JPH04195059A - Photosensitive body - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain the photosensitive body restrained from image defects, such as black spots, and sufficient in sensitivity to comparatively long wavelength light, such as semiconductor laser beams, by forming an undercoat layer made of an acrylic-acrylate type radiation-curing resin on a conductive substrate. CONSTITUTION:The photosensitive body is formed by laminating at least the undercoat layer (UCL) 7 and a photosensitive layer (PCL) 8 on the conductive substrate 1, and the undercoat layer 7 is made of the acrylic-acrylate type radiation-curing resin having at least one of radiation-sensitive acrylic unsaturated acryloyl and methacryloyl groups on the end of the polymer chain and/or the side chain, thus permitting a barrier against local injection of carriers from the side of substrate 1 to be formed, and the loss or decrease of surface charge due to the local carrier injection to be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光体、特に電子写真感光体に関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a photoreceptor, particularly an electrophotographic photoreceptor.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

カールソン法の電子写真複写方法においては、感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成すると
共に、その静電潜像をトナーによって現像し、ついでそ
の可視像を紙等に転写、定着させる。同時に、感光体は
付着トナーの除去や除電、表面の清浄化が施され、長期
にわたって反復使用される。In the Carlson electrophotographic copying method, after the surface of the photoreceptor is charged, an electrostatic latent image is formed by exposure, the electrostatic latent image is developed with toner, and then the visible image is transferred to paper or the like. Transfer and fix. At the same time, the photoreceptor is subjected to removal of adhering toner, neutralization of static electricity, and surface cleaning, and is used repeatedly over a long period of time.

従って、電子写真感光体としては、帯電特性及び感度が
良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論であるが
、加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性など
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性（耐環境性）においても良好であ
ることが要求される。Therefore, as an electrophotographic photoreceptor, it is important to not only have electrophotographic properties such as good charging characteristics and sensitivity, and low dark decay, but also physical properties such as printing durability, abrasion resistance, and moisture resistance after repeated use. It is also required to have good physical properties and resistance to ozone generated during corona discharge, ultraviolet rays during exposure, etc. (environmental resistance).

従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
体層を有する無機感光体が広く用いられている。Conventionally, inorganic photoreceptors having a photoreceptor layer containing an inorganic photoconductive substance such as selenium, zinc oxide, or cadmium sulfide as a main component have been widely used as electrophotographic photoreceptors.

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。On the other hand, the use of various organic photoconductive substances as materials for photoreceptor layers of electrophotographic photoreceptors has been actively researched and developed in recent years.

しかしなから、感度及び耐久性において必ずしも満足で
きるものではない。However, the sensitivity and durability are not necessarily satisfactory.

このために、感光層において、キャリア発生機能とキャ
リア輸送機能とを異なる物質に個別に分担させることに
より、感度が高くて耐久性の大きい所謂機能分離型更に
夫々の機能層を積層した有機感光体を開発する試みがな
されている。For this purpose, in the photosensitive layer, the carrier generation function and the carrier transport function are assigned to different substances, thereby creating a so-called functionally separated type organic photoreceptor with high sensitivity and durability, in which each functional layer is laminated. Attempts are being made to develop.

このような機能分離型の電子写真感光体においては、各
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。そのため、感度
が高く、耐久性の大きい有機感光体が得られることが期
待される。In such functionally separated electrophotographic photoreceptors, substances that exhibit each function can be selected from a wide range of materials, so it is relatively easy to produce an electrophotographic photoreceptor with arbitrary characteristics. is possible. Therefore, it is expected that an organic photoreceptor with high sensitivity and durability will be obtained.

第２図及び第４図は、こうした有機光導電性物質を用い
る機能分離型の積層電子写真感光体を示すものである。FIGS. 2 and 4 show a function-separated type laminated electrophotographic photoreceptor using such an organic photoconductive substance.

又、第３図は機能分離型単層電子写真感光体である。FIG. 3 shows a functionally separated single-layer electrophotographic photoreceptor.

この第２図の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に
下引層（ＵＣＬ）７、キャリア発生層（ＣＧＬ）６、キ
ャリア輸送層（ＣＴＬ）４を順次積層して構成されてお
り、負帯電用として使用されているものである。即ち、
感光層（ＰＣＬ）８はＣＧＬ　６とＣＴＬ　４から構成
されている。The electrophotographic photoreceptor shown in FIG. 2 is constructed by sequentially laminating an undercoat layer (UCL) 7, a carrier generation layer (CGL) 6, and a carrier transport layer (CTL) 4 on a conductive support 1. It is used for negative charging. That is,
The photosensitive layer (PCL) 8 is composed of CGL 6 and CTL 4.

このような層構成を有する電子写真感光体においては、
負帯電性の場合に電子よりもホールの移動度が大きいこ
とから、良好な特性を有するホール輸送性の光導電材料
を使用でき、光感度等の点で有利である。In an electrophotographic photoreceptor having such a layer structure,
In the case of negative chargeability, the mobility of holes is greater than that of electrons, so a hole transporting photoconductive material with good properties can be used, which is advantageous in terms of photosensitivity and the like.

次に第４図に正帯電用の感光体を示す。こうした積層型
感光体、特に有機光導電性物質を用いる感光体において
は、負帯電時に導電性支持体又は下層側からの不均一な
キャリア（小−ル）注入が生じ易く、このために表面電
荷が微視的にみて消失し、あるいは減少してしまう。こ
れは特に、反転現像法において黒い斑点状の画像欠陥と
なり（黒斑点）、画像の品質を著しく低下させる。Next, FIG. 4 shows a photoreceptor for positive charging. In such laminated photoreceptors, especially in photoreceptors using organic photoconductive materials, nonuniform carrier (small rule) injection tends to occur from the conductive support or the lower layer side when negatively charged, resulting in surface charge. microscopically disappears or decreases. This results in image defects in the form of black spots (black spots), particularly in the reversal development method, which significantly reduces the quality of the image.

こうした黒斑点の問題は、ホール移動度の大きい有機系
光導電性物質を用いる感光体での特有の現象であり、こ
の原因は、上記したキャリア注入か不均一に生したこと
が考えられる。The problem of black spots is a phenomenon peculiar to photoreceptors using organic photoconductive materials with high hole mobility, and the cause of this problem is thought to be the non-uniform carrier injection described above.

そこで、導電性支持体ｌとＰＣＬとの間にＵＣＬを設け
、キャリア注入をブロッキングすることが提案されてい
る。Therefore, it has been proposed to provide a UCL between the conductive support l and the PCL to block carrier injection.

従来、ＵＣＬ７を構成する材料としては、ポリエステル
系、ポリウレタン系、ポリアミド系、エポキシ樹脂系、
ポリカーボネート系、ビニルポリ？　−事例ｔばポリビ
ニルピリジンアクリル樹脂等、セルロース系、ポリケタ
ール系、縮合重合系例えばフェノール樹脂、メラミン樹
脂等が知られている。Conventionally, materials constituting UCL7 include polyester, polyurethane, polyamide, epoxy resin,
Polycarbonate, vinyl poly? Examples include polyvinylpyridine acrylic resin, cellulose type, polyketal type, condensation polymer type, such as phenol resin, melamine resin, etc.

しかしながら、上記の公知の下引層では、十分に黒斑点
抑制効果がない。しかも、ブロッキング性と感光体とし
ての感度を双方とも良好にすることは実現されていない
。即ち、従来採用されている樹脂においては、ブロッキ
ング性が有効で黒斑点抑制効果があると思われるものは
感度が悪く、逆に、感度を良好にしようとすると、ブロ
ッキング性が不十分となり黒斑点を十分に抑制すること
ができない。However, the above-mentioned known undercoat layer does not have a sufficient effect of suppressing black spots. Moreover, it has not been achieved to improve both the blocking property and the sensitivity as a photoreceptor. In other words, among the resins conventionally used, those that have effective blocking properties and are thought to have the effect of suppressing black spots have poor sensitivity, and conversely, when trying to improve sensitivity, the blocking properties are insufficient and black spots appear. cannot be suppressed sufficiently.

さらに、重層塗布過程で問題が生じる。上層、下層のポ
リマーの溶解性が類似していれば、上層塗布時、下層の
一部が溶出し、上層と下層界面が乱れ塗布できなくなっ
たり、ディッピング塗布で塗布した場合、上層塗布槽が
一部下層構成成分で汚染されてしまい高価な上層塗布液
の寿命が短くなる他、感光体の電位特性も悪化させる。Additionally, problems arise during the multilayer coating process. If the solubility of the polymers in the upper and lower layers is similar, part of the lower layer will dissolve when the upper layer is applied, and the interface between the upper and lower layers will be disturbed and coating will not be possible, or if coating is done by dipping, the upper layer coating tank will be This not only shortens the life of the expensive upper layer coating solution but also deteriorates the potential characteristics of the photoreceptor due to contamination with the constituent components of the lower layer.

これらのことは、上層、下層のポリマーや溶媒に対して
厳しい処方制限を加えることになる。These factors impose strict prescription restrictions on the polymers and solvents in the upper and lower layers.

熱硬化性樹脂をＵＣＬに適用した例もあるが、高い硬化
温度（少なくともｌ　ｌ　Ｏ’（１！以上）と比較的長
い時間（３０分以上）が必要であるので生産性が悪化す
る。又、硬化剤が混入した塗布液の安定性は本質的に悪
くなる。Although there are examples of applying thermosetting resins to UCL, productivity deteriorates because a high curing temperature (at least 1! or more) and a relatively long time (30 minutes or more) are required. , the stability of the coating liquid mixed with the curing agent becomes essentially poor.

更に接着性についても未だ充分でなく、支持体とＵＣＬ
との接着性以外に、ＵＣＬ−上層間の接着性が悪いのが
現状である。Furthermore, the adhesion is still insufficient, and the support and UCL
At present, the adhesion between the UCL and the upper layer is poor in addition to the adhesion between the UCL and the upper layer.

又、近年、電子写真複写方法において、安価、小型で直
接変調できるなどの特徴を有する半導体レーザ光源が用
いられている。現在、半導体レーザとして広範にもちい
られているガリウムーアルミニラム−砒素（Ｇａ−Ａｔ
−Ａｓ）系発光素子は、発振波長が７５０ｎｍ程度以上
である。Furthermore, in recent years, semiconductor laser light sources have been used in electrophotographic copying methods, which are inexpensive, compact, and capable of direct modulation. Currently, gallium-aluminum-arsenic (Ga-At
-As) type light emitting element has an oscillation wavelength of about 750 nm or more.

