JPH04121699A - Ｘ線取出し装置 - Google Patents
Ｘ線取出し装置Info
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- JPH04121699A JPH04121699A JP2241247A JP24124790A JPH04121699A JP H04121699 A JPH04121699 A JP H04121699A JP 2241247 A JP2241247 A JP 2241247A JP 24124790 A JP24124790 A JP 24124790A JP H04121699 A JPH04121699 A JP H04121699A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はシンクロトロン放射光をＸ＃ｌ露光の光源と
したり、医療Ｘ線透視用光源やＸ線解析用光源とする場
合等に必要なＸ１ｉＡ取出し装置に関する。
したり、医療Ｘ線透視用光源やＸ線解析用光源とする場
合等に必要なＸ１ｉＡ取出し装置に関する。
近年、紫外線に代るリソグラフィ用光源及び医療Ｘ線透
視用光源としてシンクロトロン放射光の利用が期待され
ている。これはシンクロトロン放射光が連続スペクトル
を持ち、且つその中に強力で指向性の強い軟ｘｌを含ん
でおり、このような軟Ｘ線がスループット及び解像性の
点からリングラフィ技術のＸ線源として、又医療透視解
析用Ｘ線源として理想的であるからである。
視用光源としてシンクロトロン放射光の利用が期待され
ている。これはシンクロトロン放射光が連続スペクトル
を持ち、且つその中に強力で指向性の強い軟ｘｌを含ん
でおり、このような軟Ｘ線がスループット及び解像性の
点からリングラフィ技術のＸ線源として、又医療透視解
析用Ｘ線源として理想的であるからである。
第６図は電子蓄積リング等の超高真空のリング（８）中
でその軌道上を光速に近い速さで周回している電子が偏
向電磁石（９）によって偏向せしめられた時にシンクロ
トロン放射光を放射する放射光施設の概要を示している
。同図（５）で示すビームラインに導かれてくる放射光
は、Ｂｅ薄膜等によってビームライン（５）側の超高真
空域と放射光取出し側雰囲気とを隔てている放射光透過
窓（４）を透過し、外部に取出されることになる。その
うち放射光透過窓（４）の設けられたビームライン（５
）の放射光取出し側は、大気による酸化の影響でＢｅ薄
膜の放射光透過率が低下する等の不都合を避けるため、
放射光減衰率の低いヘリウムガス等で満たされるガスチ
ャンバ（２）が連設され、前記薄膜が直接大気中に露出
しないようにしている。そして。
でその軌道上を光速に近い速さで周回している電子が偏
向電磁石（９）によって偏向せしめられた時にシンクロ
トロン放射光を放射する放射光施設の概要を示している
。同図（５）で示すビームラインに導かれてくる放射光
は、Ｂｅ薄膜等によってビームライン（５）側の超高真
空域と放射光取出し側雰囲気とを隔てている放射光透過
窓（４）を透過し、外部に取出されることになる。その
うち放射光透過窓（４）の設けられたビームライン（５
）の放射光取出し側は、大気による酸化の影響でＢｅ薄
膜の放射光透過率が低下する等の不都合を避けるため、
放射光減衰率の低いヘリウムガス等で満たされるガスチ
ャンバ（２）が連設され、前記薄膜が直接大気中に露出
しないようにしている。そして。
そこを通り抜けてきた放射光は該ガスチャンバ（２）の
Ｘ線取出し口側のＳｉＮ等で構成されるＸ線窓（３）か
ら大気中又はＸ線利用側のチャンバ（図示なし）中に取
出されることになる。
Ｘ線取出し口側のＳｉＮ等で構成されるＸ線窓（３）か
