JPH04118193A - Device for monitoring protective glass of laser beam machine - Google Patents
Device for monitoring protective glass of laser beam machineInfo
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- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ加工装置の保護ガラス監視装置に関し、
特にレーザ出射部に設けられた保護ガラスの汚れや破損
の状態を加工時に観察できるレーザ加工装置の保護ガラ
スの監視装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a protective glass monitoring device for laser processing equipment.
In particular, the present invention relates to a monitoring device for a protective glass of a laser processing apparatus that can observe dirt and damage on a protective glass provided in a laser emitting section during processing.
レーザ加工装置のレーザ光出射部には、レンズを被加工
物からのスパッタ等から保護する目的て保護ガラスが配
設される。ところが保護ガラス自体に汚れや破損が生じ
ると、レーザ光の透過率が悪くなり、被加工物へのレー
ザ光の出力が低下して加工不良が起きるので、保護ガラ
スの状態を常に最適な状態に維持する必要がある。その
ためには保護ガラスの状態を定期的に検査する必要があ
る。A protective glass is disposed in a laser beam emitting section of a laser processing device in order to protect the lens from sputtering and the like from a workpiece. However, if the protective glass itself becomes dirty or damaged, the transmittance of the laser beam will decrease, resulting in a decrease in laser beam output to the workpiece and machining defects, so it is important to always keep the protective glass in the optimal condition. need to be maintained. For this purpose, it is necessary to periodically inspect the condition of the protective glass.
従来のレーザ加工装置の保護ガラスを検査する装置の一
例としては、特開昭60−27489号公報に開示され
る。この従来装置は、レーザ溶接装置のノズルの先端孔
に対向して配置され且つ投光を行い、その反射光を受光
する機能を備えた検出装置を設け、この検出装置によっ
て保護ガラス等に付着する汚物を検出し、当該検出信号
を判定回路で基準値と比較し保護ガラスの状態の良否を
判定して出力装置にその結果を出力するように構成され
る。この装置では、レーザ光が出射されるノズルの先端
孔を利用して保護ガラスに対し光を照射しその反射光を
取り入れて保護ガラスにおけるレーザ光透過を妨げる障
害物を検出するようにしている。従って、この保護ガラ
スの検査装置の構成では、レーザ加工が実施されない時
に定期的に行われる。An example of a device for inspecting the protective glass of a conventional laser processing device is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-27489. This conventional device is equipped with a detection device that is placed opposite to the tip hole of the nozzle of the laser welding device and has the function of projecting light and receiving the reflected light. It is configured to detect dirt, compare the detection signal with a reference value in a determination circuit, determine whether the state of the protective glass is good or bad, and output the result to an output device. In this device, a tip hole of a nozzle through which laser light is emitted is used to irradiate light onto a protective glass, and the reflected light is taken in to detect an obstacle that obstructs the transmission of laser light through the protective glass. Therefore, in the configuration of this protective glass inspection apparatus, laser processing is performed periodically when laser processing is not performed.
前述した従来装置によれば、次のような第1〜第5の問
題が生じる。According to the conventional device described above, the following first to fifth problems occur.
第1に、ノズル先端の孔から保護ガラスを覗きこむとい
う検出装置の配置上の制約、及び汚れに関する情報の取
出し方の制約に起因してレーザ加工中に保護ガラスの汚
れを検出することができないという不具合がある。迅速
に且つ適切なタイミングで保護ガラスの汚れ状態を知る
必要かあるという観点から、レーザ加工中に保護ガラス
の汚れを検査できるということは非常に重要である。First, it is not possible to detect dirt on the protective glass during laser processing due to restrictions on the placement of the detection device, which requires looking into the protective glass through a hole at the tip of the nozzle, and restrictions on how to retrieve information about dirt. There is a problem. It is very important to be able to inspect the protection glass for dirt during laser processing, since it is necessary to know the dirt status of the protection glass quickly and at an appropriate timing.
第2に、検出装置で取出された汚れに関するレベル信号
を基準となる指定値と比較するだけであるので、保護ガ
ラスの汚れの内容を知ることができないという不具合が
ある。すなわち、大きなスパッタによる汚れか、又は粉
末状な汚れかを知ることができない。加工の種類又は被
加工物が異なる場合、あるいは微細な加工を行うという
場合、汚れの内容についての正確な情報を得ることが要
求される。Second, since the level signal related to dirt detected by the detection device is simply compared with a specified reference value, there is a problem in that the content of the dirt on the protective glass cannot be known. In other words, it is not possible to know whether the dirt is caused by large spatters or powdery dirt. When the types of machining or workpieces are different, or when fine machining is performed, it is necessary to obtain accurate information about the contents of contamination.