こうしたレーザビーム等を用いる技術体系はプリンタへ
の応用が期待されているが、長波長光に高感度を有する
感光体が未だ開発されていないのか現状である。Although such a technical system using a laser beam or the like is expected to be applied to printers, a photoreceptor having high sensitivity to long wavelength light has not yet been developed.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、黒斑点等の画像欠陥を抑止でき、しか
も半導体レーザ等の比較的長波長の光に十分な感度を有
する感光体を提供することである。An object of the present invention is to provide a photoreceptor that can suppress image defects such as black spots and has sufficient sensitivity to relatively long wavelength light from semiconductor lasers and the like.

本発明の他の目的は、耐刷性、電位安定性、残留電位特
性に優れた感光体を提供することである。Another object of the present invention is to provide a photoreceptor with excellent printing durability, potential stability, and residual potential characteristics.

更に本発明の他の目的は導電性支持体上に、少なくとも
ＵＣＬ、ＰＣＬとが設けされている感光体に於て、塗工
性、接着性のよい感光体を提供することである。Another object of the present invention is to provide a photoreceptor having good coating properties and adhesion properties, in which at least UCL and PCL are provided on a conductive support.

〔発明の構成及びその作用効果〕[Structure of the invention and its effects]

本発明の感光体は： （１）導電性支持体上に少なくともＵＣＬとＰＣＬとか
設けられている感光体に於て、航記ＵＣＬがアクリルア
クリレート系放射線硬化型樹脂によって形成されること
を特徴として構成される。The photoreceptor of the present invention has the following features: (1) In the photoreceptor in which at least UCL and PCL are provided on a conductive support, the UCL is formed of an acrylic acrylate radiation-curable resin. configured.

更に本発明の態様においては； （２）前記アクリルアクリレート系放射線硬化型樹脂が
放射線感応性不飽和二重結合のアクリロイル基、メタア
クリロイル基の中から選ばれる少なくとも一種を末端及
び／又は側鎖に有することが好ましい。Furthermore, in an aspect of the present invention; (2) the acrylic acrylate-based radiation-curable resin has at least one selected from acryloyl groups and methacryloyl groups of radiation-sensitive unsaturated double bonds at terminals and/or side chains; It is preferable to have.

本発明の構成を採ることによって、 １、塗布重層性が良いこと、 ２、他の塗布液の汚染がないこと、 ３、他の塗布液により溶解させられないことから、処方
上の選択の幅が筐ること、 ４、ブロッキング性が良好であり、黒ぼちが出現しない
こと、 ５、下層との接着性が良いこと、 等の利点が得られる。By adopting the structure of the present invention, 1. good multilayer coating properties, 2. no contamination of other coating solutions, and 3. not being dissolved by other coating solutions, giving a wide range of formulation options. The following advantages can be obtained: 4. Good blocking properties and no appearance of black spots; 5. Good adhesion to the lower layer.

この重合体は、既述したごとく、ホール移動度の大きい
有機光導電性物質をＰＣＬに用いたときに生じ易い支持
体からの不均一なホールの注入を効果的に防止するプロ
ンキング機能を有している。As mentioned above, this polymer has a pronking function that effectively prevents uneven injection of holes from the support, which tends to occur when organic photoconductive materials with high hole mobility are used in PCL. are doing.

従って、この下引層の存在によって、支持体側からの局
所的なキャリア注入に対する障壁を設けることができ、
局所的なキャリア注入による表面電荷の消失、減少を阻
止できると考えられる。従って、特に反転現像を行った
場合に画像上に黒斑点が生ずることはなく、白斑点や画
面肌荒れ、ピンホールの発生もなく、画像欠陥のない高
品質の画像を得るという顕著な作用効果を奏することが
できる。Therefore, the presence of this undercoat layer can provide a barrier to local carrier injection from the support side.
It is thought that it is possible to prevent the surface charge from disappearing or decreasing due to local carrier injection. Therefore, especially when reversal development is performed, there are no black spots on the image, no white spots, no rough edges, no pinholes, and a remarkable effect of obtaining a high-quality image without image defects. can play.

本発明のアクリルアクリレート系放射線感応型樹脂は次
の一般式で示される。The acrylic acrylate radiation-sensitive resin of the present invention is represented by the following general formula.

（１；１０〜８００ ｍ　；　４００以下 ｎ：２０以下 Ｒ；　Ｈ、ＣＨｓ、　ＣｘＨ５ Ｒ’　　；）（、Ｃ，〜Ｃ６の炭化水素基Ｒ″；２価の
結合手を有する置換、無置換の炭化水素基であり、末端
に（メタ）アクリル基もしくは放射線感応基を有する置
換基Ｘ　：（メタ）アクリル化合物と共重合可能な繰返
し単位を有するモノマーユニット、共重合成分として存
在しなくても良い。(1; 10 to 800 m; 400 or less n: 20 or less R; H, CHs, CxH5 R';) (, C, to C6 hydrocarbon group R''; substituted or unsubstituted having a divalent bond Substituent X, which is a hydrocarbon group and has a (meth)acrylic group or a radiation-sensitive group at the end: a monomer unit having a repeating unit that can be copolymerized with a (meth)acrylic compound, does not need to be present as a copolymerization component .

前記アクリルアクリレート系の化合物の例としでは次の
ものが挙げられる。Examples of the acrylic acrylate compounds include the following.

化合物例 １゜ ２゜ ？Ｈ・ ｏ−ｃｏ−ｃ寓ＣＨ２ ＣＨ。Compound example 1゜ 2゜ ? H・ o-co-c fable CH2 CH.

Ｑ　−２５ｍ　−３ ３　。Q -25m -3 3.

Ｈｓ （２−５０ｍ−１０ｍ＝５ ４．１．と同じ組成　但しく１＝５０ｍ＝３５．３．と
同じ組成　但しＱ＝　２００　ｍ＝　５Ｏｎ＝　１０本
発明のアクリルアクリレート系放射線感応型樹脂は、ア
クリル系ポリマーのようなビニル系オリゴマーの側鎖に
カルボキシル基、グリシジル基、ヒドロキシル基などの
官能基を導入し、アクリロイル基、メタクリロイル基を
導入したものである。Hs (2-50m-10m=5 Same composition as 4.1. However, same composition as 1=50m=35.3. However, Q=200 m=5On=10 The acrylic acrylate radiation-sensitive resin of the present invention is A functional group such as a carboxyl group, a glycidyl group, or a hydroxyl group is introduced into the side chain of a vinyl oligomer such as an acrylic polymer, and an acryloyl group or a methacryloyl group is introduced.

アクリロイル基、メタクリロイル基を導入する方法とし
ては、次のやり方が挙げられる。Examples of methods for introducing acryloyl groups and methacryloyl groups include the following methods.

■１分子中に水酸基を１個以上有する熱可塑性樹脂又は
熱可塑性軟質樹脂、プレポリマー１分子中に１分子以上
のポリイソシアネート化合物のインシアネート基を反応
させ、次にイソシアネート基と反応する基及び放射線硬
化性を有する不飽和二重結合を有する単量体１分子以上
との反応物、例えば鹸化された塩酢ビ共重合体（ＵＣＣ
製ＶＡＧＨ）の水酸基１個当たりにトルエンジイソンア
不−ト１分子を反応させ、その後１分子の２−ヒドロキ
ノエチルメタクリレートを反応させて得た、塩酢ビ系共
重合樹脂にアクリル系二重結合をベンタント状に有する
樹脂を挙げることができる。■ Thermoplastic resin or thermoplastic soft resin having one or more hydroxyl groups in one molecule, a group that reacts with one or more incyanate groups of a polyisocyanate compound in one prepolymer molecule, and then reacts with the isocyanate group; A reaction product with one or more molecules of a monomer having an unsaturated double bond having radiation curability, such as a saponified salt-vinyl acetate copolymer (UCC)
An acrylic double molecule is added to a vinyl acetate copolymer resin obtained by reacting one molecule of toluene diisonate per hydroxyl group of VAGH (manufactured by VAGH) and then one molecule of 2-hydroquinoethyl methacrylate. Examples include resins having bentant bonds.

又、ここで使用されるポリイソシアネート化合物として
は、２．４−１ルエンジイソンア不一ト、２゜６−トル
ニンジイノンア不−ト、■、３−キシレンジイソンアノ
ント、１．４−キ７レンジイノンア不−ト、ｍ−７二二
レンジイソシア不−ト、ｐ−フェニレンジイソ／アネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、インホロンジイ
ソシアネートやデスモジュールＬ１デスモジュールＩＬ
（西ドイツバイエル社製）等がある。In addition, the polyisocyanate compounds used here include 2,4-1-toluene diysonone, 2゜6-toluene diysonone, 7 diynone abut, m-7 22 diisocyanate, p-phenylene diiso/anate, hexamethylene diisocyanate, inphorone diisocyanate and desmodule L1 desmodule IL
(manufactured by Bayer AG, West Germany), etc.

イソシアネート基と反応する基及び放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としては、アクリル酸あるいは
メタクリル酸の２−ヒドロキンエチルエステル、２−ヒ
ドロキンプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチルエ
ステル等水酸基を有するエステル類；アクリルアマイド
、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルアマイ
ド等のインシアネート基と反応する活性水素を持ち、か
つアクリル系二重結合を含有する単量体；更Ｉこアリル
アルコール、マレイン酸多価アルコールエステル化合物
、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるいはジ
グリセリド等インシアネート基と反応する活性水素を持
ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を含有す
る単量体も含まれる。Monomers having groups that react with isocyanate groups and radiation-curable unsaturated double bonds include hydroxyl groups such as 2-hydroquine ethyl ester, 2-hydroquine propyl ester, and 2-hydroxyoctyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. Monomers having active hydrogen that reacts with incyanate groups such as acrylamide, methacrylamide, and N-methylolacrylamide and containing an acrylic double bond; Allyl alcohol, maleic acid Polyhydric alcohol ester compounds, mono- or diglycerides of long-chain fatty acids with unsaturated double bonds, and other monomers that have active hydrogen that reacts with incyanate groups and have radiation-curable unsaturated double bonds. included.

■１分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物１分子と
、エポキシ基と反応する基及び放射線硬化性不飽和二重
結合を有する単量体１分子以上との反応物、例えばグリ
シジルメタクリレートをラジカル重合させて得たエポキ
シ基を含有する熱可塑性樹脂にアクリル酸を反応させ、
カルボキシル基とエポキシ基との開環反応により、分子
中にアクリル系二重結合をペンダントさせた樹脂、プレ
ポリマーもしくはオリゴマー、又、マレイン酸を反応さ
せカルボキシ基とエポキシ基との開環反応により分子骨
格中に放射線硬化性不飽和二重結合を有する樹脂、プレ
ポリマー、オリゴマーを挙げることができる。■A reaction product of one molecule of a compound containing one or more epoxy groups in one molecule and one or more molecules of a monomer having a group that reacts with the epoxy group and a radiation-curable unsaturated double bond, such as glycidyl methacrylate, is used as a radical. A thermoplastic resin containing epoxy groups obtained by polymerization is reacted with acrylic acid,
A ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group produces resins, prepolymers, or oligomers with pendant acrylic double bonds in the molecule, and a ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group produces molecules by reacting maleic acid. Examples include resins, prepolymers, and oligomers having radiation-curable unsaturated double bonds in their skeletons.

ここで分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物として
は、グリシジルアクリレート、グリシジルアクリレート
の如きエポキシ基を含むアクリルエステルあるいはメタ
クリルエステルのポモポリマーあるいは他の重合性上ツ
マ−との共重合体として、エピコート８２８、エピコー
ト１ｏｏ１１　エピコート１００７、エピコート＋００
９　（以上ンエル化学社製）等その他種々のタイプのユ
ボキン樹脂がある。Here, compounds containing one or more epoxy groups in the molecule include glycidyl acrylate, a pomopolymer of acrylic ester or methacrylic ester containing an epoxy group such as glycidyl acrylate, or a copolymer with other polymerizable polymers, such as Epicoat. 828, Epicote 1oo11 Epicote 1007, Epicote +00
There are various other types of Yuboquin resins such as 9 (manufactured by El Kagaku Co., Ltd.).

エポキシ基と反応する基及び放射線硬化性不飽和二重結
合を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸
等のカルボキシル基を含有するアクリル系単量体、メチ
ルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタクリレ
ート等の１１級もしくは第２級アミノ基を有するアクリ
ル単量体に加えマレイン酸、フマル酸やクロトン酸、ウ
ンデシレン酸等放射線硬化性不飽和二重結合を有する多
塩基酸単量体も使用できる。Monomers having groups that react with epoxy groups and radiation-curable unsaturated double bonds include acrylic monomers containing carboxyl groups such as acrylic acid and methacrylic acid, methylaminoethyl acrylate, methylaminomethacrylate, etc. In addition to acrylic monomers having an 11th or secondary amino group, polybasic acid monomers having a radiation-curable unsaturated double bond such as maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and undecylenic acid can also be used.

ｍ、分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分
子と、カルボキシル基と反応する基及び放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例
えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル基
を含有する熱可塑性樹脂にグリンジルメタクリレートを
反応させ、第■項と同様にカルボキシル基とエボキン基
の開環反応により分子中にアクリル系二重結合を導入さ
せた樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることがで
きる。m, a reaction product of one molecule of a compound containing one or more carboxyl groups in the molecule and one or more molecules of a monomer having a group that reacts with the carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond, such as methacrylic acid, is dissolved in a solution. A resin in which a thermoplastic resin containing a carboxyl group obtained by polymerization is reacted with grindyl methacrylate, and an acrylic double bond is introduced into the molecule by a ring-opening reaction between a carboxyl group and an evoquine group in the same way as in item ①. , prepolymers, and oligomers.

分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物としては
、分子鎖中又は分子末端にカルボキシル基を含む先に述
へた樹脂中のポリエステル類ニアクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、フマル酸等のラジカル重合性を持
ち、かつカルボキシル基を有する単量体のホモポリマー
あるいは他の重合性上ツマ−との共重合体等である。Compounds containing one or more carboxyl groups in the molecule include radicals such as nialic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc. in the polyesters mentioned above that contain carboxyl groups in the molecular chain or at the end of the molecule. These include homopolymers of monomers that are polymerizable and have carboxyl groups, or copolymers with other polymerizable monomers.

カルボキシル基と反応する基及び放射線硬化性不飽和二
重結合を有する単量体としては、グリンジルアクリレー
ト、グリンジルメタクリレート等がある。Examples of monomers having a group that reacts with a carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond include grindyl acrylate and grindyl methacrylate.

又、前記樹脂層には放射線の照射により架橋又は重合す
る樹脂の他に、ＰＣＬとの接着性を改造するために他の
樹脂を併用してもよい。このような他の樹脂としては例
えはポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポ
リビニルアセタール樹脂、ン゛アリルフタレート樹脂、
／リコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ酢酸ヒニル樹脂、ポリフ二ニレンオキンド樹脂、アル
キド樹脂、スチレン−無水マレイン酢共重合体樹脂、フ
ェノール樹脂、パラフィンワックスなとか挙げられる。Further, in addition to the resin that is crosslinked or polymerized by radiation irradiation, other resins may be used in combination with the resin layer in order to modify the adhesiveness with PCL. Examples of such other resins include polycarbonate resin, polyacrylate resin, polyvinyl acetal resin, allyl phthalate resin,
Examples include silicone resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyhinyl acetate resin, polyphenylene Oquindo resin, alkyd resin, styrene-anhydrous maleic vinegar copolymer resin, phenol resin, and paraffin wax.

これらの他の樹脂は単独で用いてもよいし、２種以上混
合してもよい。These other resins may be used alone or in combination of two or more.

本発明の化合物を用いるに当り、ＵＶ吸収率、硬化速度
を速める為、光重合開始剤を添加してもよい。この例と
しては、例えはベンゾインエーテル系、ベンジルケター
ル系、α−ヒドロキンアセトフェノン系、クロルアセト
フェノン系、σ−アミノアセトフェノン系、アンルホス
フィンオキサイド系、α−ジカルボニル系、σ−ア／ル
オキ／ムエステル等がある。When using the compound of the present invention, a photopolymerization initiator may be added to increase UV absorption and curing speed. Examples include benzoin ethers, benzyl ketals, α-hydroquine acetophenones, chloracetophenones, σ-aminoacetophenones, anlphosphine oxides, α-dicarbonyls, σ-a/luoki/muesters. etc.

用いられる放射線としては紫外線、電子線、Ｘ線、γ線
などがあるが紫外線及び電子線が好ましい。Examples of the radiation that can be used include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and gamma rays, with ultraviolet rays and electron beams being preferred.

紫外線照射による硬化は、波長約２０００〜４０００人
の紫外線を照射することによって行なわれる。又、紫外
線発生装置には、約５０〜１００Ｗ／ｃｍ出力の水銀灯
が好適である。電子線照射は加速電圧１００〜７５０Ｋ
Ｖ、好ましくは１５０〜３００ＫＶの電子線加速器を用
いて吸収線量が２〜２０Ｍｒａｄになるように行なわれ
る。Curing by ultraviolet irradiation is carried out by irradiating ultraviolet rays with a wavelength of about 2,000 to 4,000. Further, a mercury lamp with an output of about 50 to 100 W/cm is suitable for the ultraviolet ray generator. Electron beam irradiation uses an accelerating voltage of 100 to 750K.
It is carried out using an electron beam accelerator of V, preferably 150 to 300 KV, so that the absorbed dose is 2 to 20 Mrad.

紫外線を用いる場合と、電子線を用いる場合との処方上
の差は、紫外線を用いる場合、光重合開始剤が必要なこ
とがある以外大きな差はない。There is no major difference in prescription between the use of ultraviolet rays and the case of electron beams, except that when ultraviolet rays are used, a photopolymerization initiator may be required.

本発明におけるＵＣＬは、２μｍ以下の薄い膜厚を有し
ていることが、ブロッキング性能を十分に発揮しつつ、
残留電位の抑制等の感光体性能を良好に保持する点で望
ましい。更に好ましくは０．２〜１．０μｍである。The UCL in the present invention has a thin film thickness of 2 μm or less, so that it can sufficiently exhibit blocking performance, and
This is desirable in terms of maintaining good photoreceptor performance such as suppression of residual potential. More preferably, it is 0.2 to 1.0 μm.

本発明の感光体は例えば第２図に示す構成からなってい
る。The photoreceptor of the present invention has the structure shown in FIG. 2, for example.

この感光体に８いては、導電性支持体（基体）ｌ上に、
上記したＵＣＬ７を介してＣＧＬ６が設けられ、このＣ
ＧＬ　６上にＣＴＬ　４が設けられている。８はＰＣＬ
を示す。従って、ＣＧＬ６と支持体ｌとの間にＵＣＬ７
が設けられているので、第８図に示す支持体側からの不
均一なホールの注入を効果的に阻止する一方、光照射時
には支持体側へ光キャリアである電子を効率良く輸送す
ることができる。On this photoreceptor 8, on a conductive support (substrate) l,
CGL6 is provided via the above-described UCL7, and this CGL6 is provided via the above-mentioned UCL7.
CTL 4 is provided on GL 6. 8 is PCL
shows. Therefore, between CGL6 and support l, UCL7
Since this is provided, it is possible to effectively prevent non-uniform injection of holes from the support side as shown in FIG. 8, and at the same time, it is possible to efficiently transport electrons, which are photocarriers, to the support side during light irradiation.

なお、本発明の感光体は、上記した構成（即ち、ＣＧＬ
上にＣＴＬを積層）以外にも、第３図のように、キャリ
ア発生物質（ＣＧＭ）とキャリア輸送物質（ＣＴＭ）を
混合した単一層のＰＣＬ８からなっていてもよい。又、
第４図のように、ＣＧＬ６とＣＴＬ　４とを上下逆にし
た層構成（正帯電用）としてもよい。又、本発明の感光
体において、耐刷性向上等のため感光体表面に保護層（
保護層、０ＣＬ）を形成しても良く、例えば合成樹脂被
膜をコーティングして良い。Note that the photoreceptor of the present invention has the above-described structure (i.e., CGL
As shown in FIG. 3, it may be made of a single layer of PCL 8 in which a carrier generating material (CGM) and a carrier transporting material (CTM) are mixed. or,
As shown in FIG. 4, the layer structure may be such that the CGL 6 and CTL 4 are upside down (for positive charging). In addition, in the photoreceptor of the present invention, a protective layer (
A protective layer (0CL) may be formed, for example, a synthetic resin film may be coated.

次に、本発明の感光体に使用するＣＧＭを一般式で示す
。Next, CGM used in the photoreceptor of the present invention is shown by a general formula.

１、多環キノン顔料 （１）アントアントロン顔料 一般式１：Ｇ］〕： （２）ジベンズピレンキノン顔料 一般式ＣＧ２）： （３）ピラントロン顔料 一般式（Ｇ３３　　： 上記において、 Ｘ：ハロゲン原子、ニトロ基、ノアノ基、ア。1. Polycyclic quinone pigment (1) Antoanthrone pigment General formula 1: G]]: (2) Dibenzpyrenequinone pigment General formula CG2): (3) Pyranthrone pigment General formula (G33: In the above, X: halogen atom, nitro group, noano group, a.

