるようになっている。
【０００９】底１４の上には、既知の関節連結した、す
なわち接続した金属帯またはプラスチック製つる巻線の
ようなガス透過性のコンベヤベルト３０が設けられ、コ
ンベヤベルト３０はハウジング１０全体を長手方向に貫
通する。 コンベヤベルト３０は巻出リール３２から取出し、使用
後に巻取リール３４上に巻取ることができる。これらの
２種のリール３２および３４の代わりに偏向プーリを設
け、その周囲に無終端コンベヤベルトを通すことができ
る。コンベヤベルト３０がハウジング１０に入ったり出
たりする端面はそれぞれ開閉ふた３６によって閉鎖する
。
【００１０】処理室１２を空にするために、ハウジング
１０より若干長いコンベヤベルト３０の部分の上にフォ
イル３８を載置する。コンベヤベルト３０を移動させる
と、このフォイル３８はハウジング１０内に入り、処理
室１２内で製造された物質または処理された物質を載せ
、次いでコンベヤベルト３０を新たに移動させることに
よりフォイル３８は前記物質と共にハウジング１０から
出て行く。図１に示すように、処理室１２の横方向の限
界において、生成した組成物および／または処理された
組成物によるコンベヤベルト３０の汚染が回避される程
度まで、フォイル３８を上方に引き上げておく。
【００１１】以下に説明するビルトイン構造はすべて各
処理室１２の垂直中心平面Ａに関して対称であり、中心
平面Ａはハウジング１０の長手方向を横切って延在する
。ランス４０は中心平面Ａ内で水平方向に通り、各処理
室を貫通し、底１４の上方に離間して位置する。各ラン
ス４０の輪郭は液滴の形をしており、中心平面Ａに関し
て対称で、底部は丸味を帯び、頂部は尖っている。この
輪郭の両側には２個の案内羽根４２および４４が有り、
それぞれ対応するランス４０と平行に配置されている。
【００１２】ランス４０の一方の側および他方の側に位
置する２個の案内羽根４２および４４は、長手方向の垂
直平面内に延在するプレート４６によって相互に連結さ
れ、ランス４０と平行に延在する軸４８上に取付けられ
ている。軸４８はそれぞれピボット駆動手段５０、例え
ば、液圧式または空気圧式回転羽根モータに連結され、
組合わされた羽根４２および４４はピボット駆動手段５
０によって例えば３０°の角度範囲にわたって前後に回
動させることができる。
【００１３】セミシェル５２はそれぞれランス４０の両
側に配置され、いずれも同様にランス４０に平行に延在
する。 セミシェル５２は対応する案内羽根４２，　４４および
ランス４０と共にとい形部５３を形成し、とい形部５３
は案内羽根が作動位置にある場合には底部がほぼ完全に
閉鎖されている（図２の右から２番目および３番目の処
理室１２参照）　が、ランス４０の両側において３個の
間隙Ｂ，ＣおよびＤが開口している。これらの間隙は処
理室１２の幅全体にわたって延在する。ガス流Ｅ（図５
，７および９参照）の形態で処理に用いられる空気は対
応するガス入口１６から出発して間隙Ｂ，ＣおよびＤを
通って流れ、ランス４０の周囲を上向きに流れ、流動床
Ｆを形成することができ、流動床Ｆはとい形部５３によ
って形成される（図１および図２の右から２番目の室参
照）。
【００１４】案内羽根４２および４４はピボット駆動手
段５０によって作動位置から空にする位置（図２の右か
ら１番目の室参照）まで回動させることができる。この
位置において、空気流の停止後にとい形部５３内に蓄積
された物質は間隙Ｂ，ＣおよびＤを通ってフォイル３８
上に少量づつ流れ落ちることができる。
【００１５】隣接する処理室１２内においてセミシェル
５２の上端縁の間には、中間空間が自由な状態で残って
おり、この空間は下から見た場合に凹面形の屋根部材す
なわち所定形状のカバーによって覆われている。各セミ
シェル５２の上端縁と対応する所定形状のカバー５４と
の間には間隙Ｄ′が残っており、ガス流Ｅはこの間隙Ｄ
′を経て頂部から底部に流れてそれぞれのとい形部５３