第3に、また保護ガラスにひび割れ等の破損が存在した
場合にもこれを検出することが困難である。Thirdly, it is difficult to detect any damage such as cracks in the protective glass.
第4に、レーザ光を出射するピンホールの如きノズルの
先端孔を介して保護ガラスの汚れ情報を取出すように構
成しているので、検出装置で検出できる保護ガラス上の
範囲が制限を受け、保護ガラスにおける非常に狭い範囲
しか検出することができないという不具合がある。従来
装置によれば、実際上、保護ガラスの全面の汚れを見る
ことは不可能である。Fourthly, since the configuration is such that the dirt information on the protective glass is extracted through the tip hole of the nozzle, which is like a pinhole that emits the laser beam, the range on the protective glass that can be detected by the detection device is limited. There is a problem in that only a very narrow area on the protective glass can be detected. According to conventional devices, it is practically impossible to see dirt on the entire surface of the protective glass.
第5に、保護ガラスの汚れを光の反射作用を利用して障
害物としてのみ検出し、判定回路で検出信号と指定値と
を比較して良否の判断を行うだけであるから、汚れの程
度を正確に知ることができないという不具合がある。Fifth, dirt on the protective glass is detected only as an obstacle by using light reflection, and the judgment circuit only compares the detection signal with a specified value to judge whether it is good or bad. The problem is that it is not possible to know exactly.
またレーザ加工装置では、保護ガラスの汚れ状態の観察
をレーザ加工中に行えるようにすると共に、被加工物の
レーザ光による加工状態も同時に観察できるようにする
ことが望ましい。Further, in the laser processing apparatus, it is desirable to be able to observe the contamination state of the protective glass during laser processing, and also to simultaneously observe the processing state of the workpiece by the laser beam.
本発明の目的は、上記問題に鑑み、特にレーザ加工中で
あっても正確に且つ容易に保護ガラスの汚れ状態を観察
することができ、また保護ガラスの汚れ状態の内容及び
程度を正確に知ることができ、更に保護ガラスの全面の
汚れ状態を知ることのできるレーザ加工装置の保護ガラ
ス監視装置を提供することにある。In view of the above-mentioned problems, an object of the present invention is to be able to accurately and easily observe the contamination state of the protective glass even during laser processing, and to accurately know the content and extent of the contamination state of the protective glass. It is an object of the present invention to provide a protective glass monitoring device for a laser processing device, which is capable of detecting dirt on the entire surface of the protective glass.
本発明の他の目的は、保護ガラスの汚れ状態と被加工物
における加工部の加工状態とを同時に観察することので
きるレーザ加工装置の保護ガラス監視装置を提供するこ
とにある。Another object of the present invention is to provide a protective glass monitoring device for a laser processing apparatus that can simultaneously observe the dirty state of the protective glass and the processed state of the processed portion of the workpiece.
本発明に係る第1のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、レーザ発振器から出射されたレーザ光を集光レン
ズで集光して被加工物に照射し、レーザ加工を行うよう
に構成され、集光レンズと被加工物との間に集光レンズ
を保護するための保護ガラスを備えたレーザ加工装置に
おいて、保護ガラスの被加工物側の面が集光レンズの焦
点位置となる位置関係を形成する反射ミラーを配置し、
集光レンズを通して且つ反射ミラーを用いて保護ガラス
を見るための装置を設けるように構成される。A first protective glass monitoring device for a laser processing device according to the present invention is configured to perform laser processing by focusing laser light emitted from a laser oscillator with a condensing lens and irradiating it onto a workpiece, In a laser processing device equipped with a protective glass for protecting the condensing lens between the condensing lens and the workpiece, the positional relationship is such that the surface of the protective glass on the workpiece side is the focus position of the condensing lens. Place a reflective mirror to form
It is arranged to provide a device for viewing the protective glass through the condensing lens and using a reflective mirror.
本発明に係る第2のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第1の構成において、前記反射ミラーにおけ
るレーザ光が通過する箇所に孔が形成されることを特徴
とする。A second protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to the present invention is characterized in that, in the first configuration, a hole is formed at a portion of the reflecting mirror through which the laser beam passes.
本発明に係る第3のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第2の構成において、保護ガラスを見るため
の前記装置により、保護ガラスを見ると共に、反射ミラ
ーの前記孔を通して被加工物の加工面を見るように構成
したことを特徴とする。A third protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to the present invention has the second configuration in which the device for viewing the protective glass allows the device to view the protective glass and monitors the workpiece through the hole of the reflection mirror. It is characterized by being configured so that the machined surface can be viewed.
