JPH04165097A - アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過剰研磨防止方法 - Google Patents
アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過剰研磨防止方法Info
- Publication number
- JPH04165097A JPH04165097A JP28589690A JP28589690A JPH04165097A JP H04165097 A JPH04165097 A JP H04165097A JP 28589690 A JP28589690 A JP 28589690A JP 28589690 A JP28589690 A JP 28589690A JP H04165097 A JPH04165097 A JP H04165097A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical polishing
- tank
- fine
- water droplets
- treated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title abstract 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract 3
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 abstract 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の
過剰研磨防止方法に関するものである。
過剰研磨防止方法に関するものである。
従来の技術
通常アルマイト製品の光沢性を必要とする場合、陽極酸
化前の工程において被処理体を１００℃程度の高温のり
ん酸に短時間浸漬する処理を行う。
化前の工程において被処理体を１００℃程度の高温のり
ん酸に短時間浸漬する処理を行う。
これを化学研磨処理と称する。
しかし前記の処理を従来の技術に従って行った場合には
次の問題が起こる。すなわち、化学研磨浴から被処理体
を取出し、次の水洗工程に行くまでの短時間に、しばし
ば被処理体に付着したりん酸により過剰研磨されたり、
またはまだらに研磨されたりして製品の不良化の一因と
なっていた。
次の問題が起こる。すなわち、化学研磨浴から被処理体
を取出し、次の水洗工程に行くまでの短時間に、しばし
ば被処理体に付着したりん酸により過剰研磨されたり、
またはまだらに研磨されたりして製品の不良化の一因と
なっていた。
アルマイト自動化工装置で前記工程を行う場合に前記問
題がよく発注するので、化学研磨槽より被処理体が次の
水洗工程に行く途中で、たとえば水洗シャワーを行う等
の工夫がなされているが、従来は、確実に効果的な過剰
研磨防止法はなかった。
題がよく発注するので、化学研磨槽より被処理体が次の
水洗工程に行く途中で、たとえば水洗シャワーを行う等
の工夫がなされているが、従来は、確実に効果的な過剰
研磨防止法はなかった。
前記の欠点の解消のために本発明者は種々研究を行い、
その結果、今までの欠点を一挙に解消した全く新しい画
期的な過剰研磨防止方法の開発に成功した。
その結果、今までの欠点を一挙に解消した全く新しい画
期的な過剰研磨防止方法の開発に成功した。
発明の構成
本発明は、アル上イト製造工程において、化学研磨槽よ
り被処理体を次の工程に移行のために化学研磨槽から引
き上げる際に、化学研磨槽上またはその近傍の適当な場
所に設置された超音波発信器を備えた水槽からなる微細
水滴噴霧装置から微過剰研磨防止方法に関するものであ
る。
り被処理体を次の工程に移行のために化学研磨槽から引
き上げる際に、化学研磨槽上またはその近傍の適当な場
所に設置された超音波発信器を備えた水槽からなる微細
水滴噴霧装置から微過剰研磨防止方法に関するものであ
る。
前記の噴霧操作によって、微細な蒸気状の水滴が多量に
被処理体のあらゆる個所にまんべんなく接触付着し、高
温で処理された被処理体を冷却すると同時に、被処理体
に付着したりん酸を希釈し、過剰の研磨や研磨液のダレ
によるまだらな研磨を防ぐことができる。
被処理体のあらゆる個所にまんべんなく接触付着し、高
温で処理された被処理体を冷却すると同時に、被処理体
に付着したりん酸を希釈し、過剰の研磨や研磨液のダレ
によるまだらな研磨を防ぐことができる。
本発明方法を実施した場合には、今まで発生していたま
だらな研磨状態や過剰研磨による製品不良は全くない。
だらな研磨状態や過剰研磨による製品不良は全くない。
化学研磨工程を入れた処理装置の自動化は今まで困難と
いわれていたが、本発明により、連続自動化によっても
均質なアルマイト製品の製造が可能になった。
いわれていたが、本発明により、連続自動化によっても
均質なアルマイト製品の製造が可能になった。
なお、微細水滴発生器置は、好ましくは化学研磨槽の両
サイドに設置するのであるが、その効率を一層よくする
ためには、化学研磨槽をたとえば軟質ビニルシートで上
部より四面を囲うのが一般に好ましいであろう。
サイドに設置するのであるが、その効率を一層よくする
ためには、化学研磨槽をたとえば軟質ビニルシートで上
部より四面を囲うのが一般に好ましいであろう。
好ましい実施態様の記述
本発明の一実施例について添付図面参照下に詳細に説明
する。第１図は、本発明に使用される装置の一例の略式
斜視図であり、第２図はその断面図である。
する。第１図は、本発明に使用される装置の一例の略式
斜視図であり、第２図はその断面図である。
が、本発明によれば、酸槽（１）の上部の両サイドに水
槽（２）、 （３）を取り付ける。水槽（２）。
槽（２）、 （３）を取り付ける。水槽（２）。
（３）にそれぞれ超音波発信器（４）、（ＹＳを設置す
る。さらに、圧縮空気取入口（６）、（７）を設ける。
る。さらに、圧縮空気取入口（６）、（７）を設ける。
