JPH0413867A - スパッタ装置 - Google Patents
スパッタ装置Info
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- JPH0413867A JPH0413867A JP11181090A JP11181090A JPH0413867A JP H0413867 A JPH0413867 A JP H0413867A JP 11181090 A JP11181090 A JP 11181090A JP 11181090 A JP11181090 A JP 11181090A JP H0413867 A JPH0413867 A JP H0413867A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はスパッタ装置に関するものである。
ガラス基板等の基板面にＩＴＯ等の透明導電膜やクロム
等の金属膜をスパッタリング法により成膜するスパッタ
装置は、第６図に示すような構成となっている。
等の金属膜をスパッタリング法により成膜するスパッタ
装置は、第６図に示すような構成となっている。
第６図において、１は真空なスパッタ室であり、ガラス
基板等の被成膜基板Ａは、基板装入室２において図示し
ない基板キャリアにセットされた後、この基板キャリア
により基板装入室２からスパッタ室１に搬入され、スパ
ッタリング室１内を搬送移動されながらスパッタリング
により成膜された後に、スパッタ室１から基板取出室３
に搬出されて基板キャリアから取出される。なお、スパ
ッタ室１と基板装入室２との間、およびスパッタ室１と
基板取出室３との間にはそれぞれ気密扉が設けられてお
り、スパッタ室１への被成膜基板Ａの搬入は、基板装入
室２内を真空とした後に気密扉を開いて行なわれ、また
スパッタ室１からの成膜後の基板Ａの搬出は、基板取出
室３内を真空とした後に気密扉を開いて行なわれる。
基板等の被成膜基板Ａは、基板装入室２において図示し
ない基板キャリアにセットされた後、この基板キャリア
により基板装入室２からスパッタ室１に搬入され、スパ
ッタリング室１内を搬送移動されながらスパッタリング
により成膜された後に、スパッタ室１から基板取出室３
に搬出されて基板キャリアから取出される。なお、スパ
ッタ室１と基板装入室２との間、およびスパッタ室１と
基板取出室３との間にはそれぞれ気密扉が設けられてお
り、スパッタ室１への被成膜基板Ａの搬入は、基板装入
室２内を真空とした後に気密扉を開いて行なわれ、また
スパッタ室１からの成膜後の基板Ａの搬出は、基板取出
室３内を真空とした後に気密扉を開いて行なわれる。
上記スパッタ室１内には、このスパッタ室１内に搬入さ
れた被成膜基板Ａを加熱するヒータ４が設けられており
、このヒータ４の後方（基板Ａの移動方向前方）には成
膜部が構成されている。この成膜部は、スパッタ室１内
を移動する被成膜基板Ａの被成膜面に対向するターゲッ
ト５と、このターゲット５の背後に配置されたプラズマ
を封じ込めるだめの磁界を発生する磁石（永久磁石）６
と、このターゲット５に対向させて配置された導電性金
属板からなる枠板状のアノード７とからなっている。
れた被成膜基板Ａを加熱するヒータ４が設けられており
、このヒータ４の後方（基板Ａの移動方向前方）には成
膜部が構成されている。この成膜部は、スパッタ室１内
を移動する被成膜基板Ａの被成膜面に対向するターゲッ
ト５と、このターゲット５の背後に配置されたプラズマ
を封じ込めるだめの磁界を発生する磁石（永久磁石）６
と、このターゲット５に対向させて配置された導電性金
属板からなる枠板状のアノード７とからなっている。
このスパッタ装置は、スパッタ室１内にアルゴンガス（
Ａｒ ）と酸素ガス（０２）とをスパッタガスとして導
入し、このスパッタガス雰囲気中でスパッタリングを行
なって基板Ａの被成膜面に成膜するもので、スパッタ室
１内に搬入された基板Ａは、基板キャリアで搬送移動さ
れながら、まずヒータ４の前を通過する過程で所定温度
（スパッタリングによる成膜が可能な温度）に加熱され
、この後成膜部を通過しながらスパッタリングにより成
膜される。このスパッタリングは、ターゲット５側をカ
ソード電極とし、このカソード電極とアノード７との間
に放電電流を流して行なわれるもので、放電電流を流す
ことによって発生したプラズマは、磁石６の磁界中に封