本発明に係る第4のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第1〜第3のいずれか1つの構成において、
反射ミラーが凸面ミラーで形成されることを特徴とする
。A fourth protective glass monitoring device for a laser processing device according to the present invention has the following configuration:
It is characterized in that the reflecting mirror is formed of a convex mirror.
本発明に係る第5のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第1〜第4のいずれか1つの構成において、
保護ガラスの監視がレーザ加工中に行われることを特徴
とする。A fifth protective glass monitoring device for a laser processing device according to the present invention has the following configuration:
It is characterized in that the protective glass is monitored during laser processing.
本発明に係る第6のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第1〜第4のいずれか1つの構成において、
反射ミラーを出し入れ自在にする機構を有し、レーザ加
工時には反射ミラーを外に出し、非レーザ加工時には反
射ミラーを所定箇所に設置して監視を行うようにしたこ
とを特徴とする。A sixth protective glass monitoring device for a laser processing device according to the present invention has the following configuration:
It has a mechanism that allows the reflective mirror to be taken in and out, and is characterized in that the reflective mirror is taken out during laser processing, and the reflective mirror is installed at a predetermined location and monitored during non-laser processing.
本発明に係る第7のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第2又は第3の構成において、反射ミラーを
保護するミラー保護部材を設け、このミラー保護部材は
出し入れ自在に構成されることを特徴とする。A seventh protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to the present invention is provided with a mirror protection member that protects the reflecting mirror in the second or third configuration, and the mirror protection member is configured to be freely put in and taken out. It is characterized by
本発明に係る第8のレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置は、前記第1〜第7のいずれか1つの構成において、
保護ガラスを見るための装置が、カメラとモニタ装置に
よって構成されることを特徴とする。A protective glass monitoring device for a laser processing device according to an eighth aspect of the present invention has the configuration of any one of the first to seventh structures.
The device for viewing the protective glass is characterized by comprising a camera and a monitor device.
本発明によるレーザ加工装置の保護ガラス監視装置では
、レーザ光を集光して被加工物に照射せしめる集光レン
ズを通して保護ガラスを観察するための光学系の構成を
採用し、保護ガラスを観察するための装置として好まし
くは撮像装置であるカメラとモニタ装置とを使用し、且
つ前記カメラで保護ガラスの下面の像を得ることができ
るように所定の配置関係で反射ミラーを配設するように
した。実際上、反射ミラーは保護ガラスと被加工物の間
のほぼ中間位置に設置される。The protective glass monitoring device for laser processing equipment according to the present invention employs an optical system configuration for observing the protective glass through a condensing lens that condenses laser light and irradiates it onto the workpiece, and observes the protective glass. Preferably, a camera, which is an imaging device, and a monitor device are used as a device for this purpose, and reflective mirrors are arranged in a predetermined arrangement relationship so that the camera can obtain an image of the lower surface of the protective glass. . In practice, the reflective mirror is placed approximately midway between the protective glass and the workpiece.
反射ミラーは通常のミラーでも良いが、レーザ光の通過
する箇所に孔をあけたリング形状に形成するのが好まし
い。かかる形状にすれば、レーザ光により加工を行う時
にも反射ミラーをその設置位置に配設したままに保持す
ることができる。そして、前記モニタ装置で保護ガラス
を監視する時には、反射ミラーによって決まる領域で保
護ガラスの汚れの内容と程度を観察することができ、且
つ前記の孔部分で決まる領域で被加工物の加工面を観察
することができる。特にかかる観察をレーザ加工中に行
うことができる。また非加工中に行うことができるのは
勿論である。The reflecting mirror may be a normal mirror, but it is preferably formed into a ring shape with a hole through which the laser beam passes. With such a shape, the reflecting mirror can be maintained at its installation position even when processing is performed using laser light. When monitoring the protective glass with the monitor device, the content and degree of dirt on the protective glass can be observed in the area determined by the reflective mirror, and the machined surface of the workpiece can be observed in the area determined by the hole. can be observed. In particular, such observations can be made during laser processing. Of course, it can also be carried out during non-processing.
反射ミラー及び保護ガラスを見るための装置を用いて集
光レンズを通して保護ガラスを見る構成によれば、反射
ミラーで決まる視野により保護ガラスの下面の相当に広
い領域の汚れを明瞭に観察することが可能になった。特
に凸面ミラーで反射ミラーを形成すれば、保護ガラスの
下面全部を見ることも可能である。こうして保護ガラス
における汚れ及び破損等の情報を正確に得ることができ
る。According to a configuration in which the protective glass is viewed through a condenser lens using a reflective mirror and a device for viewing the protective glass, it is possible to clearly observe dirt in a considerably wide area on the lower surface of the protective glass using the field of view determined by the reflective mirror. It's now possible. In particular, if the reflecting mirror is formed of a convex mirror, it is possible to see the entire lower surface of the protective glass. In this way, information on dirt, damage, etc. on the protective glass can be accurately obtained.