水槽（２）、 （３）の各々の内側の側部に、横向き
噴霧口（８）、 （９）および斜上向き噴霧口（１０
） 、 （１））を設け、微細水滴が、ｌ化学研磨槽
（１）から引上げ中の被処理体（１４）のあらゆる個所
に士んべんなくかかるようにする。
噴霧口（８）、 （９）および斜上向き噴霧口（１０
） 、 （１））を設け、微細水滴が、ｌ化学研磨槽
（１）から引上げ中の被処理体（１４）のあらゆる個所
に士んべんなくかかるようにする。
超音波発信器（４）、 （５）を備えた水槽（２）。
（３）は微細水滴噴霧装置として使用されるものであっ
て、その基本的構造はいわゆる加湿器のごとき周知の微
細水滴発生器の構造と実質的に同じであるから、その詳
細な説明は省略する。しかしながら、本発明では噴霧方
向を前記のごとく調節することが重要である。
て、その基本的構造はいわゆる加湿器のごとき周知の微
細水滴発生器の構造と実質的に同じであるから、その詳
細な説明は省略する。しかしながら、本発明では噴霧方
向を前記のごとく調節することが重要である。
さらに、水槽（２）、 （３）には常法に従って水取
入口（１６） 、 （１７）およびドレン抜き口（１
８）を設ける。なお、化学研磨槽（１）から引上げ中の
被処理体（１４）に微細水滴（１３）を噴霧する際には
、噴霧区域を、覆い材たとえば軟質ビニルシートで覆い
、これによって、被処理体が充分な量の微細水滴で確実
に包囲されるようにするのが有利である。
入口（１６） 、 （１７）およびドレン抜き口（１
８）を設ける。なお、化学研磨槽（１）から引上げ中の
被処理体（１４）に微細水滴（１３）を噴霧する際には
、噴霧区域を、覆い材たとえば軟質ビニルシートで覆い
、これによって、被処理体が充分な量の微細水滴で確実
に包囲されるようにするのが有利である。
微細水滴の噴霧量、噴霧時間等の諸条件は個々の場合に
よって種々異なるであろうが、これらの条件は簡単な予
備実験によって容易に決定できる。
よって種々異なるであろうが、これらの条件は簡単な予
備実験によって容易に決定できる。
実施例
１、化学研磨処理路の液組成
りん酸 ９８％
硝酸 ２％
２、温度 ９８−１００℃
３、処理時間 ４５秒４、処理
対象の材質 （ｉ）１）００（ｉｉ）２０２４ 実験１ （比較実験） 化学研磨処理後、従来の技術に従って空気中に６０秒さ
らして放置し、次いで通常のアルマイト処理（１０μｍ
）を行った。しかしいずれの材質も、材質表面に光沢の
バラツキが多く、また表面の平滑性も悪く、不所望の空
気中研磨が進行したことが明白であった。
対象の材質 （ｉ）１）００（ｉｉ）２０２４ 実験１ （比較実験） 化学研磨処理後、従来の技術に従って空気中に６０秒さ
らして放置し、次いで通常のアルマイト処理（１０μｍ
）を行った。しかしいずれの材質も、材質表面に光沢の
バラツキが多く、また表面の平滑性も悪く、不所望の空
気中研磨が進行したことが明白であった。
実験２（本発明）
化学研磨処理後、該研磨浴から被処理体を出すと同時に
、超音波発信器を備えた水槽からなる微細水滴噴霧装置
から噴霧された微細水滴を充満した空中に６０秒または
１００秒間さらして放置し、次いで通常のアルマイト処
理（１０μｍ）を行った。結果はいずれも良好であって
、均一な光沢であり、表面もきれいな滑らかさであった
。このように、超微細水滴が充満した中では、被処理体
があたかも水中にあるがごとく過剰化学研磨の進行を確
実に抑制することができた。
、超音波発信器を備えた水槽からなる微細水滴噴霧装置
から噴霧された微細水滴を充満した空中に６０秒または
１００秒間さらして放置し、次いで通常のアルマイト処
理（１０μｍ）を行った。結果はいずれも良好であって
、均一な光沢であり、表面もきれいな滑らかさであった
。このように、超微細水滴が充満した中では、被処理体
があたかも水中にあるがごとく過剰化学研磨の進行を確
実に抑制することができた。
第１図は、本発明に従って使用される微細水滴噴霧装置
を備えた化学研磨槽の一例の略式斜視図である。 第２図は、第１図記載の化学研磨槽の略式断面図である
。 ｌ・・・化学研磨槽；２，３・・・水槽；４，５・・・
超音波発信器；６，７・・・圧縮空気取入口；８，９・
・・横向き噴霧０．１０．１）・・・噴霧口；１２・・
・水；１３・・・水滴；１４・・・被処理体；１５・・
・化学研磨液；１６，１７・・・水取入口；１８・・・
ドレン抜き口；１９・・・軟質ビニルシート。
を備えた化学研磨槽の一例の略式斜視図である。 第２図は、第１図記載の化学研磨槽の略式断面図である
。 ｌ・・・化学研磨槽；２，３・・・水槽；４，５・・・
超音波発信器；６，７・・・圧縮空気取入口；８，９・
・・横向き噴霧０．１０．１）・・・噴霧口；１２・・
・水；１３・・・水滴；１４・・・被処理体；１５・・
・化学研磨液；１６，１７・・・水取入口；１８・・・
ドレン抜き口；１９・・・軟質ビニルシート。
Claims (3)
- （１）アルマイト製造工程において、化学研磨槽より被
処理体を次の工程に移行のために化学研磨槽から引き上
げる際に、化学研磨槽上またはその近傍の適当な場所に
設置された超音波発信器を備えた水槽からなる微細水滴
噴霧装置から微細な蒸気状水滴を被処理体に噴霧するこ
とを特徴とする、アルマイト製造工程中の化学研磨処理
の際の過剰研磨防止方法。 - （２）微細水滴噴霧装置の設置場所が化学研磨槽の両サ
イドである請求項１に記載のアルマイト製造工程中の化
学研磨処理の際の過剰研磨防止方法。 - （３）化学研磨槽を軟質ビニルシートのごとき覆い材で
上部より四面を囲って微細水滴噴霧操作を行う請求項１
に記載のアルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過