じ込められる。そして、磁石６の磁界中に封じ込められ
ているプラズマによってターゲット５からスパッタされ
たスパッタ粒子は、基板Ａ方向へ飛び出し、アノード７
の開口を通って基板Ａ面に被着堆積する。
Ａｒ ）と酸素ガス（０２）とをスパッタガスとして導
入し、このスパッタガス雰囲気中でスパッタリングを行
なって基板Ａの被成膜面に成膜するもので、スパッタ室
１内に搬入された基板Ａは、基板キャリアで搬送移動さ
れながら、まずヒータ４の前を通過する過程で所定温度
（スパッタリングによる成膜が可能な温度）に加熱され
、この後成膜部を通過しながらスパッタリングにより成
膜される。このスパッタリングは、ターゲット５側をカ
ソード電極とし、このカソード電極とアノード７との間
に放電電流を流して行なわれるもので、放電電流を流す
ことによって発生したプラズマは、磁石６の磁界中に封
じ込められる。そして、磁石６の磁界中に封じ込められ
ているプラズマによってターゲット５からスパッタされ
たスパッタ粒子は、基板Ａ方向へ飛び出し、アノード７
の開口を通って基板Ａ面に被着堆積する。
なお、第６図に示したスパッタ装置は、基板キャリアに
２枚の被成膜基板Ａを背中合わせに保持させて、この２
枚の基板Ａに同時に成膜する両側スパッタ方式のもので
、前記ヒータ４と成膜部は、スパッタ室１の中央を搬送
移動される２枚の基板Ａにそれぞれ対向させてスパッタ
室１の両側に配置されている。
２枚の被成膜基板Ａを背中合わせに保持させて、この２
枚の基板Ａに同時に成膜する両側スパッタ方式のもので
、前記ヒータ４と成膜部は、スパッタ室１の中央を搬送
移動される２枚の基板Ａにそれぞれ対向させてスパッタ
室１の両側に配置されている。
ところで、上記スパッタ装置においては、スノくツタリ
ングの繰返しによりターゲット５が表面側から溶損して
行く。このターゲット５の溶損はエロージョンと呼ばれ
ており、このエロージョンは、磁石６のＳ極とＮ極との
中点に対応する領域に溝状に発生する。なお、前記磁石
６は、タープ・ソト５の長さ方向に沿うＳ極（またはＮ
極）の周囲に環状のＮ極（またはＳ極）を形成した構成
となっており、したがってターゲット５のエロージョン
５ａは、第７図に鎖線で示したように環状に発生する。
ングの繰返しによりターゲット５が表面側から溶損して
行く。このターゲット５の溶損はエロージョンと呼ばれ
ており、このエロージョンは、磁石６のＳ極とＮ極との
中点に対応する領域に溝状に発生する。なお、前記磁石
６は、タープ・ソト５の長さ方向に沿うＳ極（またはＮ
極）の周囲に環状のＮ極（またはＳ極）を形成した構成
となっており、したがってターゲット５のエロージョン
５ａは、第７図に鎖線で示したように環状に発生する。
このため、従来のスパッタ装置では、第７図に示すよう
に、スパッタ室１の側壁に開口１０を設け、この開口を
密閉する開閉扉１１の内面にターゲット５を取付けてお
くことにより、ターゲット５が使用限界まで溶損したと
きに、前記開閉扉１１を開いてターゲット５を交換する
ようにしている。なお、上記開閉扉１１は鋼板製であり
、磁石６は開閉扉１１の外面に取付けられている。
に、スパッタ室１の側壁に開口１０を設け、この開口を
密閉する開閉扉１１の内面にターゲット５を取付けてお
くことにより、ターゲット５が使用限界まで溶損したと
きに、前記開閉扉１１を開いてターゲット５を交換する
ようにしている。なお、上記開閉扉１１は鋼板製であり
、磁石６は開閉扉１１の外面に取付けられている。
また、スパッタ装置においては、ターゲット５とアノー
ド７との位置関係、特にターゲット５に発生するエロー
ジョン５ａとアノード７の開口縁との位置関係が放電状
態に大きく影響し、二ローション５ａの外周縁に対する
アノード７の開口縁が全周にわたって一様でないと、放
電状態が不均一となる。そして、このような不均一放電
が繰返されると、ターゲット５のエロージョン５ａが放
電の強い箇所で速く進行するため、ターゲット５の使用
効率が低下する。
ド７との位置関係、特にターゲット５に発生するエロー
ジョン５ａとアノード７の開口縁との位置関係が放電状
態に大きく影響し、二ローション５ａの外周縁に対する
アノード７の開口縁が全周にわたって一様でないと、放
電状態が不均一となる。そして、このような不均一放電
が繰返されると、ターゲット５のエロージョン５ａが放
電の強い箇所で速く進行するため、ターゲット５の使用