ら大気中又はＸ線利用側のチャンバ（図示なし）中に取
出されることになる。
以上の様な放射光施設では、設備稼動時又は再稼動時に
ガスチャンバ（２）内の雰囲気を所定の雰囲気に替える
必要があり、そのために内部雰囲気の供給・排出系及び
圧力調整系を利用して次のような処理がなされる。即ち
、第６図のバブル■１、■２を開け、ガスチャンバ（２
）内の大気がヘリウムガス等の雰囲気に置換されるまで
該ヘリウムガス等を流し続ける。略全体が置換された時
に該パージを止め、その後はガスチャンバ（２）のＸ線
取出し口（２ａ）側に設けたＸ線窓（３）からＸ線を取
出す。
ガスチャンバ（２）内の雰囲気を所定の雰囲気に替える
必要があり、そのために内部雰囲気の供給・排出系及び
圧力調整系を利用して次のような処理がなされる。即ち
、第６図のバブル■１、■２を開け、ガスチャンバ（２
）内の大気がヘリウムガス等の雰囲気に置換されるまで
該ヘリウムガス等を流し続ける。略全体が置換された時
に該パージを止め、その後はガスチャンバ（２）のＸ線
取出し口（２ａ）側に設けたＸ線窓（３）からＸ線を取
出す。
しかし、以上の様な方法ではそのパージ時間が数十分掛
かり、放射光施設の稼働率が低下してしまうという問題
（その他Ｘ線取出し側にチャンバを別に設けた場合でも
該チャンバ内を任意の圧力にすることが困難であるとい
った問題）があった。
かり、放射光施設の稼働率が低下してしまうという問題
（その他Ｘ線取出し側にチャンバを別に設けた場合でも
該チャンバ内を任意の圧力にすることが困難であるとい
った問題）があった。
一方、ガスチャンバ（２）内の雰囲気を短時間のうちに
置換せしめる方法としては、バルブＶ□を閉じ、■２を
開いて該ガスチャンバ（２）内を一旦真空にした後、バ
ルブＶ２を閉し、■１を開いてヘリウムガス等の雰囲気
を注入することも考えられる。
置換せしめる方法としては、バルブＶ□を閉じ、■２を
開いて該ガスチャンバ（２）内を一旦真空にした後、バ
ルブＶ２を閉し、■１を開いてヘリウムガス等の雰囲気
を注入することも考えられる。
しかし、前記Ｘ線窓（３）を構成するＳｉＮ等の膜が、
ガスチャンバ（２）内と外部のＸ線取出し側との差圧に
耐えることができないという問題があり、実際には長時
間を掛けてガスパージを行なうしか方法がなかった。
ガスチャンバ（２）内と外部のＸ線取出し側との差圧に
耐えることができないという問題があり、実際には長時
間を掛けてガスパージを行なうしか方法がなかった。
本発明は従来技術の以上の様な問題に鑑み創案されたも
ので、ガスチャンバ内の雰囲気置換が短時間のうちに終
了するＸＩＡ取出し装置を提供せんとするものである。
ので、ガスチャンバ内の雰囲気置換が短時間のうちに終
了するＸＩＡ取出し装置を提供せんとするものである。
そのため本発明に係るＸ線取出し装置は、光源からシン
クロトロン放射光を導くビームラインの放射光取出し側
に内部雰囲気の供給・排出系及び圧力調整系を備えたガ
スチャンバを連設すると共に、該ガスチャンバのＸ線取
出し口に、このＸ線取出し口を気密状態で閉塞できる耐
圧密閉手段を設けたことを基本的特徴としている。
クロトロン放射光を導くビームラインの放射光取出し側
に内部雰囲気の供給・排出系及び圧力調整系を備えたガ
スチャンバを連設すると共に、該ガスチャンバのＸ線取
出し口に、このＸ線取出し口を気密状態で閉塞できる耐
圧密閉手段を設けたことを基本的特徴としている。
本発明装置では、上記耐圧密閉手段によってガスチャン
バのＸ線取出し口側か閉塞される際に前記Ｘ線窓に最終
的に内外の差圧が掛らないようにするため、該ｘ４ｇ窓
をＸＩｌ取出し口から待避せしめて前記耐圧密閉手段に
よりＸ＠取出し口を閉塞せしめるようにする構成の場合
と、このＸ線窓の移動はないが該Ｘａ＊を覆うことので
