JPH04211195A - セラミック多層配線基板の製造方法 - Google Patents

セラミック多層配線基板の製造方法

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JPH04211195A
JPH04211195A JP4324391A JP4324391A JPH04211195A JP H04211195 A JPH04211195 A JP H04211195A JP 4324391 A JP4324391 A JP 4324391A JP 4324391 A JP4324391 A JP 4324391A JP H04211195 A JPH04211195 A JP H04211195A
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green sheet
carrier film
hole
ceramic
wiring board
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Jun Inasaka
稲坂 純
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[0001]
【産業上の利用分野】本発明はセラミック多層配線基板
の製造方法に関する。 [0002]
【従来の技術】従来のグリーンシート法によるセラミッ
ク多層配線基板の製造方法は、セラミックの泥漿をドク
ターブレード法によりキャスティングフィルム上にキャ
スティング、乾燥させ、セラミックグリーンシートにし
た後に、キャスティングフィルムよりグリーンシートを
剥離し、基板の大きさに該当する大きさに切断し、その
1枚1枚に位置合せ用の穴の打抜き、導体ペースト印刷
、スルーホール形成、ビアフィル、積層の後に焼成とい
う工程を行っていた。 [0003]
【発明が解決しようとする課題】この従来のセラミック
多層配線基板の製造方法では、セラミックの泥漿をキャ
スティングし、グリーンシートにした後、グリーンシー
トはキャスティングフィルムより剥離され、その後の工
程を施されるため、スルーホール形成、スルーホールへ
の導体ペースト埋込みおよび導体パターン印刷の各工程
でのハンドリングの際、あるいはグリーンシートの保管
状態の良し悪しでグリーンシートが変形し易く、積層時
にスルーホールの積層による位置ずれが生じるという欠
点があった。 [0004]
【課題を解決するための手段】本発明のセラミック多層
配線基板の製造方法は、キャリアフィルムにキャスティ
ングされたセラミックグリーンシートに、スルーホール
形成、スルーホールへの導体ペースト埋込みおよびグリ
ーンシート面への導体パターン印刷の各工程をグリーン
シートにキャリアフィルムを付けたまま行う第1の工程
と、前記第1の工程を施したキャリアフィルム付グリー
ンシートを1枚ずつ積層、圧着し、その後キャリアフィ
ルムを引きはがす第2の工程とを含んで構成される。 [0005]
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。 [0006]図1はキャリアフィルム12上にドクター
ブレード法に依りキャスティングされた、グリーンシー
ト11を示す。この時のグリーンシート11の厚さは約
100μmであり、キャリアフィルム12の厚さは10
0μmである。キャリアフィルム12の厚さはキャステ
ィングするグリーンシート11の幅によって変えること
ができる。即ち広い幅でキャスティングする場合(幅〉
300 mm)の場合はフィルムを巻きとるテンション
に依り、フィルムが波釘たない様に100μm厚程度の
キャリアフィルムを用いるのが良い。キャリアフィルム
は通常、ポリエステルで出来ており、熱的安定性、機械
的強度にすぐれており、柔らかいグリーンシートを保持
するのに適している。 [0007]図2はキャスティングされたグリーンシー
ト11をキャリアフィルム12ごと切断し、位置合せ用
の穴21を四隅に形成したものの断面図である。位置合
せ用の穴はいかなる形状のものでも良いが、グリーンシ
ートが大型の場合は図の様にそれぞれの角に直径5mm
ぐらいの複数個の穴を明けるのが、位置ずれを小さくす
るのに有効である。この後の工程は全てこの位置決め用
の穴を規準にして行われる。 [0008]図3は、グリーンシート11にキャリアフ
ィルム12ごとスルーホール31を形成したものの断面
図である。この時のスルーホール31の径は、そのホー
ルが基板内で信号配線に接続される時は直径0. 1〜
0.2mmであり、基板表面に実装されるLSIへの電
源供給用に使われる時は、直径0.2〜0.3mmであ
る。
【0009】次に、図4は、スルーホール形成されたグ
リーンシート11のホールに導体ペースト41を埋込ん
だものの断面図である。導体ペースト41としては、金
、銀、銀−パラジウム、タングステン、モリブデン等が
用いられ、メタルマスクによるスクリーン印刷によって
スルーホール部に埋込まれる。ペースト精度は300〜
500kcpsである。
【0010】次に、図5に示す様に、グリーンシート1
1の表面に信号配線、及び電源配線の導体パターン51
を印刷により形成する。導体ペースト材はスルーホール
部と同じものを用い、精度は100〜250kcpsで
ある。パターン形成はスクリーン印刷によって行なわれ
、この時のスクリーンメツシュサイズでは325メツシ
ユのものが用いられる。これで信号パターンの最小線幅
として約100μm、厚さ12μm(乾燥後)の信号配
線パターンが印刷される。 [0011]図65図7は以上の様にしてT/H形成、
導体ペーストの埋込み、導体パターンの印刷を施したシ
ートを1枚1枚位置合せ用のピン65を使って積層型6
4内に積層し、グリーンシートの積層体73にしている
ところである。この時、一番下部には基板ベース72と
なるグリーンシートを数枚置く必要がある。このシート
は電気的には全く意味がなく、単にその上部にグリーン
シートを積層する為だけに必要なものである。基板ベー
ス72のグリーンシートは金型の中でズレない様に下型
下部の穴より真空吸着されている。次にその上にパター
ン形成を施したグリーンシート11をキャリアフィルム
12を付けたまま、逆向きに積層、積層金型(周辺)6
2、積層金型(上部)63および積層金型(下部3)6
4により、軽く熱圧着させ、キャリアフィルム12をと
り除く (図6)。この時、グリーンシート11のキャ
リアフィルム12側と表面側が交互に積層する様にする
。 この熱圧着の温度は80℃、圧力は70kg/cm2で
ある。この様にしてグリーンシートを積層した後に再び
、積層金型62,63.64により熱圧着させる。この
時の温度は110℃、圧力は180kg/cm2である
。これによりグリーンシートは1体化し、セラミックグ
リーンシート積層体となる(図7)。 [0012]基板ベース72はセラミックグリーンシー
ト積層体73を脱バインダー、焼成し、セラミック焼結
体にした後に研削によってとり除き、回路面を露出させ
る。 [0013]なお本実施例はキャリアフィルム上にキャ
スティングされたセラミックグリーンシートにキャリア
フィルムごと位置合せ用の穴21を四隅に形成し、その
後の工程はこの位置合せ用の穴を利用して位置合せを行
ったのであるが、この他にも図8の様にキャリアフィル
ム付グリーンシートを位置合せ及びハンドリングの為の
枠81に貼り付けた様な構造にすることも考えられる。 図9は図8の断面図である。枠81の材質は金属もしく
は変形の小さなエンジニアリングプラスチックが考えら
れ、グリーンシート同士の位置合わせは枠81に位置合
せ用の穴、もしくは溝を付けるか枠81の外形合わせで
行うことが出来る。さらに位置合せの別の方法としてグ
リーンシート面に予め位置合せマークを形成し、各工程
での位置合せはそのマークを光学的に認識することによ
っても可能である。 [0014]
【発明の効果】以上説明した様に本発明は、グリーンシ
ートキャスティング時のキャリアフィルムをグリーンシ
ートに付けたまま、各プロセスを流すことによりグリー
ンシートのプロセス中の伸びをなくし、位置ずれのない
セラミック多層配線基板を作ることができる効果がある
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の縦断面図。
【図2】本発明の一実施例の縦断面図。
【図3】本発明の一実施例の縦断面図。
【図4】本発明の一実施例の縦断面図。
【図5】本発明の一実施例の縦断面図。
【図6】本発明の一実施例の縦断面図。
【図7】本発明の一実施例の縦断面図。
【図8】本発明の他の実施例の縦断面図。
【図9】本発明の他の実施例の縦断面図。
【符号の説明】
11  グリーンシート 12  キャリアフィルム 21  位置決め穴 31  スルーホール 41  導体ペースト 51  導体パターン 62  積層金型(周辺) 63  積層金型(上部) 64  積層金型(下部) 65  位置決めピン 71  多層配線層 72  基板ベース 73  積層体 81枠
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 グリーンシート法によるセラミック基板
    の製造方法において、キャリアフィルム上にキャスティ
    ングされたセラミックグリーンシートにスルーホール形
    式、前記スルーホールへの導体ペーストの埋込みおよび
    グリーンシート面への導体パターン印刷の各工程をキャ
    リアフィルムを付けたまま行う第1の工程と、前記第1
    の工程を施したキャリアフィルム付グリーンシートを1
    枚ずつ順次積層、圧着し、その後キャリアフィルムを引
    きはがす第2の工程とを含むことを特徴とするセラミッ
    ク多層配線基板の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120074A (ja) * 1991-03-22 1994-04-28 Taiyo Yuden Co Ltd 積層磁器コンデンサの製造方法
US6942745B2 (en) 2000-12-28 2005-09-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Production method of circuit board module
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US6942745B2 (en) 2000-12-28 2005-09-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Production method of circuit board module

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