ル基、又はカルボキシル基。or carboxyl group.

ｎ＝ｏ〜４ ｍ＝０〜６ ２、アズレニウム化合物 アズレニウム化合物は例えは下記公報記載の化合物であ
る。n=o~4 m=0~6 2, Azulenium compound The azulenium compound is, for example, a compound described in the following publication.

（イ）特開昭６１−１５４７ （口　）　　　同　　６１　１５４８ （ハ）　　　同　　６ｌ−１５１４７ （ニ）　　　同　　６ｌ−１５１５０ （ホ）　　　同　　６１−１５１５１ アスレニウム化合物め具体例としては、例えは下記一般
式のものか挙げられる。(A) JP-A-61-1547 (Ex) JP-A 61-1548 (C) JP-A 61-15147 (D) JP-A 61-15150 (E) JP-A 61-15151 Specific examples of asthrenium compounds include the following general formula. I can name some things.

一般式（Ｇ４）。General formula (G4).

但し、上記一般式中、 Ｒ１１、Ｒ１２、ＲＩ３、Ｒ目、ＲＩ５、ＲＩ６、ＲＩ
７＝水素原子、ハロゲン原子、又は有機残基を表す。又
、Ｒ１１とＲＩ２、ＲＩ２とＲＩ３、ＲＩ３とＲ”、Ｒ
Ｉ４とＲ１５、Ｒ】５とＲｏｅ、Ｒ１６とＲＩ７の組合
せのうち、いずれか１つの組合せで置換又は無置換の縮
合環を形成しても良い。However, in the above general formula, R11, R12, RI3, R's, RI5, RI6, RI
7 = represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an organic residue. Also, R11 and RI2, RI2 and RI3, RI3 and R'', R
Any one of the combinations of I4 and R15, R]5 and Roe, and R16 and RI7 may form a substituted or unsubstituted condensed ring.

Ａｒ’、Ａｒ”ニアリール基を表す。Ar', Ar'' represents a nialyl group.

Ｒ１１、Ｒ１９：置換若しくは無置換の統記３種の基；
アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。又、Ｈ
ｏｇとＲ”とで窒素原子と共に環を形成しても良い。R11, R19: substituted or unsubstituted three types of groups;
Represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. Also, H
og and R'' may form a ring together with the nitrogen atom.

Ｌ　ｅ　、アニオン残基を表す。L e represents an anion residue.

かかるアズレニウム塩の代表的具体例としては、次のも
のが挙げられる。Typical specific examples of such azulenium salts include the following.

３、／アユ２色素 ／アユ２色素は公知であり、例えば特開昭５８−１１８
６５０号、同５８−２２４３５４号、同５９−１４６０
６号記載の化合物がある。3./Ayu 2 pigment/Ayu 2 pigment is known, for example, disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-118.
No. 650, No. 58-224354, No. 59-1460
There is a compound described in No. 6.

４、フタロシアニン化合物 有機系光導電材料の一つであるフタロシアニン系化合物
は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大しているこ
とが知られている。そしてα型のフタロシアニン化合物
が結晶形の安定なβ型のフタロンアニン化合物に変わる
過程で各種結晶形の７タロシアニン化合物が見出されて
いる。これらの光導電性を示すフタロシアニン系化合物
としては、例えば特公昭４９−４３３８号記載のＸ型無
金属フタロンアニン化合物、特開昭５８−１８２６３９
号、同６０−１９１５１号に記載されているで、τ′、
１１　η′型型金金属フタロシアニン化合物特開昭６３
−１４８２６９号に記ｔされているフタロンアニン化合
物等の他、各種の金属フタロシアニン化合物か例示され
る。4. Phthalocyanine compounds It is known that phthalocyanine compounds, which are one type of organic photoconductive materials, have a photosensitive range extending to a longer wavelength range than other compounds. In the process of converting α-type phthalocyanine compounds into stable crystalline β-type phthalonanine compounds, various crystalline forms of 7-thalocyanine compounds have been discovered. Examples of these phthalocyanine compounds exhibiting photoconductivity include X-type metal-free phthalonanine compounds described in Japanese Patent Publication No. 49-4338, Japanese Patent Application Laid-open No. 182639-1980,
No. 60-19151, τ′,
11 η' type gold metal phthalocyanine compound JP-A-1983
In addition to the phthalonanine compounds described in No. 148269, various metal phthalocyanine compounds are exemplified.

例えばチタルフタロンアニン化合物について特願昭６２
−２４１９３８号に記載されているものがある。この他
、特に半導体レーザに好適なフタロシアニ〉化合物を例
示する。For example, a patent application was filed in 1983 for the titalphthalone anine compound.
There is one described in No.-241938. In addition, phthalocyanide compounds particularly suitable for semiconductor lasers are exemplified.

フタロンアニン例示化合物 ５、アゾ化合物 ジスアゾ化合物として、下記一般式に示すものが例示さ
れる。Phthalonanine Exemplary Compound 5, Azo Compound As the disazo compound, those shown in the following general formula are exemplified.

一般式（Ｇ６）： ％式％ 等がある。General formula (G6): %formula% etc.

又、その他のアゾ化合物として、下記各一般式％式％ 一般式（Ｇ７）： −Ｎ−Ｃｐ 一般式（Ｇ８）： ％式％ 一般式（Ｇ９）： Ｃｐ−Ｎ　−Ｎ−ＡＳ−Ｎ　＝　Ｎ−Ａｒ’−Ｎ　＝　
Ｎ−Ａｒ５−Ｎ　＝　Ｎ　−Ｃｐ但し、Ａｒ”、Ａｒ’
、Ａｒ’は、それぞれ置換若しくは無置換の次記２種の
基：炭素環式芳香族環基、複素環式芳香族環基を表す。In addition, as other azo compounds, each of the following general formulas % formula % General formula (G7): -N-Cp General formula (G8): % formula % General formula (G9): Cp-N -N-AS-N = N-Ar'-N=
N-Ar5-N = N-Cp However, Ar'', Ar'
, Ar' represent the following two groups, each substituted or unsubstituted: a carbocyclic aromatic ring group and a heterocyclic aromatic ring group.

更に、Ａｒ３、Ａｒ’、Ａｒ’の具体例を例示すると、
又、Ｃｐ（カプラー）としては、例えは次のようなもの
がある。Furthermore, specific examples of Ar3, Ar', and Ar' are given below:
Examples of Cp (coupler) include the following.

但し、Ａとしては、 ＣＧＬにおいて、ＣＧＭのバインダ物質に対する含有量
比は５／ｌ−１／ｌｏとするのが好ましく、３／ｌ〜ｌ
／３とすると更に好ましい。However, as for A, in CGL, the content ratio of CGM to the binder substance is preferably 5/l-1/lo, and 3/l to 1/lo.
It is more preferable to set it to /3.

ＣＧＭの含有量比が上記範囲より大きいと黒斑点等が現
れ易くなる。但し、ＣＧＭの割合があまり小さいと却っ
て光感度等が低下してしまう。When the content ratio of CGM is larger than the above range, black spots etc. tend to appear. However, if the proportion of CGM is too small, the photosensitivity etc. will actually decrease.

ＣＧＬの膜厚は０．１−１０μｍ以上とすることが好ま
しく、０．２〜５μｍの範囲内とすることがより好まし
い。ＣＴＬの膜厚は１０μｍ以上であることが好ましい
。The thickness of the CGL is preferably 0.1-10 μm or more, more preferably 0.2-5 μm. The thickness of the CTL is preferably 10 μm or more.

感光層全体の膜厚は１０〜４０μｍの範囲内とするのが
好ましく、１５〜３０μｍの範囲内とすると更に好まし
い。この膜厚が上記範囲内よりも小さいと、薄いために
帯電電位が小さくなり、耐刷性も低下する傾向がある。The thickness of the entire photosensitive layer is preferably within the range of 10 to 40 μm, and more preferably within the range of 15 to 30 μm. If the film thickness is smaller than the above range, the charging potential will be low due to the thinness, and the printing durability will also tend to decrease.

又、膜厚が上記範囲よりも大きいと、却って残留電位は
上昇する上に、上記したＣＧＬが厚すぎる場合と同様に
キャリア移動途中でドラッグサイトにつかまり、十分な
輸送能が得がたくなる傾向が現れ、このため繰返し使用
時には残留電位の上昇が起こり易くなる。Furthermore, if the film thickness is larger than the above range, the residual potential will increase on the contrary, and, as in the case where the CGL is too thick, carriers will tend to be caught at drug sites during movement, making it difficult to obtain sufficient transport ability. Therefore, the residual potential tends to increase during repeated use.

ＣＧＬ中にＣＴＭをも含有せしめることも可能である。It is also possible to include CTM in CGL.

粒状のＣＧＭを分散せしめてＰＣＬを形成する場合にお
いては、該ＣＧＭは２μｍ以下、好ましくは１μｍ以下
、更に好ましくは０．５μｍ以下の平均粒径の粉粒体と
されるのが好ましい。When PCL is formed by dispersing granular CGM, the CGM is preferably in the form of powder having an average particle size of 2 μm or less, preferably 1 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less.

又、キャリア輸送層において、キャリア輸送物質は、バ
インダ物質との相溶性に優れたものが好ましい。Further, in the carrier transport layer, the carrier transport substance preferably has excellent compatibility with the binder substance.

これにより、バインダ物質に対する量を多くしても濁り
及び不透明化を生ずることがないので、バインダ物質と
の混合割合を非常に広くとることができ、又、相溶性が
優れていることから電荷発生層が均一、かつ安定であり
、結果的に感度、帯電特性がより良好となり、更に高感
度で鮮明な画像を形成できる感光体をうろことができる
。As a result, turbidity and opacity do not occur even if the amount of the binder substance is increased, so the mixing ratio with the binder substance can be set at a very wide range. The layer is uniform and stable, resulting in better sensitivity and charging characteristics, and a photoreceptor that can form clear images with higher sensitivity can be used.

更に、特に反復転写式電子写真に用いたとき、疲労劣化
を生ずることが少ないという作用効果を奏することがで
きる。Furthermore, especially when used in repeated transfer type electrophotography, it is possible to achieve the effect that fatigue deterioration is less likely to occur.