剰研磨防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28589690A JPH04165097A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過剰研磨防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28589690A JPH04165097A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過剰研磨防止方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04165097A true JPH04165097A (ja) | 1992-06-10 |
| JPH0518914B2 JPH0518914B2 (ja) | 1993-03-15 |
Family
ID=17697425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28589690A Granted JPH04165097A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過剰研磨防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04165097A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2313605A (en) * | 1996-06-01 | 1997-12-03 | Cope Chapman B | Application of ultrasonic wave energy to electrolytic cell to reduce fume emission |
| KR100951313B1 (ko) * | 2007-09-18 | 2010-04-05 | 삼성전기주식회사 | 도금용 바렐의 수막제거장치 |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP28589690A patent/JPH04165097A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2313605A (en) * | 1996-06-01 | 1997-12-03 | Cope Chapman B | Application of ultrasonic wave energy to electrolytic cell to reduce fume emission |
| KR100951313B1 (ko) * | 2007-09-18 | 2010-04-05 | 삼성전기주식회사 | 도금용 바렐의 수막제거장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0518914B2 (ja) | 1993-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62129846A (ja) | フオトレジストの塗布方法及び塗布装置 | |
| JPH05291228A (ja) | ウェーハ洗浄装置及び洗浄方法 | |
| US2390007A (en) | Apparatus for continuously hot dip coating of tin on coiled strip | |
| US2536186A (en) | Method of wiping liquid metal coatings | |
| JPH026582B2 (ja) | ||
| JPH04165097A (ja) | アルマイト製造工程中の化学研磨処理の際の過剰研磨防止方法 | |
| KR101916442B1 (ko) | 색상패드 제조공정 | |
| US2203606A (en) | Apparatus for coating metal strips | |
| JP2006332481A (ja) | エッチング処理方法及びエッチング装置 | |
| JPH0237720A (ja) | 薄膜の湿式エッチング装置 | |
| US2601863A (en) | Method of cleaning hot-dip tin-plate | |
| JPS62297495A (ja) | 半導体ウエハ−のメツキ方法 | |
| US1750270A (en) | Coated iron and steel articles and method of making the same | |
| US3145119A (en) | Float casting | |
| JPH06128774A (ja) | 酸洗設備及び酸洗処理方法 | |
| JP7452945B2 (ja) | 化成処理めっき鋼板の製造方法及び製造設備 | |
| JP2782103B2 (ja) | 溶融塩脱スケール装置 | |
| JPH05271893A (ja) | 溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法と製造装置 | |
| US1899485A (en) | Method of and means for treating glass articles | |
| JPS57171695A (en) | Washing method of anode oxide film | |
| JPS62297493A (ja) | 半導体ウェハー用メッキ装置 | |
| JPS5829173Y2 (ja) | 鋼帯又は金属メツキされた鋼帯表面に化成処理液をコ−テングする装置 | |
| JPS63174324A (ja) | 半導体ウエハ−の化学処理方法 | |
| JPH0442530A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPS6335748A (ja) | 鋼帯コイルのタイト焼鈍方法及びその装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |