JPH04199614A - 縦型気相成長用サセプター - Google Patents
縦型気相成長用サセプターInfo
- Publication number
- JPH04199614A JPH04199614A JP33123490A JP33123490A JPH04199614A JP H04199614 A JPH04199614 A JP H04199614A JP 33123490 A JP33123490 A JP 33123490A JP 33123490 A JP33123490 A JP 33123490A JP H04199614 A JPH04199614 A JP H04199614A
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- Japan
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- sic
- carbon substrate
- semiconductor wafer
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- Pending
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、半導体ウェーハにCVD(気相化学反応)法
等の気相成長処理を施す際に用いられ、高周波誘導加熱
される縦型(パンケーキ型)気相成長用サセプターに関
する。
等の気相成長処理を施す際に用いられ、高周波誘導加熱
される縦型(パンケーキ型)気相成長用サセプターに関
する。
〔従来の技術]
通常、この種の縦型気相成長用サセプターは、高周波誘
導加熱を可能とする等方性カーボン等の炭素基材に、半
導体ウェーハを載置する底面の平坦な凹部を設け、かつ
畷蔵ガスの放出による処理雰囲気の汚染を防止するため
炭素基材をSIC膜で被覆して構成されている。
導加熱を可能とする等方性カーボン等の炭素基材に、半
導体ウェーハを載置する底面の平坦な凹部を設け、かつ
畷蔵ガスの放出による処理雰囲気の汚染を防止するため
炭素基材をSIC膜で被覆して構成されている。
ところが、かかる縦型気相成長用サセプターにおいては
、半導体ウェーハの放射率がサセプターのそれより小さ
いため、半導体ウェーハが載置された凹部の中心部の温
度が外周部の温度より高くなり (5〜lO℃程度)、
この温度差による熱応力により半導体ウェーハに下方へ
凸となる反りを生じ、スリップの発生を招来する。
、半導体ウェーハの放射率がサセプターのそれより小さ
いため、半導体ウェーハが載置された凹部の中心部の温
度が外周部の温度より高くなり (5〜lO℃程度)、
この温度差による熱応力により半導体ウェーハに下方へ
凸となる反りを生じ、スリップの発生を招来する。
従来、上記問題に対処するため、半導体ウェーハ載置用
凹部の底面を半導体ウェーへの反りに倣った凹球面とし
、半導体ウェーへの凹部の底面に対する密着性を高めて
その均熱化を図り、もってスリップの低減を図る縦型気
相成長用サセプターが知られている。
凹部の底面を半導体ウェーへの反りに倣った凹球面とし
、半導体ウェーへの凹部の底面に対する密着性を高めて
その均熱化を図り、もってスリップの低減を図る縦型気
相成長用サセプターが知られている。
しかしながら、上記従来の縦型気相成長用サセプターに
おいては、 CVD法による炭素基材へのSiC膜の形
成に際し、20〜50LLmと異常な大きな結晶粒子が
生じるため、凹部底面と凹球面が平滑にならず、半導体
ウェーハを凹球面に完全に密着させることができなくて
均熱化の良好な効果が得られない問題がある。
おいては、 CVD法による炭素基材へのSiC膜の形
成に際し、20〜50LLmと異常な大きな結晶粒子が
生じるため、凹部底面と凹球面が平滑にならず、半導体
ウェーハを凹球面に完全に密着させることができなくて
均熱化の良好な効果が得られない問題がある。
この問題を解決するため、凹球面を鏡面とした縦型気相
成長用サセプターが知られている(特開平2−6892
2号公報参照)が、凹球面に鏡面仕上を施すことは量産
上問題があり、現実的でない。
成長用サセプターが知られている(特開平2−6892
2号公報参照)が、凹球面に鏡面仕上を施すことは量産
上問題があり、現実的でない。
そこで、本発明は、凹部に載置される半導体ウェーハの
均熱化を図り、もって半導体ウェーハの反り、ひいては
スリップの発生を軽減して歩留まりを向上し得る縦型気
相成長用サセプターの提供を目的とする。
均熱化を図り、もって半導体ウェーハの反り、ひいては
スリップの発生を軽減して歩留まりを向上し得る縦型気
相成長用サセプターの提供を目的とする。
[課題を解決するための手段]
前記課題を解決するため、本発明の縦型気相成長用サセ
プターは、半導体ウェーハ載置用凹部を設けた炭素基材
をSiC膜で被覆し、高周波誘導加熱される縦型気相成
長用サセプターにおいて、前記凹部の底部における炭素
基材中に表面から内部に向って凸状となるSiC部分が
存在するものである。
プターは、半導体ウェーハ載置用凹部を設けた炭素基材
をSiC膜で被覆し、高周波誘導加熱される縦型気相成
長用サセプターにおいて、前記凹部の底部における炭素
基材中に表面から内部に向って凸状となるSiC部分が
存在するものである。
[作 用]
上記手段においては、高周波の印加時にSiC部分での
高周波誘導電流の(うず電流)の発生がその周辺の炭素
基材での高周波誘導電流の発生より抑制される。
高周波誘導電流の(うず電流)の発生がその周辺の炭素
基材での高周波誘導電流の発生より抑制される。
SiC部分の直径は、凹部の直径の04〜08倍の範囲
が好ましく、この範囲から外れると効果がない。
が好ましく、この範囲から外れると効果がない。
SiC部分の厚さは、 SiC膜の厚さの10〜50倍
の範囲が好ましく、10倍未満であると半導体ウェーハ
の反りが大きくなって効果がなく、50倍を超えるとサ
セプターの表面温度が大きくなる。より好ましくは、2
0〜30倍の範囲である。
の範囲が好ましく、10倍未満であると半導体ウェーハ
の反りが大きくなって効果がなく、50倍を超えるとサ
セプターの表面温度が大きくなる。より好ましくは、2
0〜30倍の範囲である。
[実施例]
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は縦型気相成長用サセプターの一実施例を示す要
部の断面図で、このサセプターは、高周波誘導加熱を可
能とする等方性カーボン等からなる円輪板状の炭素基材
1に、半導体ウェーハ2を載置する底面が凹球面の凹部
3を複数設けると共に、炭素基材1からの吸蔵ガスの放
出を防止するため炭素基材1をCVD法によるSiC膜
4で被覆し、かつ凹部3の底部における炭素基材1中に
表面から内部に向って凸状となるSiC部分5を存在さ
せて構成されている。
部の断面図で、このサセプターは、高周波誘導加熱を可
能とする等方性カーボン等からなる円輪板状の炭素基材
1に、半導体ウェーハ2を載置する底面が凹球面の凹部
3を複数設けると共に、炭素基材1からの吸蔵ガスの放
出を防止するため炭素基材1をCVD法によるSiC膜
4で被覆し、かつ凹部3の底部における炭素基材1中に
表面から内部に向って凸状となるSiC部分5を存在さ
せて構成されている。
上記構成のサセプターは、炭素基材1に設けた底面凹球
面の半導体ウェーハ載置用凹部3に、適宜大きさのカー
ボン筒6を立設し、このカーボン筒6内に81又は5i
02等のけい化原料7を入れ (第2図a参照)、不活
性ガス雰囲気中において約1500℃の温度で加熱処理
し、凹部3の底部における炭素基材1の表層部をけい化
してSiC部分5としく第2図す参照)、シかる後炭素
基材1をCVD法によりSiC膜4で被覆して製造され
るものである。
面の半導体ウェーハ載置用凹部3に、適宜大きさのカー
ボン筒6を立設し、このカーボン筒6内に81又は5i
02等のけい化原料7を入れ (第2図a参照)、不活
性ガス雰囲気中において約1500℃の温度で加熱処理
し、凹部3の底部における炭素基材1の表層部をけい化
してSiC部分5としく第2図す参照)、シかる後炭素
基材1をCVD法によりSiC膜4で被覆して製造され
るものである。
ここで、カーボン筒の大きさ及び加熱処理時間等を変化
させ、6インチの半導体ウェーハが載置される凹部 (
内径154mm、周壁高さ0.8mm、底面曲率半径2
9m)の底部における炭素基材中のSiC部分の直径及
び厚さを第1表に示すように異ならせた種々のサセプタ
ーを得、各サセプターを用いて半導体ウェー八に気相成
長反応処理を施したところ、反り及びスリップの発生状
況は、同表に示すようになった。なお、 SiC膜は、
厚さ80umとし従って、 Si(:部分の直径を凹部
の直径の04〜o、8倍とすると共に、 SiC部分の
厚さをSiC膜の厚さの10〜50倍とすることにより
反りの発生を低減し得る、かつスリップの発生を大幅に
低減し得ることがわかる。
させ、6インチの半導体ウェーハが載置される凹部 (
内径154mm、周壁高さ0.8mm、底面曲率半径2
9m)の底部における炭素基材中のSiC部分の直径及
び厚さを第1表に示すように異ならせた種々のサセプタ
ーを得、各サセプターを用いて半導体ウェー八に気相成
長反応処理を施したところ、反り及びスリップの発生状
況は、同表に示すようになった。なお、 SiC膜は、
厚さ80umとし従って、 Si(:部分の直径を凹部
の直径の04〜o、8倍とすると共に、 SiC部分の
厚さをSiC膜の厚さの10〜50倍とすることにより
反りの発生を低減し得る、かつスリップの発生を大幅に
低減し得ることがわかる。
なお、上記実施例においては、凹部の底面を凹球面とす
る場合について述べたが、これに限らず、底面を平坦に
してもよい。
る場合について述べたが、これに限らず、底面を平坦に
してもよい。
[発明の効果1
以上のように本発明によれば、高周波の印加時にSiC
部分での高周波誘導電流の発生がその周辺の炭素基材で
の高周波誘導電流の発生より抑制されるので、凹部の底
部における発熱がその周辺部における発熱より小さくな
り、凹部に載置された半導体ウェーハを均一に加熱する
ことで、従来のように気相成長反応時に半導体ウェーハ
に反りが発生することはなく、ひいてはスリップの発生
を軽減して歩留まりを向上することができる。
部分での高周波誘導電流の発生がその周辺の炭素基材で
の高周波誘導電流の発生より抑制されるので、凹部の底
部における発熱がその周辺部における発熱より小さくな
り、凹部に載置された半導体ウェーハを均一に加熱する
ことで、従来のように気相成長反応時に半導体ウェーハ
に反りが発生することはなく、ひいてはスリップの発生
を軽減して歩留まりを向上することができる。
図は本発明の一実施例を示し、第1図は縦型気相反応用
サセプターの要部を断面図で、第2図fa) 、 fb
) 、 (c)は上記サセプターの製造工程の肪面説明
図である。 1・・・炭素基材 2・・・半導体ウェーハ
3・・・凹部 4・・・5iCIllI
5・・・SiC部分
サセプターの要部を断面図で、第2図fa) 、 fb
) 、 (c)は上記サセプターの製造工程の肪面説明
図である。 1・・・炭素基材 2・・・半導体ウェーハ
3・・・凹部 4・・・5iCIllI
5・・・SiC部分
Claims (1)
- (1)半導体ウェーハ載置用凹部を設けた炭素基材をS
iC膜で被覆し、高周波誘導加熱される縦型気相成長用
サセプターにおいて、前記凹部の底部における炭素基材
中に表面から内部に向って凸状となるSiC部分が存在
することを特徴とする縦型気相成長用サセプター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33123490A JPH04199614A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 縦型気相成長用サセプター |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33123490A JPH04199614A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 縦型気相成長用サセプター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04199614A true JPH04199614A (ja) | 1992-07-20 |
Family
ID=18241402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33123490A Pending JPH04199614A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 縦型気相成長用サセプター |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04199614A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002095795A3 (de) * | 2001-05-18 | 2003-10-23 | Mattson Thermal Products Gmbh | Vorrichtung zur aufnahme von scheibenförmigen objekten |
WO2020003722A1 (ja) * | 2018-06-27 | 2020-01-02 | 株式会社アドマップ | SiC部材 |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP33123490A patent/JPH04199614A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002095795A3 (de) * | 2001-05-18 | 2003-10-23 | Mattson Thermal Products Gmbh | Vorrichtung zur aufnahme von scheibenförmigen objekten |
WO2020003722A1 (ja) * | 2018-06-27 | 2020-01-02 | 株式会社アドマップ | SiC部材 |
JP2020004811A (ja) * | 2018-06-27 | 2020-01-09 | 株式会社アドマップ | SiC部材 |
US11597655B2 (en) | 2018-06-27 | 2023-03-07 | Admap Inc. | SiC member |
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