本発明で使用可能なＣＴＭは、カルバゾール誘導体、オ
キサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾー
ル誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体
、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダシ
ロン誘導体、ヒスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合
物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサシロ
ン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ペンスイミタゾー
ル誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導−体、
アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベ
ン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジア
ミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−上ニルカル
バゾール、ポリ−１−ヒニルピレン、ポリ−９−ビニル
アントラセン等から選はれた１種又は２種以上であって
よい。CTMs that can be used in the present invention include carbazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidasilone derivatives, imidasilone derivatives, hisimidazolidine derivatives, styryl compounds, hydrazone compounds, and pyrazoline. derivatives, oxacilone derivatives, benzothiazole derivatives, pennimitazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives,
One type selected from acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene derivatives, poly-N-monylcarbazole, poly-1-hinylpyrene, poly-9-vinylanthracene, etc. Or it may be two or more types.

かかるキＪ、　ＩＪア輸送物質の具体的化合物例は特開
昭６３−５０８５１号に記載されている。Specific examples of such KiJ and IJ transport substances are described in JP-A-63-50851.

以下にその一般式を掲げる。The general formula is listed below.

キャリア輸送物質として次の一般式［Ｔｌ〕又は〔Ｔ２
〕のスチリル化合物か使用可能である。The following general formula [Tl] or [T2
] Styryl compounds can be used.

一般式（ＴＩ）： バー−Ｉｆ’ 但し、この一般式中、 Ｒ２１，Ｒ２２、置換若しくは無置換ま２種の基；アル
キル基、アリール基を表し、 置換基としてはアルキル基、アル コキシ基、置換アミノ基、水酸基、 ハロゲン原子、アリール基を用い る。General formula (TI): Bar-If' However, in this general formula, R21, R22, substituted or unsubstituted, represent two types of groups; an alkyl group, an aryl group, and the substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a substituted Amino groups, hydroxyl groups, halogen atoms, and aryl groups are used.

Ａ「１６、Ａ　ｒ”　：置換若しくは無置換のアリール
基を表し、置換基としてアルキル 基、アルコキシ基、置換アミノ基、 水酸基、ハロゲン原子、アリール 基を用いる。A "16, A r": represents a substituted or unsubstituted aryl group, and an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a halogen atom, or an aryl group is used as a substituent.

Ｒｚｓ、Ｒ１４：置換若しくは無置換のアリール基、水
素原子を表し、置換基としては アルキル基、アルコキシ基、置換 アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、 アリール基を用いる。Rzs, R14: Represents a substituted or unsubstituted aryl group or hydrogen atom, and the substituent used is an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a halogen atom, or an aryl group.

一般式（Ｔ２）： 但し、この一般式中、 Ｈｚｓ、Ｆｔ置換若くは無置換のアリール基、Ｒ２６：
水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の３種の
基；アルキ ル基、アルコキン基、アミン基及 び水酸基、 Ｒ２７：置換若しくは無置換の２種の基；アルキル基、
複素環基を表す。General formula (T2): However, in this general formula, Hzs, Ft-substituted or unsubstituted aryl group, R26:
Hydrogen atom, halogen atom, three types of substituted or unsubstituted groups; alkyl group, alkokene group, amine group and hydroxyl group, R27: two types of substituted or unsubstituted groups; alkyl group,
Represents a heterocyclic group.

又、ＣＴＭとして次の一般式〔Ｔ３〕、〔Ｔ４〕、ＣＴ
　４　ａ）、〔Ｔ４ｂ）又は〔Ｔ５〕のヒドラゾン化合
物も使用可能である。In addition, as CTM, the following general formulas [T3], [T4], CT
The hydrazone compounds of 4 a), [T4b) or [T5] can also be used.

一般式（Ｔ３）： 但し、この一般式中、 Ｒ２８及びＲ２９：それぞれ水素原子又はハロゲン原子
、 Ｒ”及びＲ３１，それぞれ置換若しくは無置換のアリー
ル基、 Ａ　ｒ”・置換若しくは無置換のアリール基を表す。General formula (T3): However, in this general formula, R28 and R29: each a hydrogen atom or a halogen atom, R'' and R31, each a substituted or unsubstituted aryl group, Ar'', a substituted or unsubstituted aryl group represent.

一般式〔Ｔ４〕　・ 但し、この一般式中、 Ｒ″：置換若しくは無置換の３種の基、カルバゾリル基
、複素環基を表し、 Ｒ３３、Ｒ３″及びＲ１５・水素原子、アルキル基；ア
リール基、置換若しくは無置換 の２種の基；アリール基、アラル キル基を表す。General formula [T4] - However, in this general formula, R'': represents three substituted or unsubstituted groups, a carbazolyl group, a heterocyclic group, R33, R3'' and R15, hydrogen atom, alkyl group; aryl group , represents two types of substituted or unsubstituted groups; an aryl group and an aralkyl group.

一般式［Ｔ４ａ］： Ｒ３＋ 但し、この一般式中、 Ｒ１６：メチル基、エチル基、２−ヒドロキノエチル基
又は２−クロルエチル 基、 Ｒ３７：メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基、 Ｒ３８：メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基を示す。General formula [T4a]: R3+ However, in this general formula, R16: methyl group, ethyl group, 2-hydroquinoethyl group, or 2-chloroethyl group, R37: methyl group, ethyl group, benzyl group, or phenyl group, R38: Indicates a methyl group, ethyl group, benzyl group or phenyl group.

但し、この一般式中、Ｒ３ｔは置換若しくは無置換のす
７チル基；Ｒ４０は置換若しくは無置換のアルキル基、
アラルキル基、アリール基；Ｒ目は水素原子、アルキル
基又はアリール基：Ｒ４２及びＲ４３は置換若しくは無
置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基からな
る互いに同一の若しくは異なる基を示す。However, in this general formula, R3t is a substituted or unsubstituted 7-tyl group; R40 is a substituted or unsubstituted alkyl group,
Aralkyl group, aryl group; R's is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group; R42 and R43 are the same or different groups consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group or aryl group.

一般式（Ｔ５）： 但し、この一般式中、 Ｒ４′＝置換若しくは無置換の２種の基ニアリール基、
複素環基、 Ｒ１５：水素原子、置換若しくは無置換の２種の基；ア
ルキル基、アリール 基、 Ｑ：水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミン基、アルコキ／ 基又は／アノ基、 Ｓ・０又はｌの整数を表す。General formula (T5): However, in this general formula, R4' = two types of substituted or unsubstituted groups, nialyl group,
Heterocyclic group, R15: hydrogen atom, two types of substituted or unsubstituted groups; alkyl group, aryl group, Q: hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, substituted amine group, alkoxy/ group or /ano group, S. Represents an integer of 0 or l.

又、ＣＴＭとして、次の一般式〔Ｔ６〕のビアゾリン化
合物も使用可能である。Furthermore, as the CTM, a viazoline compound of the following general formula [T6] can also be used.

一般式（Ｔ６）： 但し、この一般式中、 ｌ：０又はｌ。General formula (T6): However, in this general formula, l: 0 or l.

Ｒ４６及びＲ４７＝置換若しくは無置換のアリール基、
Ｒ１：置換若しくは無置換のアリール基若しくは複素環
基、 Ｒ４′及びＲ５０：水素原子、炭素原子数１〜４のアル
キル基、又は置換若しくは無量 換のアリール基若しくはアラルキ ル基（但し、Ｒ１及びＲ２Ｏは共に 水素原子であることはなく、又前 記ｌか０のときはＲ４１は水素原子 ではない。） 更に、次の一般式〔Ｔ７〕のアミン誘導体もＣＴＭとし
て使用できる。R46 and R47 = substituted or unsubstituted aryl group,
R1: Substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group, R4' and R50: Hydrogen atom, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or substituted or unsubstituted aryl group or aralkyl group (However, R1 and R2O are (R41 is not a hydrogen atom when both are hydrogen atoms, and R41 is not a hydrogen atom when it is 1 or 0.) Furthermore, an amine derivative of the following general formula [T7] can also be used as a CTM.

一般式〔Ｔ７：ｌ： 但し、この一般式中、 Ａｒ”、Ａｒ”：置換若しくは無置換の７エニル基を表
し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキン基を用いる。General formula [T7:l: However, in this general formula, Ar", Ar": represents a substituted or unsubstituted 7-enyl group, and a halogen atom, an alkyl group, a nitro group, or an alkokene group is used as a substituent.

Ａ　ｒ２’　：置換若しくは無置換のフェニル基、ナフ
チル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キシ基、ノ・ロゲン原子、水酸基、 アリールオキシ基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、□ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミ７基を 用いる。A r2': Represents a substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, anthryl group, fluorenyl group, or heterocyclic group, and substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a norogen atom, a hydroxyl group, an aryloxy group, and an aryl group. , an amino group, a nitro group, a □piperidino group, a morpholino group, a naphthyl group, an anthryl group, and a substituted amine group.

但し、置換アミノ基の置換基と してアシル基、アルキル基、アリ ール基を用いる。However, the substituent of the substituted amino group acyl group, alkyl group, ali Uses a metal group.

更に、次の一般式〔Ｔ８〕の化合物もＣＴＭとして使用
できる。Furthermore, a compound of the following general formula [T8] can also be used as a CTM.

一般式（Ｔ８）： 但し、この一般式中、 Ａｒ”・置換又は無置換のアリーレン 基を表し、 Ｈ６１，Ｈ５２、Ｒｂ２及びＨ５＋ ：置換若しくは無置換の３種の基。General formula (T8): However, in this general formula, Ar”・Substituted or unsubstituted arylene represents the group, H61, H52, Rb2 and H5+ : Three types of substituted or unsubstituted groups.

アルキル基、アリール基、アラル キル基を表す。Alkyl group, aryl group, aral Represents a kill group.

更に、次に一般式〔Ｔ９〕の化合物もＣＴ　Ｍとして使
用できる。Furthermore, the compound of general formula [T9] can also be used as CTM.

一般式〔Ｔ９〕 但し、この一般式中、Ｒ”、Ｒ５６、Ｒ５７及びＲ５Ｍ
は、それぞれ水素原子、置換若しくは無置換のアルキル
基、ンクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘ
ンシル基又はアラルキル基、Ｒ５９及びＲ”は、それぞ
れ水素原子、置換若しくは無置換の炭素原子数１〜４０
のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シク
ロアルケニル基、アリール基又はアラルキル基（但し、
Ｒ５９とＲ６０とが共同して炭素原子数３〜１０の飽和
若しくは無飽和の炭化水素環を形成してもよい。） Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、置換若しくは無置換
のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アル
キルアミノ基又はアリールアミノ基である。General formula [T9] However, in this general formula, R'', R56, R57 and R5M
are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a Hensyl group, or an aralkyl group; 40
alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group, aryl group or aralkyl group (however,
R59 and R60 may jointly form a saturated or unsaturated hydrocarbon ring having 3 to 10 carbon atoms. ) R61, R62, R63 and R64 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group Or it is an arylamino group.