きる耐圧密閉手段によりこれを覆い、Ｘ線取出し口を閉
塞せしめるようにする構成の場合が考えられる。
バのＸ線取出し口側か閉塞される際に前記Ｘ線窓に最終
的に内外の差圧が掛らないようにするため、該ｘ４ｇ窓
をＸＩｌ取出し口から待避せしめて前記耐圧密閉手段に
よりＸ＠取出し口を閉塞せしめるようにする構成の場合
と、このＸ線窓の移動はないが該Ｘａ＊を覆うことので
きる耐圧密閉手段によりこれを覆い、Ｘ線取出し口を閉
塞せしめるようにする構成の場合が考えられる。
本発明装置ではガスチャンバ内或いはＸ線取出し側の雰
囲気の置換を行なう場合に、該ガスチャンバのＸ線取出
し口を前記耐圧密閉手段で気密にして閉塞する。そのよ
うに閉塞することでこのガスチャンバ内又はＸ線取出し
側を排気した後、所望の雰囲気ガスを注入せしめること
ができ、雰囲気の置換を短時間に行なうことが可能とな
る。
囲気の置換を行なう場合に、該ガスチャンバのＸ線取出
し口を前記耐圧密閉手段で気密にして閉塞する。そのよ
うに閉塞することでこのガスチャンバ内又はＸ線取出し
側を排気した後、所望の雰囲気ガスを注入せしめること
ができ、雰囲気の置換を短時間に行なうことが可能とな
る。
以下本発明の具体的実施例につき説明する。
第１図は、シンクロトロン放射光を光源とするｘｇクリ
ソラフィ用に設計された本発明のＸ線取出し装置の発明
装置の一実施例を示している。
ソラフィ用に設計された本発明のＸ線取出し装置の発明
装置の一実施例を示している。
図中（５）は電子蓄積リング（図示なし）からシンクロ
トロン放射光を導くビームライン、（４）は該ビームラ
イン（５）の放射光取出し側に設けられたＢｅ薄膜で構
成される放射光透過窓、（２）は該放射光透過窓（４）
に連続して放射光取出し側に設けられたガスチャンバを
示しており、本実施例ではこのガスチャンバ（２）のＸ
線取出し口（２ａ）が閉塞される際に後述するＸｍ窓が
別の場所に待避せしめられる構成となっている。又この
Ｘ線取出し口（２ａ）側には、露光装置用のチャンバ（
６）が設けられ、その内部にはマスクやウェハ等を備え
たＸ、ｉｌＸ露光装置（７）が設置されている。更に前
記ガスチャンバ（２）とこのチャンバ（６）には、夫々
バルブＶ１乃至Ｖ７と真空ポンプＰ４及びＰ、を介して
内部雰囲気の供給・排出及び圧力ｇ整を行なう内部雰囲
気調整系が設けられている。
トロン放射光を導くビームライン、（４）は該ビームラ
イン（５）の放射光取出し側に設けられたＢｅ薄膜で構
成される放射光透過窓、（２）は該放射光透過窓（４）
に連続して放射光取出し側に設けられたガスチャンバを
示しており、本実施例ではこのガスチャンバ（２）のＸ
線取出し口（２ａ）が閉塞される際に後述するＸｍ窓が
別の場所に待避せしめられる構成となっている。又この
Ｘ線取出し口（２ａ）側には、露光装置用のチャンバ（
６）が設けられ、その内部にはマスクやウェハ等を備え
たＸ、ｉｌＸ露光装置（７）が設置されている。更に前
記ガスチャンバ（２）とこのチャンバ（６）には、夫々
バルブＶ１乃至Ｖ７と真空ポンプＰ４及びＰ、を介して
内部雰囲気の供給・排出及び圧力ｇ整を行なう内部雰囲
気調整系が設けられている。
本実施例ではガスチャンバ（２）のＸ線取出し口（２ａ
）で上下にスライドし、これを密閉せしめることができ
るスライドゲート（１）が耐圧密閉手段として設けられ
ている。又このスライドゲート（１）の上部側にＳｉＮ
からなるＸ線窓（３）が付設されていて、該Ｘ線窓（３
）を透過せしめることでＸ線の取出し・照射が行なえる
ようになっている。このスライド操作ｈ（１）のスライ
ドは、Ｘ線取出し口（２ａ）に気密な状態で密接したま
ま上下に動くことで行なわれ、スライド中でもその内外
の雰囲気の漏洩・侵入が防止される。