更に反射ミラー自体が汚れることを防止するために、出
し入れ自在の構成を採用するか又はシャッタ部材を設け
る。これによれば、常に明瞭な保護ガラス等の画像を得
ることができる。Furthermore, in order to prevent the reflective mirror itself from getting dirty, a structure that allows it to be taken in and out is adopted, or a shutter member is provided. According to this, a clear image of the protective glass etc. can always be obtained.
以下に、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する
。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明に係るレーザ加工装置の保護ガラス監視
装置の第1実施例を示す。本図において、1はレーザ加
工装置の一部を示し、レーザ光が出射されるノズルであ
る。ノズル1内にはレーザ光を被加工物の所定表面に集
束させる集光レンズ2が配置され、図中その下側に位置
に保護ガラス3が配設されている。ノズル1の先部には
孔1aが形成され、この孔1aからレーザ光が外部に放
射される。ノズル1の先部の孔1aに対向させて被加工
物4が配置される。保護ガラス3は、ノズル1において
スリットと取付は溝を利用して装着され、出し入れ自在
であり、この構成を利用して汚れの程度がひどくなった
保護ガラス3を交換することができる。FIG. 1 shows a first embodiment of a protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to the present invention. In this figure, 1 indicates a part of the laser processing apparatus, and is a nozzle from which laser light is emitted. A condensing lens 2 for converging laser light onto a predetermined surface of a workpiece is disposed within the nozzle 1, and a protective glass 3 is disposed below the condensing lens 2 in the figure. A hole 1a is formed at the tip of the nozzle 1, and laser light is emitted to the outside from this hole 1a. A workpiece 4 is placed opposite the hole 1a at the tip of the nozzle 1. The protective glass 3 is attached to the nozzle 1 using a slit and an attachment groove, and can be taken in and out at will, and by using this configuration, the protective glass 3 that has become heavily soiled can be replaced.
5はレーザ発振器であり、レーザ発振器5からはレーザ
光6が出力される。レーザ発振器5から出力されたレー
ザ光6は、レーザ光のみを反射する反射ミラー7によっ
て集光レンズ2の方向に反射される。集光レンズ2に向
かうレーザ光は集光レンズ2で集束され、保護ガラス3
を透過し、孔1aを通過し、被加工物4の所定の箇所に
照射される。レーザ光6は集光レンズ2の集光作用で被
加工物4の配置箇所で焦点を結ぶように設定されている
。5 is a laser oscillator, and a laser beam 6 is output from the laser oscillator 5. The laser beam 6 output from the laser oscillator 5 is reflected toward the condenser lens 2 by a reflecting mirror 7 that reflects only the laser beam. The laser beam heading toward the condenser lens 2 is focused by the condenser lens 2, and then passes through the protective glass 3.
, passes through the hole 1a, and is irradiated to a predetermined location on the workpiece 4. The laser beam 6 is set to be focused at the location of the workpiece 4 by the condensing action of the condensing lens 2.
ノズル1の先端部の孔1aの周辺部の壁部1bの内面に
は、平板状の反射ミラー8が配設される。A flat reflecting mirror 8 is disposed on the inner surface of the wall 1b around the hole 1a at the tip of the nozzle 1.
反射ミラー8は正面形状がリング状の形状を有しており
、中央部の孔は孔1aと一致しており、その直径はaで
ある。また反射ミラー8の配置位置は、保護ガラス3の
下面と反射ミラー8の反射面との距離すが、反射ミラー
8の反射面と被加工物4の表面との距離にほぼ等しくな
るように設定される。すなわち、反射ミラー8は保護ガ
ラス3と被加工物4との間においてそのほぼ中間位置に
配設されている。この配置関係により、保護ガラス3と
集光レンズ2に関して、保護ガラス3の下面が集光レン
ズ2の焦点位置になるという関係が生じる。The reflecting mirror 8 has a ring-shaped front surface, and the hole in the center coincides with the hole 1a, and its diameter is a. Further, the placement position of the reflective mirror 8 is set so that the distance between the lower surface of the protective glass 3 and the reflective surface of the reflective mirror 8 is approximately equal to the distance between the reflective surface of the reflective mirror 8 and the surface of the workpiece 4. be done. That is, the reflective mirror 8 is disposed at a substantially intermediate position between the protective glass 3 and the workpiece 4. This arrangement creates a relationship between the protective glass 3 and the condensing lens 2 such that the lower surface of the protective glass 3 is at the focal point of the condensing lens 2.