内に入る。所定形状のカバー５４は、物質がとい形部５
３の１個においてあるレベルを越えた場合に、この物質
がカバー５４を横切って流れるように取付ける。あるい
はまた、隣接するとい形部５３を隔壁５６によって分離
することができる。高いレベルに設けられたガス出口１
８は邪魔板５８によって覆われているので、せいぜい組
成物のダスト様粒子が使用済み空気室２４中に入るにす
ぎず、ここでこれらの粒子を濾過作用によりガス流から
既知方法で分離することができる。
【００１６】各ランス４０は長手方向で見て円形の断面
を有する輸送通路６０を具え、通路６０は円弧に似た形
状をしたランスの輪郭の下側部分と共軸に配置され、ハ
ウジング１０の幅のほぼ全体にわたって延在する。輸送
通路６０の端部には側方にそれぞれポンプ６２が連結さ
れている。ポンプ６２はモータ６４によって駆動される
従来の偏心ウォーム形ポンプとすることができ、押出す
ために練粉状物質を容器６６から輸送通路６０内に押込
む。２個のポンプ６２のそれぞれのロータはかきまぜ機
６８に連結され、かきまぜ機６８は対応するランス４０
の中央区域まで輸送通路６０内を延在し、輸送通路６０
内の組成物を確実に絶えずかきまぜ、固化させない。
【００１７】輸送通路６０は縦スロット７０を介して分
配通路７２と連通し、分配通路７２も同様にランス４０
の長手方向に延在し、分配通路７２からは等間隔をおい
て設けた孔７４がランス４０の表面まで斜め上向き方向
に通っている。孔７４はそれぞれ肩部７６を有し、孔７
４はここで外方に拡大され、ここに封鎖リング７８が着
座している。各押出ノズル８０を孔７４のそれぞれの外
側拡大部内に肩部７６まで押込む。
【００１８】押出ノズル８０の一例を図７および８に示
し、他の例を図９および１０に示す。各押出ノズル８０
は軸線に対して内側に狭くなっている。狭小部８２およ
び軸線に対して外側に広くなっている拡大部８４を有し
、狭小部８２は押出ノズル８０内で生成する練粉状物質
のストランドＧの断面を決め、拡大部８４は少なくとも
１個のブレークスルー部８６を介して外側から排気して
ストランドＧの乾燥を促進することができるようになっ
ている。図７および８に示す例では、ブレークスルー部
８６はガス流Ｅに関して押出ノズルの風上側に位置する
軸線方向スロットの形態で設けられており、拡大部８４
の出発位置から押出ノズル８０の自由端まで延在する。
【００１９】一方では図７および８に、他方では図９お
よび１０に示す押出ノズル８０の２種の例の場合には、
拡大部８４の軸線に対して外側の部分においてガス流Ｅ
に関して風下側に位置するノズル８０の半部を例えばミ
リングによって取除くと、風上側には準管状遮蔽体８８
が残り、風下側には切除端縁９０が形成する。この端縁
９０は、図７および８に示す例では押出ノズル８０の縦
軸線に対して直角をなす平面内に位置し、図９および１
０に示す例では斜めのブレークスルー部８６に平行に位
置する。
【００２０】各ランス４０内に２個のタイボルト９２が
存在し、各タイボルトはランス４０の長手方向の中心平
面Ａの一方の側に延在し、押出ノズル８０をロックする
作用をする。押出ノズル８０は軸線方向の変位および回
転が起こらないようにランス４０のそれぞれの半部内に
押込まれている。
【００２１】さらに、各ランス４０は輸送通路６０に平
行に延在する２個の下側圧力ガス導管９４を具え、圧力
ガス導管９４からは各押出ノズル８０のブレークスルー
部８６当たり１個の圧力ガスノズル９６がブレークスル
ー部８６の方に向くように延在している。加圧ガス導管
９４には既知設計の電磁弁によって圧縮空気が断続的に
供給される。この圧縮ガスは乾燥し、予熱することがで
きる。このようにして、下側の圧力ガスノズル９６は関
連する押出ノズル８０の開口範囲に向けて加圧空気をパ
ルスとして放出する。強く集束された噴流Ｊにおいて、
加圧空気は各押出ノズル８０のブレークスルー部を経て