）で上下にスライドし、これを密閉せしめることができ
るスライドゲート（１）が耐圧密閉手段として設けられ
ている。又このスライドゲート（１）の上部側にＳｉＮ
からなるＸ線窓（３）が付設されていて、該Ｘ線窓（３
）を透過せしめることでＸ線の取出し・照射が行なえる
ようになっている。このスライド操作ｈ（１）のスライ
ドは、Ｘ線取出し口（２ａ）に気密な状態で密接したま
ま上下に動くことで行なわれ、スライド中でもその内外
の雰囲気の漏洩・侵入が防止される。
次に本実施例の使用方法につき説明する。
まず前記バルブ■、乃至■７を全て閉じ、スライドゲー
ト（１）を第２図に示すように上方にスライドせしめて
おく。バルブｖ２を開は真空ポンプＰ工によりガスチャ
ンバ（２）内を排気した後、該バルブ■２を閉じ、バル
ブｖ１を開はヘリウムガスを前記ガスチャンバ（２）内
に導入し、任意の圧力にする。そしてバルブｖ２又はｖ
３を開け、ガスチャンバ（２）内の圧力を一定に保つ。
ト（１）を第２図に示すように上方にスライドせしめて
おく。バルブｖ２を開は真空ポンプＰ工によりガスチャ
ンバ（２）内を排気した後、該バルブ■２を閉じ、バル
ブｖ１を開はヘリウムガスを前記ガスチャンバ（２）内
に導入し、任意の圧力にする。そしてバルブｖ２又はｖ
３を開け、ガスチャンバ（２）内の圧力を一定に保つ。
一方、バルブｖ６を開け、真空ポンプＰ２によりチャン
バ（６）内を排気した後、該バルブＶ６を閉し、バルブ
■５又は■７を開け、露光に好適な任意のガス又は空気
をチャンバ（６）内に導入する。そしてバルブ■４も開
け、該チャンバ（６）内の圧力が前記ガスチャンバ（２
）内の圧力と等しくなったところで、スライドゲート（
１）を第３図に示すように下方にスライドせしめる。
バ（６）内を排気した後、該バルブＶ６を閉し、バルブ
■５又は■７を開け、露光に好適な任意のガス又は空気
をチャンバ（６）内に導入する。そしてバルブ■４も開
け、該チャンバ（６）内の圧力が前記ガスチャンバ（２
）内の圧力と等しくなったところで、スライドゲート（
１）を第３図に示すように下方にスライドせしめる。
スライド後、Ｘ線窓（３）からチャンバ（６）側にＸ線
を取出して露光装置（７）によりｘｔｓｍ光を行なう。
を取出して露光装置（７）によりｘｔｓｍ光を行なう。
以上の様にガスチャンバ（２）或いはチャンバ（６）内
の雰囲気を置換する場合、両チャンバ（２） （６）を
スライドゲート（１）で区切り真空ポンプＰ工及びＰ２
により排気した後、ヘリウムガス等を導入するようにし
たため、Ｘ線窓（３）に影響を及ぼさずにチャンバ（２
）（６）内の雰囲気を短時間のうちに置換せしめること
が可能となる。又チャンバ（２） （６）中の雰囲気は
ヘリウムガス以外にも任意のものが使用でき、且つ任意
の圧力に調整してＸ線露光を行なうことができるように
なる。尚、スライドゲート（１）の上下のスライド操作
を、Ｘ線シャッタとして利用することもできる。
の雰囲気を置換する場合、両チャンバ（２） （６）を
スライドゲート（１）で区切り真空ポンプＰ工及びＰ２
により排気した後、ヘリウムガス等を導入するようにし
たため、Ｘ線窓（３）に影響を及ぼさずにチャンバ（２
）（６）内の雰囲気を短時間のうちに置換せしめること
が可能となる。又チャンバ（２） （６）中の雰囲気は
ヘリウムガス以外にも任意のものが使用でき、且つ任意
の圧力に調整してＸ線露光を行なうことができるように
なる。尚、スライドゲート（１）の上下のスライド操作
を、Ｘ線シャッタとして利用することもできる。
本実施例のスライドゲート（１）のような耐圧密閉手段
以外にも、第４図（ａ） （ｂ） （ｃ）に示すような
Ｘ＃！窓（３）が回転中心より離れた位置に設けられた
回転板（１０）の構成としたり、第５図（ａ）（ｂ）に