かかる反射ミラー8に対して、反射ミラー7のレンズ2
側とは反対側の位置に光学カメラ9を配置し、カメラ9
で反射ミラー8に映る像を撮像するようにする。反射ミ
ラー7では、前述の通りレーザ光2を反射するが、撮像
のための光を透過する。従って、反射ミラー8に映る像
及び孔1aを通して見ることのできる被加工面に関する
像をカメラ9で撮像することができる。カメラ9で撮像
された反射ミラー8の映像情報等はモニタ装置10に与
えられ、このモニタ装置10の画面10aに表示される
。For such a reflecting mirror 8, the lens 2 of the reflecting mirror 7
An optical camera 9 is placed at a position opposite to the side, and the camera 9
The image reflected on the reflection mirror 8 is captured. The reflecting mirror 7 reflects the laser beam 2 as described above, but transmits the light for imaging. Therefore, the camera 9 can capture an image reflected on the reflection mirror 8 and an image of the surface to be processed that can be seen through the hole 1a. The image information of the reflecting mirror 8 captured by the camera 9 is given to the monitor device 10 and displayed on the screen 10a of the monitor device 10.
第2図はモニタ装置10の画面10aに映し出された画
像を示す。第2図において11は反射ミラー8の孔及び
ノズル1の先端部の孔1aを通して見ることのできる被
加工物4の加工面を示す像である。12は反射ミラー8
に映し出される像で、保護ガラス3の下面の状態を示す
像である。こうして、モニタ装置10では、領域11で
被加工物4の加工面の加工状態を観察することができ、
領域12で保護ガラス3の下面の汚れの内容及び程度、
更に破損等を観察することができる。以上の構成によれ
ば、カメラ9によって集光レンズ2の図中上側より監視
すべき像を取り入れるように構成しているため、レーザ
加工の最中においてモニタ装置10で、加工状態と保護
ガラス2の汚れ状態に関して観察することが可能となる
。また第1図に示される構成では、反射ミラー8に関し
平面状の反射面を有し且つ中央孔を有したミラーを使用
するようにしたため、保護ガラス3の中央部を見ること
ができないが、保護ガラス3の周辺部については相当広
い領域を見ることができる。なお、上記構成では、特に
保護ガラス3の下面が焦点位置になるように設定された
反射ミラー8を設けたため、保護ガラス3の下面の像を
鮮明に見ることができた。反射ミラー8が設けられない
場合には、集光レンズ2のレンズ作用で保護ガラス3の
下面の状況を鮮明に見ることはできない。FIG. 2 shows an image displayed on the screen 10a of the monitor device 10. In FIG. 2, reference numeral 11 is an image showing the machined surface of the workpiece 4 that can be seen through the hole of the reflecting mirror 8 and the hole 1a at the tip of the nozzle 1. 12 is a reflecting mirror 8
This is an image projected on the screen, which shows the state of the lower surface of the protective glass 3. In this way, with the monitor device 10, the machining state of the machined surface of the workpiece 4 can be observed in the area 11,
The content and degree of dirt on the lower surface of the protective glass 3 in the area 12;
Furthermore, damage etc. can be observed. According to the above configuration, since the camera 9 is configured to take in the image to be monitored from the upper side of the condenser lens 2 in the drawing, the processing state and the protective glass 2 can be monitored by the monitor device 10 during laser processing. It becomes possible to observe the state of contamination. In addition, in the configuration shown in FIG. 1, a mirror having a flat reflective surface and a central hole is used as the reflecting mirror 8, so the central part of the protective glass 3 cannot be seen. A considerably wide area can be seen around the periphery of the glass 3. In addition, in the above-mentioned structure, since the reflective mirror 8 was provided which was set so that the lower surface of the protective glass 3 was in particular the focal position, the image of the lower surface of the protective glass 3 could be clearly seen. If the reflecting mirror 8 is not provided, the condition of the lower surface of the protective glass 3 cannot be clearly seen due to the lens action of the condensing lens 2.
次に本発明の第2実施例を第3図に基づいて説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described based on FIG.
第2図は前記ノズル1の部分を示す断面図であり、第1
図に示した要素と同一の部分には同一の符号を付してい
る。この実施例では、リング状の反射ミラー8の代わり
に、反射面が凸面状に形成された反射ミラー18を配設
した。このように反射ミラー18の反射面を凸面状に形
成すると、カメラ9で捕らえることのできる範囲、すな
わちモニタ装置10の領域12で見ることのできる保護
ガラス3の範囲が拡大される。適宜に凸状反射面を形成
すれば、保護ガラス3の下面のほぼ全面を見ることがで
きる。第3図中、19は観察できる範囲を示している。FIG. 2 is a sectional view showing a portion of the nozzle 1.