効率が低下する。
したがって、上記スパッタ装置では、ターゲット５とア
ノード７との位置関係を、放電状態が均一になるように
調整することが必要であり、そのために従来のスパッタ
装置では、第７図に示すように、アノード７を、スパッ
タ室１内に設けたアノード支持部材８に位置調整可能に
支持させている。なお、９はアノード支持部材８とアノ
ード７との間に介在された絶縁碍子である。
ノード７との位置関係を、放電状態が均一になるように
調整することが必要であり、そのために従来のスパッタ
装置では、第７図に示すように、アノード７を、スパッ
タ室１内に設けたアノード支持部材８に位置調整可能に
支持させている。なお、９はアノード支持部材８とアノ
ード７との間に介在された絶縁碍子である。
しかしながら、上記従来のスパッタ装置では、ターゲッ
ト５を開閉扉１１の内面に取付け、アノード７はスパッ
タ室１内に設置しているため、タゲット５に対するアノ
ード７の位置を調整するには、開閉扉１１を閉じてこの
開閉扉１１の内面のターゲット５をスパッタ室１内のア
ノード７に対向させ、スパッタ室１の反対側の側壁の開
閉扉を開いてこの反対側の開口から前記アノード７の位
置をチエツクし、この後前記開閉扉１１を開いてアノー
ド７の位置を修正するとともに、再び開閉扉１１を閉じ
て修正後のアノード７の位置を反対側の開口からチエツ
クする作業を繰返さなければならず、したがって上記従
来のスパッタ装置は、アノード７の位置調整作業が非常
に面倒で非能率あるという問題をもっていた。
ト５を開閉扉１１の内面に取付け、アノード７はスパッ
タ室１内に設置しているため、タゲット５に対するアノ
ード７の位置を調整するには、開閉扉１１を閉じてこの
開閉扉１１の内面のターゲット５をスパッタ室１内のア
ノード７に対向させ、スパッタ室１の反対側の側壁の開
閉扉を開いてこの反対側の開口から前記アノード７の位
置をチエツクし、この後前記開閉扉１１を開いてアノー
ド７の位置を修正するとともに、再び開閉扉１１を閉じ
て修正後のアノード７の位置を反対側の開口からチエツ
クする作業を繰返さなければならず、したがって上記従
来のスパッタ装置は、アノード７の位置調整作業が非常
に面倒で非能率あるという問題をもっていた。
本発明は上記のような実情にかんがみてなされたもので
あって、その目的とするところは、アノードの位置を容
易に作業性よく調整することができるスパッタ装置を提
供することにある。
あって、その目的とするところは、アノードの位置を容
易に作業性よく調整することができるスパッタ装置を提
供することにある。
本発明のスパッタ装置は、スパッタ室の側壁に開口を設
け、この開口を密閉する開閉扉の内面にターゲットを取
付けるとともに、このターゲットに対向させて配置され
るアノードを、前記開閉扉に位置調整可能に支持させた
ことを特徴とするものである。
け、この開口を密閉する開閉扉の内面にターゲットを取
付けるとともに、このターゲットに対向させて配置され
るアノードを、前記開閉扉に位置調整可能に支持させた
ことを特徴とするものである。
このように、ターゲットを取付けた開閉扉にアノードも
位置調整可能に支持させておけば、前記開閉扉を開いた
状態で、ターゲットに対するアノードの位置を直接チエ
ツクしながらアノードの位置を調整できるから、アノー
ドの位置を容易に作業性よく調整することができる。
位置調整可能に支持させておけば、前記開閉扉を開いた
状態で、ターゲットに対するアノードの位置を直接チエ
ツクしながらアノードの位置を調整できるから、アノー
ドの位置を容易に作業性よく調整することができる。
以下、本発明の一実施例を第１図〜第５図を参照して説
明する。なお、この実施例のスパッタ装置は、両側スパ
ッタ方式のものであり、スパッタ装置全体の構成は第６
図に示したものと同じであるから、ここではターゲット
およびアノードの設置構造のみについて説明する。
明する。なお、この実施例のスパッタ装置は、両側スパ
ッタ方式のものであり、スパッタ装置全体の構成は第６
図に示したものと同じであるから、ここではターゲット
およびアノードの設置構造のみについて説明する。
第１図および第５図において、図中１はスパッタ室、１
０はこのスパッタ室１の側壁に設けられた開口、１１は
この開口１１を密閉する鋼板製の開閉扉であり、ターゲ
ット５はこの開閉扉１１の内面に取付けられ、プラズマ
を封じ込めるための磁界を発生する磁石（永久磁石）６