ＣＴＬ、ＣＧＬ中に酸化防止剤を含有せしめることがで
きる。An antioxidant can be contained in CTL and CGL.

これにより放電で発生するオゾンの影響を抑制でき、繰
返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の低下を防止でき
る。This can suppress the influence of ozone generated during discharge, and can prevent an increase in residual potential and a decrease in charged potential during repeated use.

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダー
ドアミン、バラフェニレンジアミン、アリールアルカン
、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン
及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等
が挙げられる。Examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylene diamine, aryl alkane, hydroquinone, spirochroman, spiroindanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds, and the like.

これらの具体的化合物としては、特開昭６３−４４６６
２号、同６３−１４１５３号、同６３−５０８４９号、
同６３−１８３５５号、同６３−５８４５５号、同６３
−７１８５６号、同６３−７１８５５号及び同６６１４
６０４６号に記載がある。These specific compounds are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-4466.
No. 2, No. 63-14153, No. 63-50849,
No. 63-18355, No. 63-58455, No. 63
-71856, 63-71855 and 6614
It is described in No. 6046.

感光層中に高分子半導体を含有せしめることもできる。A polymer semiconductor can also be included in the photosensitive layer.

こうした高分子有機半導体のうちポリ−Ｎ−上ニルカル
バゾール又はその半導体が効果か犬であり、好ましく用
いられる。かかるポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体
とは、その繰返し単位における全部又は一部のカルバゾ
ール環か種々の置換基、例えはアルキル基、ニトロ基、
アミノ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によって置換
されたものである。Among these polymeric organic semiconductors, poly-N-onylcarbazole or its semiconductor is particularly effective and is preferably used. Such poly-N-vinylcarbazole derivatives include all or part of the carbazole ring in the repeating unit or various substituents, such as an alkyl group, a nitro group,
It is substituted with an amino group, a hydroxy group, or a halogen atom.

又、感光層内に感度の向上、残留電位ないし反復使用時
の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容
性物質を含有せしめることができる。Further, at least one electron-accepting substance may be contained in the photosensitive layer for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential or fatigue during repeated use, and the like.

本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば無水琥珀耐酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、
４−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトランアノエチレン、テトランアノキノジ
メタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン
、１，３．５−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、２−メチルナフトキノン、ジ
クロルジノアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ジ
ニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、９−
フルオレニリデンー〔シフアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ポリニトロ−９−フルオレニリデンー〔ジノアノ
メチリンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、０−ニトロ
安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３，５−ノニトロ安息
香酸、ペンタフルオル安息香酸、５−ニトロサリチル酸
、３．５−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸
、その他の電子親和力の大きい化合物の一種又は二種以
上を挙げることかできる。これらのうち、フルオレノン
系、キノン系やＣ１，ＣＮ、　Ｎｏ２等の電子吸引性の
置換基のあるベンゼン誘導体が特によい。Electron-accepting substances that can be used in the photoreceptor of the present invention include:
For example, amber anhydride acid resistant, maleic anhydride, dibromaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride,
Tetrabromo phthalic anhydride, 3-nitro phthalic anhydride,
4-nitrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, mellitic anhydride, tetraanoethylene, tetraanoquinodimethane, 0-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1,3.5-trinitrobenzene, varanitrobenzonitrile, Picryl chloride, quinone chlorimide,
Chloranil, brumanil, 2-methylnaphthoquinone, dichlordino anovabenzoquinone, anthraquinone, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, 9-
Fluorenylidene [cyphanomethylene malonodinitrile], polynitro-9-fluorenylidene [dinoanomethyline malonodinitrile], picric acid, 0-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3,5- Examples include one or more of nonitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid, phthalic acid, mellitic acid, and other compounds with high electron affinity. Among these, fluorenone series, quinone series, and benzene derivatives having electron-withdrawing substituents such as C1, CN, and No2 are particularly preferred.

又、更に表面改質剤としてシリコーンオイル、弗素系界
面活性剤を存在させてもよい。又、耐久性向上剤として
アンモニウム化合物が含有されていてもよい。Furthermore, silicone oil or fluorine-based surfactant may be present as a surface modifier. Further, an ammonium compound may be contained as a durability improver.

更に紫外線吸収剤用いてもよい。Furthermore, an ultraviolet absorber may be used.

好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベン
化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミダ
ゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、オ
キサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘導
体等の含窒素化合物類が用いられる。Preferred ultraviolet absorbers include nitrogen-containing compounds such as benzoic acid, stilbene compounds and derivatives thereof, triazole compounds, imidazole compounds, triazine compounds, coumarin compounds, oxadiazole compounds, thiazole compounds and derivatives thereof.

感光体の構成層に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ヒニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キンド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビリニデン、ポ
リスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合
型樹脂並びにこれらの繰返し単位のうち２つ以上を含む
共重合体樹脂、塩化ヒニルー酢酸ビニル共重合体樹脂等
の絶縁性樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂等、更に
はＮ−ヒニルカンバゾール等の高分子有機半導体、変性
ンリコーン樹脂等を挙げることができる。Examples of binder resins that can be used in the constituent layers of the photoreceptor include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, alkynd resin, polycarbonate resin, and melamine resin. , methacrylic resin, acrylic resin, addition polymerization type resin such as polyvinidene chloride, polystyrene, polyaddition type resin, polycondensation type resin, copolymer resin containing two or more of these repeating units, hinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, etc. Examples include insulating resins such as polymer resins, styrene-butadiene copolymer resins, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resins, and polymeric organic semiconductors such as N-hinylcambazole, modified lincone resins, etc. can.

上記のバインダは、単独であるいは２種以上の混合物と
して用いることができる。The above binders can be used alone or as a mixture of two or more.

必要に応じて設けられる保護層のバインダとしては、体
積抵抗１０’Ω・ｃｍ以上、好ましくは１０Ｉ０Ω・ｃ
ｍ以上、より好ましくは１０１３Ω・ａｍ以上の透明樹
脂が用いられる。The binder for the protective layer provided as necessary has a volume resistivity of 10'Ω·cm or more, preferably 10I0Ω·c.
A transparent resin having a resistance of 10 13 Ω·am or more is used, more preferably 10 13 Ω·am or more.

又前記のバインダは熱により硬化する樹脂を用いてもよ
く、かかる熱により硬化する樹脂としては、例えば熱硬
化性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素
樹脂、ポリエステル樹脂、アルキンド樹脂、メラミン樹
脂、又はこれらの共重合若しくは縮合樹脂があり、その
他電子写真材料に供される熱硬化性樹脂の全てか利用さ
れる。Further, the binder may be a resin that is cured by heat, and examples of the resin that is cured by heat include thermosetting acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, urea resin, polyester resin, alkynd resin, melamine resin, Alternatively, copolymerized or condensed resins thereof, and all other thermosetting resins used in electrophotographic materials may be used.

又、前記保護層中には加工性及び物性の改良（亀裂防止
、柔軟性付与等）を目的として必要により熱可塑性樹脂
を５（ｈｔ％未満含有せしめることかできる。かかる熱
可塑性樹脂としては、例えはポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ヒニル樹脂、エポキシ樹脂
、ポリカーボネート樹脂又はこれらの共重合体樹脂、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子を機半導体、そ
の他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全てが利用
される。Further, the protective layer may contain a thermoplastic resin of less than 5 (ht%) if necessary for the purpose of improving processability and physical properties (preventing cracks, imparting flexibility, etc.). Such thermoplastic resin includes: For example, heat applied to polymers such as polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, polycarbonate resin or their copolymer resins, poly-N-vinylcarbazole, semiconductors, and other electrophotographic materials All plastic resins are utilized.

ＣＧＬは、次のような方法によって設けることができる
。CGL can be provided by the following method.

（イ）ＣＧＭ等にバインダ、溶媒を加えて混合溶解した
溶液を塗布する方法。(a) A method in which a binder and a solvent are added to CGM, etc., and a mixed solution is applied.

（ロ）ＣＧＭ等をボールミル、ホモミキサ、サンドミル
、超音波分散機、アトライタ等によって分散媒中で微細
粒子とし、バインダを加えて混合分散して得られる分散
液を塗布する方法。(b) A method in which CGM, etc. is made into fine particles in a dispersion medium using a ball mill, homomixer, sand mill, ultrasonic disperser, attritor, etc., and a binder is added, mixed and dispersed, and the resulting dispersion is applied.

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。Dispersing the particles under the action of ultrasound in these methods allows for homogeneous dispersion.

又、ＣＴＬは、既述のＣＴＭを単独であるいは既述した
バインダ樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾
燥して形成することができる。Further, the CTL can be formed by applying and drying the CTM described above alone or dissolved and dispersed together with the binder resin described above.

この場合、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有せしめる場合には、
上記（イ）の溶液、（ロ）の分散液中ド予めＣＴＭを溶
解又は分散せしめる方法、即ちＣＧＬ中にＣＴＭを添加
する方法がある。この場合は、ＣＴＭの添加量をバイン
ダ１００重量部に対してｌ−１００重量部の範囲内とす
るのが好ましい。In this case, when CTM is contained in CGL,
There is a method of previously dissolving or dispersing CTM in the solution of (a) or dispersion of (b), ie, a method of adding CTM to CGL. In this case, the amount of CTM added is preferably within the range of 1-100 parts by weight per 100 parts by weight of the binder.

又、ＣＴＭを含有する溶液をＣＧＬ上に塗布し、ＣＧＬ
を膨潤あるいは一部溶解せしめてＣＴＭをＣＧＬ内に拡
散せしめる方法がある。この方法を採用した場合には、
上述のようにＣＧＬ中にＣＴＭを添加しておく必要はな
いが、上述の二方法を同時に行うことも差し支えない。In addition, a solution containing CTM is applied onto the CGL, and the CGL
There is a method of diffusing CTM into CGL by swelling or partially dissolving CTM. If this method is adopted,
Although it is not necessary to add CTM to CGL as described above, it is also possible to carry out the two methods described above at the same time.

層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒としては、ブ
チルアミン、・ジエチルアミン、エチレンジアミン、イ
ンプロパツールアミン、トリエタノｆルアミン、トリエ
チレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセ
トン、メチルエチルケトン、ンクロヘキサノン、ベンゼ
ン、トルエン、キ／レン、クロロホルム、！、２−ジク
ロルエタン、・ンクロルメタン、テトラヒドロ７ラン、
７゛オキサン、メタノール、エタノール、インプロパツ
ール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルポキンド
等を挙げることかできる。Solvents or dispersion media used to form the layer include butylamine, diethylamine, ethylenediamine, impropaturamine, triethanolamine, triethylenediamine, N,N-dimethylformamide, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, benzene, toluene. , Ki/Len, Chloroform,! , 2-dichloroethane, chlormethane, tetrahydro7ran,
Examples include 7'oxane, methanol, ethanol, impropatol, ethyl acetate, butyl acetate, dimethyl holpoquine, and the like.