The same parts as those shown in the figures are given the same reference numerals. In this embodiment, instead of the ring-shaped reflecting mirror 8, a reflecting mirror 18 having a convex reflecting surface is provided. By forming the reflective surface of the reflective mirror 18 in a convex shape in this manner, the range that can be captured by the camera 9, that is, the range of the protective glass 3 that can be seen in the area 12 of the monitor device 10 is expanded. By appropriately forming a convex reflective surface, almost the entire lower surface of the protective glass 3 can be seen. In FIG. 3, numeral 19 indicates the observable range.
第4図は本発明の第3実施例を示す。前記の実施例では
、特にレーザ加工装置の加工中に保護ガラス3を観察で
きる構成を示していた。本実施例では、専らレーザ加工
以外の時に保護ガラス3を観察するための構成を示す。FIG. 4 shows a third embodiment of the invention. In the embodiments described above, a configuration was shown in which the protective glass 3 could be observed especially during processing by the laser processing apparatus. This embodiment shows a configuration for observing the protective glass 3 exclusively during times other than laser processing.
カメラ9やモニター装置10等の基本的な構成は前記の
実施例の場合と同じであるので、その図示を省略する。The basic configurations of the camera 9, monitor device 10, etc. are the same as in the previous embodiment, so illustration thereof will be omitted.
この実施例では、反射ミラー8に相当する反射ミラー2
8を設けている。反射ミラー28は大型で且つ平板状に
形成され、上面に反射面を有し、ノズル21に形成され
たスリット及び取付は溝を利用して装着自在である。以
上の構成によれば、レーザ加工時には反射ミラー28は
外部に取出されて当該レーザ加工を実施し、非レーザ加
工時に反射ミラー28を差し入れて、保護ガラス3の下
面の汚れ等をモニタ装置10で観察するようにする。こ
の場合には被加工物4の加工面を見ることができないが
、保護ガラス3の下面については全面を観察することが
できる。またレーザ加工時には観察用の反射ミラー28
は取り除かれているので、加工中のスパッタ等で汚され
ることがない。なお29は保護ガラスの観察範囲である
。In this embodiment, a reflecting mirror 2 corresponding to the reflecting mirror 8 is used.
There are 8. The reflective mirror 28 is large and formed into a flat plate shape, has a reflective surface on its upper surface, and can be freely attached using a slit formed in the nozzle 21 and a groove. According to the above configuration, during laser processing, the reflecting mirror 28 is taken out to perform the laser processing, and during non-laser processing, the reflecting mirror 28 is inserted, and the monitor device 10 monitors dirt, etc. on the lower surface of the protective glass 3. Try to observe. In this case, although the processed surface of the workpiece 4 cannot be seen, the entire lower surface of the protective glass 3 can be observed. Also, during laser processing, there is a reflection mirror 28 for observation.
Since these are removed, they will not be contaminated by spatter during processing. Note that 29 is the observation range of the protective glass.
次に第5図及び第6図に基づいて本発明の第4実施例に
ついて説明する。この実施例では第1実施例の構成にお
いて反射ミラー8の反射面を保護するためのシャッタ又
は絞り等のミラー保護部材を設けた点に特徴がある。図
示されるミラー保護部材13は、シャッタ形式の保護部
材である。ノズル1の先部で対向する位置に2つのスリ
ットを形成し、これらのスリットから、第6図に示す如
く2つに分割されたミラー保護部材半体13Aと13B
を挿入するように構成される。実際はミラー保護部材1
3を開閉する開閉装置が必要であるが、この装置は任意
に設計できるので図示を省略する。ミラー保護部材半体
13A、13Bが一体になると、第1実施例の場合のミ
ラーと部分的に同じ形状になる。すなわち中央部に所定
の孔を有したリング状の形状となり、反射ミラー8の反
射面を覆い、反射面が汚れるの防止することが可能とな
る。Next, a fourth embodiment of the present invention will be described based on FIGS. 5 and 6. This embodiment is characterized in that a mirror protection member such as a shutter or an aperture for protecting the reflection surface of the reflection mirror 8 is provided in the structure of the first embodiment. The illustrated mirror protection member 13 is a shutter type protection member. Two slits are formed at opposing positions at the tip of the nozzle 1, and from these slits, as shown in FIG. 6, the mirror protection member halves 13A and 13B are separated into two.
configured to insert. Actually mirror protection member 1
Although an opening/closing device for opening and closing 3 is required, this device can be designed arbitrarily, so illustration thereof is omitted. When the mirror protection member halves 13A and 13B are integrated, they partially have the same shape as the mirror in the first embodiment. That is, it has a ring-like shape with a predetermined hole in the center, which covers the reflective surface of the reflective mirror 8, thereby making it possible to prevent the reflective surface from becoming dirty.