は開閉扉１１の外面に取付けられている。また、７は前
記ターゲット５に対向させて配置された導電性金属板か
らなる枠板状のアノードであり、このアノード７は、前
記開閉扉１１に、その内面のターゲット５に対して位置
調整可能に支持されている。
０はこのスパッタ室１の側壁に設けられた開口、１１は
この開口１１を密閉する鋼板製の開閉扉であり、ターゲ
ット５はこの開閉扉１１の内面に取付けられ、プラズマ
を封じ込めるための磁界を発生する磁石（永久磁石）６
は開閉扉１１の外面に取付けられている。また、７は前
記ターゲット５に対向させて配置された導電性金属板か
らなる枠板状のアノードであり、このアノード７は、前
記開閉扉１１に、その内面のターゲット５に対して位置
調整可能に支持されている。
この開閉扉１１に対するアノード７の支持構造を説明す
ると、第１図および第５図において、１２は開閉扉１１
の内面にターゲット取付は位置からスパッタ室枢着側に
偏らせて取付けられた上下一対のヒンジ部材であり、こ
のヒンジ部材１２は、そのヒンジ軸側をスパッタ室枢着
側に向けた状態で配置され、固定側ヒンジ片１２ａを開
閉扉１１にボルト止め固定されている。そして、このヒ
ンジ部材１２の可動側ヒンジ片１２ｂの外面には、Ｌ形
鋼板からなるアノード支持部材（以下、ヒンジ側アノー
ド支持部材という）１３が上下方向（ターゲット５の縦
幅方向）Ｙおよび左右方向（ターゲット５の横幅方向）
Ｘに移動可能に取付けられている。すなわち、このヒン
ジ側アノード支持部材１３は、その垂直板部を前記ヒン
ジ部材１２の可動側ヒンジ片１２ｂにボルト１４によっ
て締付は固定して、可動側ヒンジ片１２ｂに取付けられ
ている。そして、このヒンジ側アノード支持部材１３の
垂直板部に穿設されたボルト挿通孔１５は、第２図およ
び第３図に示すように、ボルト１４の軸部の径より十分
大きな径の円形孔とされており、ヒンジ側アノード支持
部材１３は、ボルト１４を緩めることによって、ボルト
挿通孔１５とボルト軸部との間隙分だけ上下方向Ｙおよ
び左右方向Ｘに移動調整されるようになっている。
ると、第１図および第５図において、１２は開閉扉１１
の内面にターゲット取付は位置からスパッタ室枢着側に
偏らせて取付けられた上下一対のヒンジ部材であり、こ
のヒンジ部材１２は、そのヒンジ軸側をスパッタ室枢着
側に向けた状態で配置され、固定側ヒンジ片１２ａを開
閉扉１１にボルト止め固定されている。そして、このヒ
ンジ部材１２の可動側ヒンジ片１２ｂの外面には、Ｌ形
鋼板からなるアノード支持部材（以下、ヒンジ側アノー
ド支持部材という）１３が上下方向（ターゲット５の縦
幅方向）Ｙおよび左右方向（ターゲット５の横幅方向）
Ｘに移動可能に取付けられている。すなわち、このヒン
ジ側アノード支持部材１３は、その垂直板部を前記ヒン
ジ部材１２の可動側ヒンジ片１２ｂにボルト１４によっ
て締付は固定して、可動側ヒンジ片１２ｂに取付けられ
ている。そして、このヒンジ側アノード支持部材１３の
垂直板部に穿設されたボルト挿通孔１５は、第２図およ
び第３図に示すように、ボルト１４の軸部の径より十分
大きな径の円形孔とされており、ヒンジ側アノード支持
部材１３は、ボルト１４を緩めることによって、ボルト
挿通孔１５とボルト軸部との間隙分だけ上下方向Ｙおよ
び左右方向Ｘに移動調整されるようになっている。
一方、アノード７には、その−側の上下縁部と他側の上
下縁部とに、アノード面に対して垂直に折曲した水平折
曲片７ａ、７ｂが形成されており、このアノード７の一
側の上下縁部に形成された折曲片７ａは、第２図に示す
ように前記ヒンジ側アノード支持部材１３の水平板部に
絶縁碍子１６を介して支持され、ボルト１７ａ、１７ｂ
によって締付は固定されている。すなわち、前記絶縁碍
子１６は、その両端部にナットユ６ａ、１６ｂを互いに
絶縁された状態で埋設したもので、この碍子１６の一端
側は、ヒンジ側アノード支持部材１３の水平板部にボル
ト１７ａによって締付は固定されており、アノード７の
折曲片７ａは、碍子１６の他端側にボルト１７ｂによっ
て締付は固定されている。また、前記折曲片７ａに穿設
されたボルト挿通孔１８は、第２図および第４図に示す
ような長孔とされており、アノード７は、前記ボルト１
７ｂを緩めることによって前後方向（ターゲット５に対
して接離する方向）Ｚに移動調整されるようになってい