示されるように、Ｘ線窓（３）のガスチャンバ（２）側
やチャンバ（６）側に、写真機の絞りの様なシャッタ構
成（１１）とする耐圧密閉手段とすることもできる。
以外にも、第４図（ａ） （ｂ） （ｃ）に示すような
Ｘ＃！窓（３）が回転中心より離れた位置に設けられた
回転板（１０）の構成としたり、第５図（ａ）（ｂ）に
示されるように、Ｘ線窓（３）のガスチャンバ（２）側
やチャンバ（６）側に、写真機の絞りの様なシャッタ構
成（１１）とする耐圧密閉手段とすることもできる。
以上詳述した本発明のＸ線取出し装置によれば、ガスチ
ャンバのＸ線取出し口に設けられる耐圧密閉手段により
、ガスチャンバ内或いはＸ線取出し側の雰囲気の置換の
際にＸ線取出し口を閉塞せしめるため、該ガスチャンバ
やＸ＠取出し側の排気後のその中に任意の雰囲気を注入
することが可能となり、Ｘ線取出し口の内外で差圧を生
じてもＸ線窓に影響を与えることなく、短時間のうちに
その置換が完了することになる。又この耐圧密閉手段は
ｘｇラシャタとして使用することも可能である。
ャンバのＸ線取出し口に設けられる耐圧密閉手段により
、ガスチャンバ内或いはＸ線取出し側の雰囲気の置換の
際にＸ線取出し口を閉塞せしめるため、該ガスチャンバ
やＸ＠取出し側の排気後のその中に任意の雰囲気を注入
することが可能となり、Ｘ線取出し口の内外で差圧を生
じてもＸ線窓に影響を与えることなく、短時間のうちに
その置換が完了することになる。又この耐圧密閉手段は
ｘｇラシャタとして使用することも可能である。
第１図は本発明の一実施例に係るＸ線取出し装置の概略
図、第２図は本実施例での雰囲気置換時におけるスライ
ドゲートの状態を示す説明図、第３図はＸ＠取出し時に
おけるスライドゲートの状態を示す説明図、第４図（ａ
）（ｂ）（ｃ）は耐圧密閉手段が回転板で構成される本
発明の他の実施例を示す説明図、第５図（ａ）（ｂ）は
耐圧密閉手段がシャッタ構成からなる本発明の別の実施
例を示す説明図、第６図はシンクロトロン放射光施設の
概要を示す平面図である。 図中（１） （１０） （１１）は耐圧密閉手段であっ
て、そのうち（１）はスライドゲート、（１０）は回転
板、（１１）はシャッタ構成を示している。又図中（２
）はガスチャンバ、（３）はＸ線窓、（４）は放射光透
過窓、（５）はビームライン、（６）はチャンバ、（７
）はＸｍ露光装置、（８）はリング、（９）は偏向電磁
石を各示す。 １ フライぐゲ ２・カスチでン１ ２ａ・×線取出し口 ３ ・Ｘ線窓 ４ 放射光透過窓 ５ ・ど ムライン ６ チャンバ Ｘ線露光装置 ○Ｕ トスライにゲ ２−カスチャレバ ２ ａ−ｘ瞠取比シに ３ Ｘ線窓 ４ 放射光透過窓 ５ ビームライン 第 図 第 図 ２・・・ガスチャンバ ２ａ・・・ｘ１！取出し口 ３・−Ｘ線窓 ４・放射光透過窓 ５・・・ご ムライン １０・回転板 （Ｃ） ２ ガスチャンバ ２ａ・×線取出し口 ３・×簿窓 ４・放射元透過窓 ５−ビ ムライン ノング ９・ｙＡ次１！磁石 １１ シャッタ慣峻 第 図 ｅ ＵＴ
図、第２図は本実施例での雰囲気置換時におけるスライ
ドゲートの状態を示す説明図、第３図はＸ＠取出し時に
おけるスライドゲートの状態を示す説明図、第４図（ａ
）（ｂ）（ｃ）は耐圧密閉手段が回転板で構成される本
発明の他の実施例を示す説明図、第５図（ａ）（ｂ）は
耐圧密閉手段がシャッタ構成からなる本発明の別の実施
例を示す説明図、第６図はシンクロトロン放射光施設の
概要を示す平面図である。 図中（１） （１０） （１１）は耐圧密閉手段であっ
て、そのうち（１）はスライドゲート、（１０）は回転
板、（１１）はシャッタ構成を示している。又図中（２
）はガスチャンバ、（３）はＸ線窓、（４）は放射光透
過窓、（５）はビームライン、（６）はチャンバ、（７