なお本発明では、TVシステムを利用したモニタ装置1
0で監視するように構成したが、ファインダを設けて目
視で観察できるように構成することもできる。また、モ
ニタ装置10に単に映し出すだけではなく、画像処理装
置を付設することにより、カメラ9で得られた画像情報
を画像処理で解析し、保護ガラス3の汚れの状況を定量
的に又は数値的に判断するように構成することも可能で
ある。Note that in the present invention, a monitor device 1 using a TV system is provided.
Although the configuration is configured to monitor at 0, it is also possible to configure a viewfinder to allow visual observation. In addition to simply displaying images on the monitor device 10, by attaching an image processing device, the image information obtained by the camera 9 can be analyzed through image processing, and the dirt status of the protective glass 3 can be quantitatively or numerically analyzed. It is also possible to configure the system to make a determination based on the following information.
上記において種々の実施例について説明したが、各実施
例は任意に組み合わせて構成することができるのは、勿
論である。Although various embodiments have been described above, it goes without saying that the embodiments can be combined in any desired manner.
以上の説明で明らかなように本発明によれば、保護ガラ
スの広い範囲にわたって明瞭な画像を得ることができ、
そのため保護ガラスの下面の汚れの内容及び程度を明瞭
に観察することができ、更に破損の情報を得ることがで
きる。反射ミラーに凸面を使用する場合には保護ガラス
の全面を観察することが可能となる。特に本発明によれ
ば、レーザ加工を行っていないときは勿論のこと、レー
ザ加工を行っている時にも保護ガラスの汚れの状態等を
観察することができ、レーザ加工装置の実施において迅
速に且つ適切な判断を得ることかできる。リング形状の
反射ミラーを用いるように構成したものでは、1台のモ
ニタ装置で保護ガラスの汚れ等と被加工物の加工面の状
態についての情報を得ることができ、極めて効率良く加
工作業の重要情報を得ることができる。また反射ミラー
を出し入れ自在としたもの、あるいはシャッタ部材を設
けたものでは、反射ミラー自体の汚れを防止することが
できる。As is clear from the above description, according to the present invention, a clear image can be obtained over a wide range of the protective glass,
Therefore, the content and extent of dirt on the lower surface of the protective glass can be clearly observed, and further information on damage can be obtained. When a convex reflective mirror is used, the entire surface of the protective glass can be observed. In particular, according to the present invention, it is possible to observe the state of dirt on the protective glass not only when laser processing is not being performed but also when laser processing is being performed, and it is possible to quickly and easily observe the state of dirt on the protective glass when laser processing is being performed. It is possible to obtain appropriate judgment. With a configuration that uses a ring-shaped reflective mirror, it is possible to obtain information about dirt on the protective glass and the condition of the machined surface of the workpiece with a single monitor, making it extremely efficient to monitor important aspects of processing operations. You can get information. In addition, if the reflecting mirror is made to be freely removable or if a shutter member is provided, the reflecting mirror itself can be prevented from becoming dirty.