、ストランドＧにパルスとして作用し、これにより押出
粒子Ｈは空気を送風する毎にストランドから折取られる
。２回の送風の間隔毎に圧力ガスノズル９６から弱い加
圧空気流を流すことができる。
【００２２】他方の圧力ガス導管９８も同様に輸送通路
６０と平行に設けられ、各ランス４０の上側区域に配置
されている。圧力ガス導管９８には、連続的および／ま
たは断続的に圧力ガス導管９４と交互に、乾燥した加圧
熱空気が供給される。圧力ガスノズル１００　は上側の
圧力ガス導管９８から出発し、ノズル１００　はそれぞ
れ上方から押出ノズル８０の開口範囲に向けて鋭角に配
置されている。このようにして、押出ノズル８０内で形
成する押出粒子Ｈも、ガス流Ｅに関して風下側で熱空気
噴流Ｋによって乾燥される。熱空気噴流Ｋの圧力は、噴
流Ｋがその自由端が遮蔽体８８の端部に到達する前に余
りも早く中断されるのを阻止する。
【００２３】圧力ガスノズル９６および１００　のそれ
ぞれと各押出ノズル８０の軸線方向とのなす角は約３０
°〜５０°であるのが好ましいので、圧力ガスノズル９
６および１００　から流出する圧力ガス噴流ＪおよびＫ
は、押出方向に１個の成分を有する力のパルスをストラ
ンドＧに与える。
【００２４】押出ノズル８０は例えば貴金属またはプラ
スチックから製作されており、例えば比較的大きいかあ
るいは小さい直径を有する狭小部８２および／または比
較的長いかあるいは短い遮蔽体８８を具える押出ノズル
と交換することができる。このようにして、生成する押
出粒子Ｈの直径および長さを変えることができ、また圧
力ガスノズル９６を経て供給される加圧空気の送風頻度
をストランドＧの押出速度および押出粒子Ｈの所望長さ
に適合させることができる。
【００２５】極端な場合には、押出粒子Ｈはガス流Ｅに
よって上向き方向に同伴される。同時に、セミシェル５
２と案内羽根４２および４４とによって形成されるとい
形部５３内に流動床Ｆまたは渦流床が形成し、このなか
で押出粒子Ｈはさらに乾燥される。所定量の押出粒子Ｈ
が処理室１２内に形成し、押出粒子Ｈの乾燥が完了した
際に、対応するガス入口１６を閉鎖すると、各処理室内
の流動床Ｆはしぼみ、押出粒子Ｈはとい形部５３内に蓄
積する。そこで、案内羽根４２および４４を、空にする
位置に揺動させると、押出粒子Ｈは上述のように少量づ
つ流れ落ち、押出粒子Ｈを取除くことができる。
【００２６】図４に示すように、案内羽根４２および４
４および／またはセミシェル５２に、頂部から見た場合
にランス４０の両側において同じ方向を有する斜めの波
形部材またはフィン１０２　を形成する。このようなフ
ィン１０２　はガス流Ｅを斜め方向にするので、ランス
４０の両側の流動床Ｆはランス４０に沿って反対方向に
移動し、これにより押出粒子Ｈは特に十分に混合される
。
【００２７】ふた２８を揺動させて開くと、掃除のため
に処理室１２に容易に出入りすることができる。ノズル
１０４　は、噴霧される液体を清浄にするために、空気
供給室２０および使用済み空気室２４の両方と関連して
いる。
【図面の簡単な説明】
【図１】練粉状物質の押出粒子を製造する本発明装置の
一例を示す図３の垂直面１−１に沿った縦断面図である
。
【図２】図１の拡大部分断面図である。
【図３】図１の３−３線に沿った横断面図である。
【図４】図１の矢４の方向に見た平面図である。
【図５】図２の拡大部分断面図である。
【図６】一部分を図５の６−６線に沿った断面図として
示す図５に対応する側立面図である。
【図７】図５の拡大部分断面図である。
【図８】図７の矢８の方向に見た側面図である。
【図９】変形例を詳細に示す図７に対応する拡大部分断
面図である。
【図１０】図９の矢１０の方向に見た側面図である。
【符号の説明】