る。なお、この実施例では、ヒンジ側アノード支持部材
１３の水平板部に穿設したボルト挿通孔１９も第２図に
示すように長孔としており、したがってアノード７は、
ヒンジ側アノード支持部材１３に碍子１６を締付は固定
しているボルト１７ａを緩めることによっても前後方向
２に移動調整できるようになっている。
下縁部とに、アノード面に対して垂直に折曲した水平折
曲片７ａ、７ｂが形成されており、このアノード７の一
側の上下縁部に形成された折曲片７ａは、第２図に示す
ように前記ヒンジ側アノード支持部材１３の水平板部に
絶縁碍子１６を介して支持され、ボルト１７ａ、１７ｂ
によって締付は固定されている。すなわち、前記絶縁碍
子１６は、その両端部にナットユ６ａ、１６ｂを互いに
絶縁された状態で埋設したもので、この碍子１６の一端
側は、ヒンジ側アノード支持部材１３の水平板部にボル
ト１７ａによって締付は固定されており、アノード７の
折曲片７ａは、碍子１６の他端側にボルト１７ｂによっ
て締付は固定されている。また、前記折曲片７ａに穿設
されたボルト挿通孔１８は、第２図および第４図に示す
ような長孔とされており、アノード７は、前記ボルト１
７ｂを緩めることによって前後方向（ターゲット５に対
して接離する方向）Ｚに移動調整されるようになってい
る。なお、この実施例では、ヒンジ側アノード支持部材
１３の水平板部に穿設したボルト挿通孔１９も第２図に
示すように長孔としており、したがってアノード７は、
ヒンジ側アノード支持部材１３に碍子１６を締付は固定
しているボルト１７ａを緩めることによっても前後方向
２に移動調整できるようになっている。
また、アノードの他側の上下縁部に形成された折曲片７
ｂには、絶縁碍子２１を介して、Ｌ形鋼板からなる固定
側アノード支持部材２ｏが前後方向Ｚに移動可能に取付
けられている。なお、前記絶縁碍子２１は、前述した碍
子１６と同様に、両端部にナツトを互いに絶縁された状
態で埋設したもので、この碍子２１の一端側は固定側ア
ノード支持部材２０の水平板部にボルト２２ａによって
締付は固定されており、アノード７の折曲片７ｂは、碍
子２１の他端側にボルト２２ｂによって締付は固定され
ている。そして、前記固定側アノ−ド支持部材２０は、
その垂直板部を前記開閉扉１１にボルト２３により締付
は固定して開閉扉１１に着脱可能に取付けられており、
アノード７は、この固定側アノード支持部材２０と、前
記ヒンジ側アノード支持部材１３およびヒンジ部材１２
とによって開閉扉１１に支持されている。なお、第５図
において２４は、開閉扉１１に設けられた、固定側アノ
ード支持部材２０の垂直板部を開閉扉１１に締付は固定
するボルト２３の螺合孔である。また、図示しないが、
前記折曲片７ｂおよび固定側アノード支持部材１３の水
平板部に穿設されたボルト挿通孔はいずれも長孔とされ
ており、固定側アノード支持部材２０は、前記ボルト２
２ａ、２２ｂのいずれかを緩めることによってアノード
７に対し前後方向Ｚに移動調整されるようになっている
。さらに、前記固定側アノード支持部材２０の垂直板部
に穿設されたボルト挿通孔２５（第５図参照）は、ボル
ト２３の軸部の径より十分大きな径の円形孔とされてお
り、固定側アノード支持部材２０は、前記ボルト２３を
緩めることによって、開閉扉１１に対し上下方向Ｙおよ
び左右方向Ｘに移動調整されるようになっている。
ｂには、絶縁碍子２１を介して、Ｌ形鋼板からなる固定
側アノード支持部材２ｏが前後方向Ｚに移動可能に取付
けられている。なお、前記絶縁碍子２１は、前述した碍
子１６と同様に、両端部にナツトを互いに絶縁された状
態で埋設したもので、この碍子２１の一端側は固定側ア
ノード支持部材２０の水平板部にボルト２２ａによって
締付は固定されており、アノード７の折曲片７ｂは、碍
子２１の他端側にボルト２２ｂによって締付は固定され
ている。そして、前記固定側アノ−ド支持部材２０は、
その垂直板部を前記開閉扉１１にボルト２３により締付
は固定して開閉扉１１に着脱可能に取付けられており、
アノード７は、この固定側アノード支持部材２０と、前
記ヒンジ側アノード支持部材１３およびヒンジ部材１２
とによって開閉扉１１に支持されている。なお、第５図
において２４は、開閉扉１１に設けられた、固定側アノ
ード支持部材２０の垂直板部を開閉扉１１に締付は固定
するボルト２３の螺合孔である。また、図示しないが、
前記折曲片７ｂおよび固定側アノード支持部材１３の水