）はＸｍ露光装置、（８）はリング、（９）は偏向電磁
石を各示す。 １ フライぐゲ ２・カスチでン１ ２ａ・×線取出し口 ３ ・Ｘ線窓 ４ 放射光透過窓 ５ ・ど ムライン ６ チャンバ Ｘ線露光装置 ○Ｕ トスライにゲ ２−カスチャレバ ２ ａ−ｘ瞠取比シに ３ Ｘ線窓 ４ 放射光透過窓 ５ ビームライン 第 図 第 図 ２・・・ガスチャンバ ２ａ・・・ｘ１！取出し口 ３・−Ｘ線窓 ４・放射光透過窓 ５・・・ご ムライン １０・回転板 （Ｃ） ２ ガスチャンバ ２ａ・×線取出し口 ３・×簿窓 ４・放射元透過窓 ５−ビ ムライン ノング ９・ｙＡ次１！磁石 １１ シャッタ慣峻 第 図 ｅ ＵＴ
Claims (1)
- 光源からシンクロトロン放射光を導くビームラインの放
射光取出し側に内部雰囲気の供給・排出系及び圧力調整
系を備えたガスチャンバを連設すると共に、該ガスチャ
ンバのＸ線取出し口に、このＸ線取出し口を気密状態で
閉塞できる耐圧密閉手段を設けたことを特徴とするＸ線
取出し装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241247A JP2513528B2 (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | Ｘ線取出し装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241247A JP2513528B2 (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | Ｘ線取出し装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04121699A true JPH04121699A (ja) | 1992-04-22 |
| JP2513528B2 JP2513528B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=17071399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2241247A Expired - Lifetime JP2513528B2 (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | Ｘ線取出し装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2513528B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6229102A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-07 | ティーディーケイ株式会社 | 正特性サーミスタ装置 |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP2241247A patent/JP2513528B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6229102A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-07 | ティーディーケイ株式会社 | 正特性サーミスタ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2513528B2 (ja) | 1996-07-03 |
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