１０　　ハウジング １２　　処理室 １４　　共通の底 １６　　ガス入口 １８　　ガス出口 ２０　　空気供給室 ２２　　連結部 ２４　　使用済み空気室 ２６　　連結部 ２８　　ふた ３０　　コンベヤベルト ３２　　巻出リール ３４　　巻取リール ３６　　開閉ふた ３８　　フォイル ４０　　ランス ４２　　案内羽根 ４４　　案内羽根 ４６　　プレート ４８　　軸 ５０　　ピボット駆動手段 ５２　　セミシェル ５３　　とい形部 ５４　　屋根部材（所定形状のカバー）５６　　隔壁 ５８　　邪魔板 ６０　　輸送通路 ６２　　ポンプ ６４　　モータ ６６　　容器 ６８　　かきまぜ機 ７０　　縦スロット ７２　　分配通路 ７４　　孔 ７６　　肩部 ７８　　封鎖リング ８０　　押出ノズル ８２　　狭小部 ８４　　拡大部 ８６　　ブレークスルー部 ８８　　遮蔽体 ９０　　端縁 ９２　　タイボルト ９４　　圧力ガス導管 ９６　　圧力ガスノズル ９８　　圧力ガス導管 １００　　　圧力ガスノズル １０２　　　フィン １０４　　　ノズル Ａ　　垂直中心平面 Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｄ′　　間隙 Ｅ　　ガス流 Ｆ　　流動床 Ｇ　　練粉状物質のストランド Ｈ　　押出粒子 Ｊ　　圧力ガス噴流 Ｋ　　圧力ガス噴流

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　ストランド（Ｇ）の形態の練粉状物質
    をガス流（Ｅ）中にこれと交差させて押出し、ガス流（
    Ｅ）によって折取ることより、押出粒子（Ｅ）、特に薬
    剤ペレット用前駆物質である押出粒子（Ｅ）を製造する
    に当たり、ストランド（Ｇ）の予備乾燥および折取りを
    ガス流（Ｅ）によって行い、ストランド（Ｇ）に向けた
    少なくとも１個の強く集束させた圧力ガス噴流（Ｊ）に
    よって支援することを特徴とする押出粒子の製造方法。
  2. 【請求項２】　　圧力ガス噴流（Ｊ）をパルスとしてス
    トランド（Ｇ）に当てることを特徴とする請求項１記載
    の方法。
  3. 【請求項３】　　圧力ガス噴流（Ｊ）を常に基本性能で
    作用させ、これに追加して間隔を置いてピーク性能で作
    用させることを特徴とする請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】　　圧力ガス噴流（Ｊ）をガス流（Ｅ）と
    ほぼ同じ方向でストランド（Ｇ）に当てることを特徴と
    する請求項２または３記載の方法。
  5. 【請求項５】　　同様に強く集束させたガス噴流（Ｋ）
    をパルスとしてかつ圧力ガス噴流（Ｊ）と交互にストラ
    ンド（Ｇ）の風下側に当てることを特徴とする請求項４
    記載の方法。
  6. 【請求項６】　　ガス流（Ｅ）に入ってくる風下側で既
    にガス流に曝されているストランド（Ｇ）を、その風上
    側で限定された距離にわたってガス流（Ｅ）から遮蔽す
    ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つの項に
    記載の方法。
  7. 【請求項７】　　ガス流（Ｅ）を上向きにして流動床（
    Ｆ）を作り、ストランド（Ｇ）から折取った直後に押出
    粒子（Ｈ）を流動床（Ｆ）で処理することを特徴とする
    請求項１〜６のいずれか一つの項に記載の方法。
  8. 【請求項８】　　−少なくとも１個の処理室（１２）を
    具え、該処理室はガス流（Ｅ）を処理室（１２）内に発
    生させるための少なくとも１個のガス入口（１６）およ
    び少なくとも１個のガス出口（１８）を有し、−さらに
    ガス流（Ｅ）の方向を横切って処理室（１２）内に開口
    する押出ノズル（８０）を経て押出すために物質を輸送
    するための少なくとも１個のポンプ（６２）を具える請
    求項１〜７のいずれか一つの項に記載の方法を実施する
    のに使用する装置において、処理室（１２）内において
    ガス流（Ｅ）を横切って延在するする少なくとも１個の
    中空ランス（４０）を具え、該ランス（４０）は押出ノ
    ズル（８０）、およびランス（４０）の長手方向に延在
    し縦スロット（７０）を介して分配通路（７２）に連通
    する輸送通路（６０）を具え、分配通路（７２）には押
    出ノズル（８０）が連結されていることを特徴とする押
    出粒子の製造装置。
  9. 【請求項９】　　運搬通路（６０）には、ポンプ（６２
    ）と共に駆動されるかきまぜ機（６８）が収容されてい
    ることを特徴とする請求項８記載の装置。
  10. 【請求項１０】　　ランス（４０）は加圧ガス源に連結
    できる少なくとも１個の圧力ガス導管（９４）を具え、
    この導管から圧力ガスノズル（９６）が押出方向および
    各押出ノズル（８０）の開口範囲に向かうガス流（Ｅ）
    の方向に関して鋭角に延在していることを特徴とする請
    求項８または９記載の装置。
  11. 【請求項１１】　　押出ノズル（８０）はいずれもスト
    ランド（Ｇ）の断面を限定する狭小部（８２）およびこ
    れに続く拡大部（８４）を有し、拡大部（８４）は少な
    くとも１個のブレークスルー部（８６）を介して対応す
    る圧力ガスノズル（９６）に向けて開口していることを
    特徴とする請求項１０記載の装置。
  12. 【請求項１２】　　押出ノズル（８０）はいずれもガス
    流（Ｅ）に関して風上側に遮蔽体（８８）を具え、遮蔽
    体（８８）は押出されたストランド（Ｇ）をある長さに
    わたって保護することを特徴とする請求項８〜１１のい
    ずれか一つの項に記載の装置。
  13. 【請求項１３】　　押出ノズル（８０）はいずれも遮蔽
    体（８８）とは反対側に鋭い切除端縁（９０）を有する
    請求項１２記載の装置。
  14. 【請求項１４】　　押出ノズル（４０）は、ランス（４
    ０）中に挿入されかつランス（４０）の長手方向に配置
    された共通のタイボルト（９２）によって一度に数個所
    で所定位置にロックされたパイプ端部によって構成され
    ていることを特徴とする請求項８〜１３のいずれか一つ
    の項に記載の装置。
  15. 【請求項１５】　　ランス（４０）は垂直中心平面Ａに
    関して対称な輪郭を有し、ガス流（Ｅ）がその周囲を底
    部から頂部まで対称的に流れるようにしたことを特徴と
    する請求項８〜１４のいずれか一つの項に記載の装置。
  16. 【請求項１６】　　ガス流（Ｅ）を押出ノズル（８０）
    に対して少なくともほぼ直角に向ける案内羽根（４２，
    　４４）が、ランス（４０）の両側にランス（４０）に
    関して平行かつ対称的に配置されていることを特徴とす
    る請求項１５記載の装置。
  17. 【請求項１７】　　セミシェル（５２）がランス（４０
    ）の両側にランス（４０）に関して平行かつ対称的に配
    置されていて、案内羽根（４２，　４４）およびランス
    （４０）と共に押出粒子（Ｈ）を後処理するためのとい
    形部（５３）を形成していることを特徴とする請求項１
    ６記載の装置。
  18. 【請求項１８】　　案内羽根（４２，　４４）は、間隙
    （Ｂ，Ｃ，Ｄ）を経てガス流（Ｅ）をとい形部（５３）
    内に流入させる位置と、間隙（Ｂ，Ｃ，Ｄ）を経てとい
    形部（５３）を空にすることができる位置との間で、回
    動させることができる請求項１７記載の装置。
JP3044538A 1990-01-10 1991-01-10 押出粒子の製造方法およびこれに使用する装置 Pending JPH04212360A (ja)

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