平板部に穿設されたボルト挿通孔はいずれも長孔とされ
ており、固定側アノード支持部材２０は、前記ボルト２
２ａ、２２ｂのいずれかを緩めることによってアノード
７に対し前後方向Ｚに移動調整されるようになっている
。さらに、前記固定側アノード支持部材２０の垂直板部
に穿設されたボルト挿通孔２５（第５図参照）は、ボル
ト２３の軸部の径より十分大きな径の円形孔とされてお
り、固定側アノード支持部材２０は、前記ボルト２３を
緩めることによって、開閉扉１１に対し上下方向Ｙおよ
び左右方向Ｘに移動調整されるようになっている。
すなわち、アノード７は、前記ヒンジ側アノード支持部
材１３を開閉扉１１に固定したヒンジ部材１２の可動側
ヒンジ片１２ｂに上下方向Ｙおよび左右方向Ｘに移動可
能に取付けるとともに、固定側アノード支持部材２０を
開閉扉１１に上下方向Ｙおよび左右方向Ｘに移動可能に
取付けたことによって、ターゲット５の縦幅方向および
横幅方向とに位置調整されるようになっており、さらに
前記ヒンジ側アノード支持部材１３および固定側アノー
ド支持部材２０とアノード７とを相対的に前後方向Ｚに
移動可能としたことによって、ターゲット５との間隔も
調整されるようになっている。
材１３を開閉扉１１に固定したヒンジ部材１２の可動側
ヒンジ片１２ｂに上下方向Ｙおよび左右方向Ｘに移動可
能に取付けるとともに、固定側アノード支持部材２０を
開閉扉１１に上下方向Ｙおよび左右方向Ｘに移動可能に
取付けたことによって、ターゲット５の縦幅方向および
横幅方向とに位置調整されるようになっており、さらに
前記ヒンジ側アノード支持部材１３および固定側アノー
ド支持部材２０とアノード７とを相対的に前後方向Ｚに
移動可能としたことによって、ターゲット５との間隔も
調整されるようになっている。
また、アノード７は、その−側を支持するヒンジ側アノ
ード支持部材１３をヒンジ部材１２を介して開閉扉１１
に取付けられているため、固定側アノード支持部材２０
を開閉扉１１に固定しているボルト２３を取外すことに
よって、開閉扉１１に対して第５図に示すように接離回
動できるようになっている。
ード支持部材１３をヒンジ部材１２を介して開閉扉１１
に取付けられているため、固定側アノード支持部材２０
を開閉扉１１に固定しているボルト２３を取外すことに
よって、開閉扉１１に対して第５図に示すように接離回
動できるようになっている。
そして、この実施例のスパッタ装置では、ターゲット５
を取付けた開閉扉１１にアノード７も位置調整可能に支
持させているから、前記開閉扉１１を第１図に示すよう
に開いた状態で、ターゲット５に対するアノード７の位
置を直接チエツクしながらアノード７の位置を、ターゲ
ット５の縦幅方向（Ｙ方向）および横幅方向（Ｘ方向）
と、ターゲット５に対して接離する方向（２方向）とに
調整することができ、したがって、アノード７の位置を
容易に作業性よく調整することができる。
を取付けた開閉扉１１にアノード７も位置調整可能に支
持させているから、前記開閉扉１１を第１図に示すよう
に開いた状態で、ターゲット５に対するアノード７の位
置を直接チエツクしながらアノード７の位置を、ターゲ
ット５の縦幅方向（Ｙ方向）および横幅方向（Ｘ方向）
と、ターゲット５に対して接離する方向（２方向）とに
調整することができ、したがって、アノード７の位置を
容易に作業性よく調整することができる。
また、このスパッタ装置では、アノード７を開閉扉１１
に対して接離回動できるようにしているため、ターゲッ
ト５を交換する際は、第５図に示すようにアノード７を
ターゲット交換の邪魔にならない位置に退去させること
ができ、したがって、ターゲット５を取付けた開閉扉１
１にアノード７も支持させたものでありながら、ターゲ
ット５の交換も容易に行なうことができる。
に対して接離回動できるようにしているため、ターゲッ
ト５を交換する際は、第５図に示すようにアノード７を
ターゲット交換の邪魔にならない位置に退去させること
ができ、したがって、ターゲット５を取付けた開閉扉１
１にアノード７も支持させたものでありながら、ターゲ
ット５の交換も容易に行なうことができる。
なお、上記実施例では、アノード７を、ターゲット５の
縦幅方向（Ｙ方向）および横幅方向（Ｘ方向）だけでな
く、ターゲット５に対して接離する方向（Ｚ方向）にも
位置調整できるようにしたが、放電状態に大きく影響す
るのは、〔従来の技術〕の項で説明したように、特にタ
ーゲット５に発生するエロージョン５ａとアノード７の
開口縁との位置関係であり、ターゲット５とアノード７
との間隔による放電状態の変化は、カソード電極となる
ターゲット５側とアノード７との間に流す放電電流を制
御することでも調整できるから、アノード７は、ターゲ
ット５に対して接離する方向（Ｚ方向）には位置調整で
きなくてもよい。
縦幅方向（Ｙ方向）および横幅方向（Ｘ方向）だけでな
く、ターゲット５に対して接離する方向（Ｚ方向）にも
位置調整できるようにしたが、放電状態に大きく影響す
るのは、〔従来の技術〕の項で説明したように、特にタ
ーゲット５に発生するエロージョン５ａとアノード７の
開口縁との位置関係であり、ターゲット５とアノード７
との間隔による放電状態の変化は、カソード電極となる
ターゲット５側とアノード７との間に流す放電電流を制
御することでも調整できるから、アノード７は、ターゲ
ット５に対して接離する方向（Ｚ方向）には位置調整で
きなくてもよい。
また、上記実施例では、アノード７を、ヒンジ側アノー
ド支持部材１３およびヒンジ部材１２と、固定側アノー
ド支持部材２０とを介して開閉扉１１に支持させたが、
このアノード７を開閉扉１１に位置調整可能に支持させ
る構造は、上記実施例に限らず、任意の機構を採■でき
る。
ド支持部材１３およびヒンジ部材１２と、固定側アノー
ド支持部材２０とを介して開閉扉１１に支持させたが、
このアノード７を開閉扉１１に位置調整可能に支持させ
る構造は、上記実施例に限らず、任意の機構を採■でき
る。
本発明のスパッタ装置は、スパッタ室の側壁に開口を設
け、この開口を密閉する開閉扉の内面にターゲットを取
付けるとともに、このターゲットに対向させて配置され
るアノードを、前記開閉扉に位置調整可能に支持させた
ものであるから、前記開閉扉を開いた状態で、ターゲッ
トに対するアノードの位置を直接チエツクしながらアノ
ードの位置を調整することができ、したがって、アノー
ドの位置を容易に作業性よく調整することができる。
け、この開口を密閉する開閉扉の内面にターゲットを取
付けるとともに、このターゲットに対向させて配置され
るアノードを、前記開閉扉に位置調整可能に支持させた
ものであるから、前記開閉扉を開いた状態で、ターゲッ
トに対するアノードの位置を直接チエツクしながらアノ
ードの位置を調整することができ、したがって、アノー
ドの位置を容易に作業性よく調整することができる。
第１図〜第５図は本発明の一実施例を示したもので、第
１図はスパッタ装置のターゲットおよびアノード設置部
の斜視図、第２図はアノード支持部の拡大断面図、第３
図および第４図は第２図の■−■線およびＩＶ−ＩＶ線
に沿う断面図、第５図はターゲット交換時のアノードの
状態を示す斜視図である。第６図はスパッタ装置の概略
構成図、第７図は従来のスパッタ装置のターゲットおよ
びアノード設置部の斜視図である。 １・・・スパッタ室、５・・・ターゲット、５ａ・・・
エロ一ジョン、６・・・磁石、７・・・アノード、１０
・・・開口、１１・・・開閉扉、１２・・・ヒンジ部祠
、１３・・・ヒンジ側アノード支持部材、１４・・・ボ
ルト、１６・・・碍子、１７ａ、１７ｂ・・・ボルト、
２０・・・固定側アノード支持部材、２１−・・碍子、
２２ａ、２２ｂ、２３＝−ボルト。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
１図はスパッタ装置のターゲットおよびアノード設置部
の斜視図、第２図はアノード支持部の拡大断面図、第３
図および第４図は第２図の■−■線およびＩＶ−ＩＶ線
に沿う断面図、第５図はターゲット交換時のアノードの
状態を示す斜視図である。第６図はスパッタ装置の概略
構成図、第７図は従来のスパッタ装置のターゲットおよ
びアノード設置部の斜視図である。 １・・・スパッタ室、５・・・ターゲット、５ａ・・・
エロ一ジョン、６・・・磁石、７・・・アノード、１０
・・・開口、１１・・・開閉扉、１２・・・ヒンジ部祠
、１３・・・ヒンジ側アノード支持部材、１４・・・ボ
ルト、１６・・・碍子、１７ａ、１７ｂ・・・ボルト、
２０・・・固定側アノード支持部材、２１−・・碍子、
２２ａ、２２ｂ、２３＝−ボルト。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- スパッタ室の側壁に開口を設け、この開口を密閉する
開閉扉の内面にターゲットを取付けるとともに、このタ
ーゲットに対向させて配置されるアノードを、前記開閉
扉に位置調整可能に支持させたことを特徴とするスパッ
タ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11181090A JPH0413867A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | スパッタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11181090A JPH0413867A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | スパッタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413867A true JPH0413867A (ja) | 1992-01-17 |
Family
ID=14570730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11181090A Pending JPH0413867A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | スパッタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0413867A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5421956A (en) * | 1991-11-20 | 1995-06-06 | Nippondenso Co., Ltd. | Method of fabricating an integrated pressure sensor |
| JP2009235560A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Korea Plant Service & Engineering Co Ltd | 高温用部品の潤滑コーティング装置 |
| JP2013007064A (ja) * | 2011-06-22 | 2013-01-10 | Ulvac Japan Ltd | 真空容器 |
| JP2014129602A (ja) * | 2012-12-29 | 2014-07-10 | Shenzhen Futaihong Precision Industrial Co Ltd | マグネトロンスパッタ蒸着装置 |
-
1990
- 1990-05-01 JP JP11181090A patent/JPH0413867A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5421956A (en) * | 1991-11-20 | 1995-06-06 | Nippondenso Co., Ltd. | Method of fabricating an integrated pressure sensor |
| US5528214A (en) * | 1991-11-20 | 1996-06-18 | Nippondenso Co., Ltd. | Pressure-adjusting device for adjusting output of integrated pressure sensor |
| JP2009235560A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Korea Plant Service & Engineering Co Ltd | 高温用部品の潤滑コーティング装置 |
| JP2013007064A (ja) * | 2011-06-22 | 2013-01-10 | Ulvac Japan Ltd | 真空容器 |
| JP2014129602A (ja) * | 2012-12-29 | 2014-07-10 | Shenzhen Futaihong Precision Industrial Co Ltd | マグネトロンスパッタ蒸着装置 |
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