上記ＰＣＬ、ＵＣＬ、ＯＣＬ等は、例えはブレード塗布
、デイツプ塗布、スプレー塗布、ロール塗布、スパイラ
ル塗布等により設けることができる。The above-mentioned PCL, UCL, OCL, etc. can be provided by, for example, blade coating, dip coating, spray coating, roll coating, spiral coating, etc.

なお、導電性支持体は金属板、金属ドラム又は導電性ポ
リマー、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアル
ミニウム、パラジウム、金等の金属より成る導電性薄層
を塗布、蒸着、ラミ坏−ト等の手段により、紙、プラス
チックフィルム等の基体に設けて成るものか用いられる
。The conductive support may be a metal plate, a metal drum, or a conductive thin layer made of a conductive polymer, a conductive compound such as indium oxide, or a metal such as aluminum, palladium, or gold, by coating, vapor deposition, lamination, etc. Depending on the means used, it may be provided on a substrate such as paper or plastic film.

次に、本発明の感光体を用いる記録装置の一例を第５Ｕ
ｇＪに示す。Next, an example of a recording device using the photoreceptor of the present invention will be described in the 5th U.
Shown in gJ.

第６図は電子写真法における反転現像法のフロ゛　　　
−チセートである。Figure 6 shows the flow of reversal development in electrophotography.
-It is tisate.

第５図の装置において、２３は上述した有機光導電性物
質のＰＣｌ３とＵＣＬ　７を有し、矢印方向に回転する
ドラム状の像担持体、２２は像担持体、２３の表面を一
様帯電する帯電器、２４は像露光、１５は現像器である
。In the apparatus shown in FIG. 5, 23 is a drum-shaped image carrier that includes the above-mentioned organic photoconductive substances PCl3 and UCL 7 and rotates in the direction of the arrow; 22 is an image carrier; the surface of 23 is uniformly charged; 24 is an image exposure device, and 15 is a developing device.

２０は像担持体２３上にトナー像が形成された画像を記
録体Ｐに転写し易くするために必要に応じて設けられる
転写前露光ランプ、２１は転写器、　１９は分離用コロ
ナ放電器、Ｉ２は記録体Ｐに転写されたトナー像を定着
させる定着器である。20 is a pre-transfer exposure lamp provided as necessary to facilitate the transfer of the toner image formed on the image carrier 23 onto the recording medium P; 21 is a transfer device; 19 is a separation corona discharger; I2 is a fixing device that fixes the toner image transferred to the recording medium P.

１３は除電ランプと除電用コロナ放電器の一方又は両者
の組合せからなる除電器、１４は像担持体２３の画像を
転写した後の表面の残留トナーを除去するためのクリー
ニングブレードやファーブラシを有するクリーニング装
置である。Reference numeral 13 has a static eliminator consisting of one or a combination of a static eliminator lamp and a corona discharger for static elimination, and 14 has a cleaning blade or a fur brush for removing residual toner on the surface of the image carrier 23 after the image has been transferred. It is a cleaning device.

像露光を半導体レーザで行う場合、第２図の記録装置の
ようにドラム状の像担持体２３を用いるものにあっては
、像露光２４は、レーザビームスキャナによるものが好
ましい。When the image exposure is performed using a semiconductor laser, it is preferable that the image exposure 24 be performed using a laser beam scanner in a recording apparatus that uses a drum-shaped image carrier 23 like the recording apparatus shown in FIG.

又、像担持体かヘルド状のように平面状態をとり得る記
録装置にあっては、像露光を７ラノンユ露光とすること
もできる。In addition, in a recording apparatus in which the image carrier can take a flat state such as a heald, the image exposure can be made into 7-Ranon unit exposure.

以上のような記録装置によって、第６図に示したような
方法を実施することかできる。The method shown in FIG. 6 can be implemented using the recording apparatus as described above.

第６図は、像露光部か背景部よりも低電位の静を像とな
る静電像形成法によって静電像か形成され、現像が静電
後に背景部電位と同極性に帯電するトナーが付着するこ
とによって行われる、反転現像の例を示している。Figure 6 shows that an electrostatic image is formed by an electrostatic image forming method in which an image is formed of a static image at a lower potential than the background area in the image exposure area, and after development is electrostatically charged, toner is charged to the same polarity as the background area potential. An example of reversal development performed by adhesion is shown.

即ち、最初に、除電器１３で除電され、クリーニング装
置１４でクリーニングされて、電位が０となっている初
期状態の像担持体２３の表面に、帯電器２２によって一
様に帯電を施し、その帯電面に像露光２４を投影して静
電像部の電位が略０となる像露光を行い、得られた静電
像を現像器１５（トナーＴ）によって現像する。That is, first, the surface of the image carrier 23 in the initial state, which has been neutralized by the static eliminator 13 and cleaned by the cleaning device 14 and has a potential of 0, is uniformly charged by the charger 22. Image exposure 24 is projected onto the charged surface to perform image exposure such that the potential of the electrostatic image portion becomes approximately 0, and the obtained electrostatic image is developed by a developer 15 (toner T).

なお、この画像形成方法は、ハロゲンランプ、タングス
テンランプ、ＬＥＤ　（発光ダイオード）、ヘリウムー
イ・オン、アルゴン、ヘリウムーカドミウム等の気体レ
ーザ、半導体レーザ等の各種光源に対し適用できる。Note that this image forming method can be applied to various light sources such as a halogen lamp, a tungsten lamp, an LED (light emitting diode), a gas laser such as helium-ion, argon, helium-cadmium, etc., and a semiconductor laser.

本発明の画像形成方法は、電子写真複写機、プリンタ等
の多種多様の用途を何するものである。The image forming method of the present invention can be used in a wide variety of applications such as electrophotographic copying machines and printers.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例について更に詳細に説明するか、
これにより本発明は限定されるものではなく、種々の変
形した他の実施例も勿論含むものである。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, or
The present invention is not limited thereby, and of course includes other embodiments with various modifications.

まず、表１に記したように、ＵＣＬＮｏ、ＵＣＬ−ＩＡ
〜８Ａの計８個の塗布液を調製し、各々０．６μｍのフ
ィルタに濾過し、ＵＣＬ用塗布液とした。First, as shown in Table 1, UCL No., UCL-IA
A total of 8 coating solutions of ~8A were prepared and each was filtered through a 0.6 μm filter to obtain a UCL coating solution.

これらＵＣＬ塗布液にアルミニウムドラム（コニカＬＰ
−３０１０レーザプリンタ用）を浸漬し、４ｍｇ／ｄｍ
２になるように引き上げ速度を調節し、ＵＣＬを形成し
た。These UCL coating liquids were applied to an aluminum drum (Konica LP).
-3010 for laser printer), 4mg/dm
The pulling speed was adjusted to 2 to form a UCL.

ＵＣＬ−ＩＡ−ＵＣＬ−３Ａは通常のアクリルアクリレ
ート樹脂でありブランクである。UCL-IA-UCL-3A is a normal acrylic acrylate resin and is a blank.

ＵＣＬ−４Ａ−ＵＣＬ−６Ａについては、浸漬塗布後、
ドラムをゆっくり回転させなから８０Ｗ／ｃｍ出力の集
光型中圧水銀灯に約５０ｃｍの距離から紫外線照射を６
０秒間行ない、付量４　ｍｇ／ｄｍ２になるようＵＣＬ
を形成せしめた。For UCL-4A-UCL-6A, after dip coating,
While rotating the drum slowly, apply ultraviolet rays from a distance of about 50 cm using a concentrating medium pressure mercury lamp with an output of 80 W/cm.
Perform for 0 seconds and apply UCL so that the coating amount is 4 mg/dm2.
was formed.

ＵＣＬ−７Ａ−ＤＣＬ−８Ａ１ｍ−）いて１４、浸漬塗
布後、ドラムを回転させながら、加速電圧３００ＫＶ、
ヒーム電流１０−１５ｍＡノＥＳＩ　（ｆＪ−テンタイ
プ方式）の電子線加速器を用いて吸収線量が３〜ｌ。UCL-7A-DCL-8A1m-) 14, After dip coating, while rotating the drum, apply an accelerating voltage of 300 KV,
Using an electron beam accelerator with a heap current of 10-15 mA and ESI (fJ-Ten type system), the absorbed dose is 3-1.

Ｍｒａｄの範囲で電子線照射を行ない、４　ｍｇ／ｄｍ
２になるようＵＣＬを形成せしめた。Perform electron beam irradiation in the range of Mrad, 4 mg/dm
The UCL was formed to become 2.

これらＵＣＬ塗布済みドラムは各々２本塗布し、１本は
次のＣＧＬ重層塗布を行い、他の１本は、後述する接着
性テスト（基盤目テスト）及び耐溶表１ 次に表２に示す各ｃＧＭ４０ｇを各バインダ４０ｇと各
溶媒２００ｍ１のポリャー溶液に加えて、サンドグライ
ンダにて１２時間分散させ、ＣＧＬ用分数分散液製した
。Two UCL-coated drums were each coated, one was coated with the next CGL multilayer coating, and the other was used for the adhesion test (baseline test) and melt resistance table 1 shown in Table 2 below. 40 g of cGM was added to a Polya solution containing 40 g of each binder and 200 ml of each solvent, and dispersed for 12 hours using a sand grinder to prepare a fractional dispersion for CGL.

この分散液に上記ＵＣＬを有するシリンダを浸漬し、Ｃ
ＧＬ付量５Ｂ／ｄｍ”になるよう塗布速度を調節して塗
布した。The cylinder having the above UCL is immersed in this dispersion, and C
The coating speed was adjusted so that the GL coating amount was 5 B/dm''.

表　　２ 更に表３に示したＣ　Ｔ　Ｍ　２００ｇと表３に記載の
樹脂４５０ｇとを１．２−ジクロルエタン１５００ｍ　
ｌ　に溶解し、得られた溶液に、前記ＣＧＬまで塗布し
た各々のドラムを浸漬し、２００μｍの膜厚になるよう
塗布速度を調節して塗布し、１００°Ｃで１時間乾燥し
てＣＴＬを形成せしめ、積層型感光体を作成した。Table 2 Furthermore, 200 g of CTM shown in Table 3 and 450 g of the resin shown in Table 3 were added to 1500 m of 1,2-dichloroethane.
Each drum coated up to the CGL was immersed in the resulting solution, the coating speed was adjusted to give a film thickness of 200 μm, and the CTL was dried at 100°C for 1 hour. A laminated photoreceptor was produced.

以下余１） 表　　３ 最終的な感光体の積層形態は表４に記載し、併せて、下
記に述べる。1) Table 3 The final laminated form of the photoreceptor is shown in Table 4, and will also be described below.

測定法により、測定した電子写真特性及び、物性も一緒
に示した。The electrophotographic properties and physical properties measured by the measurement method are also shown.

〔特性評価〕[Characteristics evaluation]

実施例及び比較例の各感光体のそれぞれをｒＬＰ−３０
１０Ｊ　　（コニカ社製）改造機（半導体レーザ光ｓｇ
載）にｇ載し、ｖ＋ｔカー６００±ｌＯ（Ｖ）　ｌ：な
るようにグリッド電圧を調節し、０．７ｍＷの照射時の
露光面の電位をｖＬとし、現像バイアス−５００（Ｖ　
）で反転現像を行い、画像の白地部分の黒ぼちを評価し
た。Each of the photoconductors of Examples and Comparative Examples was rLP-30.
10J (manufactured by Konica) modified machine (semiconductor laser beam sg
The grid voltage was adjusted so that the v + t car was 600 ± lO (V) l:, the potential of the exposed surface at the time of 0.7 mW irradiation was set to vL, and the developing bias was -500 (V).
), and the black spots on the white background of the image were evaluated.

又、５０００回のプリントを行い、５０００回のプリン
ト後ノＶ　Ｍ、　Ｖ　Ｌをｙ　、　Ｓ　６０６、ｙ、５
ＯＯｏとした。Also, print 5000 times, and after 5000 times, set VM, VL to y, S 606, y, 5
It was OOo.

そして、初期からのＶ　ｔｉ、　Ｖ　Ｌの変位量をそれ
ぞれΔＶ工５°００、ΔｙＬｓＱＯＯとした。Then, the displacement amounts of V ti and V L from the initial stage were set as ΔV engineering 5°00 and ΔyLsQOO, respectively.

従ッテ、Ａ　Ｖ　Ｍ”００＝　（ｖ　Ｍ”００＋　６０
０）、ＡＶＬ””−（ｖＬｓ００’−ｖＬ）　−ｃｈル
。Follow, A V M"00= (v M"00+ 60
0), AVL""-(vLs00'-vL) -ch le.

なお、黒ぼち（黒斑点）の評価は、画像解析装置「オム
ニコン３０００形」　（高滓製作所社製）を用いて黒ぼ
ちの粒径と個数を測定し、−（径）　０．０５■以上の
黒ぼちがｌ　ｃｍ’当たり何個あるかにより判定した。For evaluation of black spots, the particle size and number of black spots were measured using an image analysis device "Omnicon 3000" (manufactured by Takasu Seisakusho Co., Ltd.), and - (diameter) 0.05■ Judgment was made based on the number of the above black spots per cm'.

黒ぼち評価の判定基準は、下記衣に示す通りである。The criteria for evaluating Kurobochi are as shown below.

なお、黒斑点判定の結果が◎、○であれば実用になるが
、△は実用に適さないことがあり、Ｘである場合は実用
に適さない。Note that if the result of black spot determination is ◎ or ○, it is practical, but if it is Δ, it may not be suitable for practical use, and if it is X, it is not suitable for practical use.

又、ＵＣＬの耐溶剤性をみるために、ＵＣＬの塗布、乾
燥後に、３０秒間、メチルエチルケトンに浸漬し、この
後に電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察を行った。浸漬面のＵＣ
Ｌが均質に残っているものを◎、不均質若しくは溶解や
剥がれのあるものを△又は×で示した。In addition, in order to examine the solvent resistance of UCL, after coating and drying UCL, it was immersed in methyl ethyl ketone for 30 seconds, and then observed using an electron microscope (SEM). UC of immersion surface
Those where L remains homogeneous are indicated by ◎, and those which are heterogeneous or have dissolution or peeling are indicated by △ or ×.

ＵＣＬとＰＣＬの接着性については、基盤目試験により
評価した。すなわち、隣り合う隙間どうしの間隔が１ｍ
ｍのカッタガイドを用い、カッタで導電性支持体まで縦
横に１１本平行に傷をつけ、１００個のます目（基盤目
）を形成する。その上に幅２４ｍｍのセロテープをはり
つけた後、一端から引剥がす。その時に剥離したます目
の数をかぞえて、１００個中で残ったます目の数で表示
した。゛接着性の目安として１００／　１００であれば
接着性良好、　０／１００であれば不良とみなす。The adhesion between UCL and PCL was evaluated by a substrate test. In other words, the distance between adjacent gaps is 1m.
Using a cutter guide of size m, make 11 parallel scratches in the vertical and horizontal directions with a cutter to form 100 squares (base squares). After attaching cellophane tape with a width of 24 mm on top of it, peel it off from one end. The number of squares that peeled off at that time was counted and expressed as the number of squares remaining out of 100.゛As a guideline for adhesion, 100/100 is considered good adhesion, and 0/100 is considered poor.

表４に示す結果によれば、本発明による樹脂を用いれば
、繰返し使用時に、帯電能、感度を良好に維持でき、か
つ黒斑点のない良好な画像、又、接着性の優れた感光体
を提供できることがわかる。According to the results shown in Table 4, by using the resin of the present invention, it is possible to maintain good charging ability and sensitivity during repeated use, and to produce good images without black spots, as well as to produce a photoreceptor with excellent adhesion. I know that I can provide it.

逆に比較用のバインダ樹脂を用いた場合、ＣＧＬ液塗布
後、ＵＣＬの一部が溶解するため、重層塗工性が悪く、
又、黒斑点も多く発生した。On the other hand, when a comparative binder resin was used, part of the UCL dissolved after the CGL solution was applied, resulting in poor multilayer coating properties.
In addition, many black spots also occurred.

次に、Ｄ　Ｃ−８０１０（コニカ社製）用のドラムサイ
ズで前述した実施例と同様の各感光体を作成した。そし
て、これらの各感光体についてＤＣ−８０１０で下記に
示す各現像条件で画像出しを行ったところ、各現像条件
について、いずれの感光体を用いた場合も、黒斑点のな
い良好な画像が得られた。Next, photoreceptors similar to those in the above-mentioned example were prepared with a drum size for DC-8010 (manufactured by Konica). When images were produced on each of these photoreceptors using the DC-8010 under the following development conditions, good images without black spots were obtained under each development condition, regardless of which photoreceptor was used. It was done.

現像は、いわゆる２成分非接触ジャンピング現像を行っ
た。The development was carried out by so-called two-component non-contact jumping development.

現像条件 平均粒径０．１μｍのマグネタイト粉末７０ｗｔ％、バ
インダ樹脂としてポリエステル樹脂３０ｗｔ％を配合、
混練し、破砕造粒して後粒径２０〜３０μｍに分級して
キャリアとした。このキャリアの比重は約３．５以下で
あった。このキャリアに、Ｕ−Ｂｉｘ１８００　（コニ
カ社製）複写機用トナー（ポリエステル樹脂にカーボン
を含有させたトナー）をトナー濃度が２０ｗ【％になる
ように配合し、次の条件下で複写を行った。Development conditions: 70 wt% magnetite powder with an average particle size of 0.1 μm, 30 wt% polyester resin as a binder resin,
The mixture was kneaded, crushed and granulated, and then classified into particle sizes of 20 to 30 μm to obtain a carrier. The specific gravity of this carrier was about 3.5 or less. U-Bix 1800 (manufactured by Konica) copying machine toner (toner containing carbon in polyester resin) was blended with this carrier so that the toner concentration was 20 w%, and copies were made under the following conditions. .

像担持体の周速を６０ｍｍ／ｓｅｃ、像担持体と現像ス
リーブとの間隙を０．３ｍｍ１現像剤層厚を０．０５ｍ
ｍ。The peripheral speed of the image carrier was 60 mm/sec, the gap between the image carrier and the developing sleeve was 0.3 mm, and the developer layer thickness was 0.05 m.
m.

現像スリーブの直径を２４ｍｍ、その回転数を２’００
ｒｐｍとした。The diameter of the developing sleeve is 24 mm, and the rotation speed is 2'00.
rpm.

現像バイアス等については以下の３種類の条件とした。Regarding the developing bias and the like, the following three types of conditions were used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図〜第７図は実施例を説明するためのものであって
、第１図（Ａ）、第１図（Ｂ）はそれぞれハンドモデル
を用いてキャリアの移動を模式的に示す模式図、 第２図、第３図、第４図は本発明に使用する各感光体の
一部分の断面図、 第５図は像形成装置の概略図、 第６図は像形成の過程を示すフローチャート、第７図は
従来の感光体を示す一部断面図である。 第８図は従来の他の感光体の一部を拡大して示す断面図
である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・導電性基体 ４・・・・・・・・・キャリア輸送層（ＣＴＬ）６・・
・・・・・・・キャリア発生層（ＣＧＬ）７・・・・・
・・・・下引層（ＵＣＬ）８・・・・・・・・・感光層
（Ｐ　ＣＬ）である。1 to 7 are for explaining the embodiment, and FIG. 1(A) and FIG. 1(B) are schematic diagrams each schematically showing the movement of the carrier using a hand model. , FIG. 2, FIG. 3, and FIG. 4 are sectional views of a portion of each photoreceptor used in the present invention, FIG. 5 is a schematic diagram of an image forming apparatus, and FIG. 6 is a flow chart showing the process of image formation. FIG. 7 is a partial sectional view showing a conventional photoreceptor. FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a part of another conventional photoreceptor. In addition, in the symbols shown in the drawings, 1... Conductive substrate 4... Carrier transport layer (CTL) 6...
...Carrier generation layer (CGL) 7...
. . . Undercoat layer (UCL) 8 . . . Photosensitive layer (PCL).

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）導電性支持体上に少くとも下引層と感光層とが設
けられている感光体において、前記下引層をアクリルア
クリレート系放射線硬化型樹脂によって形成することを
特徴とする感光体。(1) A photoreceptor comprising at least a subbing layer and a photosensitive layer provided on a conductive support, wherein the subbing layer is formed of an acrylic acrylate radiation-curable resin. （２）前記アクリルアクリレート系放射線硬化型樹脂が
放射線感応性不飽和二重結合のアクリロイル基、メタア
クリロイル基の中から選ばれる少なくとも一種を末端及
び／又は側鎖に有する請求項１に記載の感光体。(2) The photosensitive material according to claim 1, wherein the acrylic acrylate radiation-curable resin has at least one type of radiation-sensitive unsaturated double bond selected from acryloyl groups and methacryloyl groups at the terminal and/or side chain. body.