第1図は本発明に係るレーザ加工装置の保護ガラス監視
装置の第1実施例を示す図、第2図はモニタ装置の表示
画面の映像を示す図、第3図は保護ガラス監視装置の第
2実施例を示す要部断面図、第4図は保護ガラス監視装
置の第3実施例を示す要部断面図、第5図は保護ガラス
監視装置の第4実施例を示す要部断面図、第6図はミラ
ー保護部材の正面図である。
〔符号の説明〕
1.21・
1a・・e
2・・・拳
3・−・・
4・・・・
5・・φ・
6・・・・
7・・1
8.18゜
9・・・
ノズル
ノズルの先端孔
集光レンズ
保護ガラス
被加工物
レーサ発振器
レーザ光
反射ミラー
・・・反射ミラー
カメラ
10・・・・・モニタ装置
11・・・・・加工面を示す領域
12・・・・・保護ガラスを示す領域
13・・・・・シャッタ部材FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a protective glass monitoring device for a laser processing device according to the present invention, FIG. 2 is a diagram showing an image of a display screen of a monitor device, and FIG. 4 is a sectional view of essential parts showing a third embodiment of the protective glass monitoring device; FIG. 5 is a sectional view of essential parts showing a fourth embodiment of the protective glass monitoring device; FIG. 6 is a front view of the mirror protection member. [Explanation of symbols] 1.21・ 1a・・e 2・・Fist 3・−・・ 4・・ 5・・φ・ 6・・ 7・・1 8.18°9・・Nozzle Tip hole of nozzle Condensing lens Protective glass Workpiece Laser oscillator Laser light reflecting mirror Reflection mirror Camera 10 Monitor device 11 Area showing the processed surface 12 Protective glass Area 13 showing shutter member
Claims (8)
ズで集光して被加工物に照射し、レーザ加工を行うよう
に構成され、前記集光レンズと前記被加工物との間に集
光レンズを保護するための保護ガラスを備えたレーザ加
工装置において、前記保護ガラスの被加工物側の面が前
記集光レンズの焦点位置となる位置関係を形成する反射
ミラーを配置し、前記集光レンズを通して且つ前記反射
ミラーを用いて前記保護ガラスを見るための装置を設け
たことを特徴とするレーザ加工装置の保護ガラス監視装
置。(1) A laser beam emitted from a laser oscillator is condensed by a condenser lens and irradiated onto the workpiece to perform laser processing, and the laser beam is condensed between the condenser lens and the workpiece. In a laser processing apparatus equipped with a protective glass for protecting an optical lens, a reflecting mirror is arranged such that a surface of the protective glass on the workpiece side is a focal point of the condensing lens, and A protective glass monitoring device for a laser processing device, comprising a device for viewing the protective glass through an optical lens and using the reflective mirror.
装置において、前記反射ミラーは、前記レーザ光が通過
する箇所に孔が形成されることを特徴とするレーザ加工
装置の保護ガラス監視装置。(2) The protective glass monitoring device for a laser processing device according to claim 1, wherein the reflective mirror has a hole formed at a location through which the laser beam passes.
装置において、前記保護ガラスを見るための前記装置に
より、前記保護ガラスを見ると共に、前記反射ミラーの
前記孔を通して前記被加工物の加工面を見るように構成
したことを特徴とするレーザ加工装置の保護ガラス監視
装置。(3) In the protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to claim 2, the device for viewing the protective glass not only views the protective glass, but also allows the machined surface of the workpiece to be viewed through the hole of the reflective mirror. A protective glass monitoring device for a laser processing device, characterized in that the device is configured to monitor the protective glass of a laser processing device.
装置の保護ガラス監視装置において、前記反射ミラーは
凸面ミラーであることを特徴とするレーザ加工装置の保
護ガラス監視装置。(4) The protective glass monitoring device for a laser processing device according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflective mirror is a convex mirror.
装置の保護ガラス監視装置において、保護ガラスの監視
はレーザ加工中に行われることを特徴とするレーザ加工
装置の保護ガラス監視装置。(5) The protective glass monitoring device for a laser processing device according to any one of claims 1 to 4, wherein the protective glass is monitored during laser processing. .
装置の保護ガラス監視装置において、前記反射ミラーを
出し入れ自在にする機構を有し、レーザ加工時には反射
ミラーを外に出し、非レーザ加工時には反射ミラーを所
定箇所に設置して監視を行うようにしたことを特徴とす
るレーザ加工装置の保護ガラス監視装置。(6) The protective glass monitoring device for a laser processing device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a mechanism that allows the reflective mirror to be taken in and out, and the reflective mirror is taken out during laser processing and is not 1. A protective glass monitoring device for a laser processing device, characterized in that a reflective mirror is installed at a predetermined location for monitoring during laser processing.
ス監視装置において、前記反射ミラーを保護するミラー
保護部材を設け、このミラー保護部材は出し入れ自在に
構成されることを特徴とするレーザ加工装置の保護ガラ
ス監視装置。(7) The protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to claim 2 or 3, wherein a mirror protection member for protecting the reflecting mirror is provided, and the mirror protection member is configured to be freely put in and taken out. Equipment protective glass monitoring device.
装置の保護ガラス監視装置において、前記保護ガラスを
見るための装置は、カメラとモニタ装置によって構成さ
れることを特徴とするレーザ加工装置の保護ガラス監視
装置。(8) In the protective glass monitoring device for a laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 7, the device for viewing the protective glass is constituted by a camera and a monitor device. Protective glass monitoring device for processing equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2234214A JPH04118193A (en) | 1990-09-04 | 1990-09-04 | Device for monitoring protective glass of laser beam machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2234214A JPH04118193A (en) | 1990-09-04 | 1990-09-04 | Device for monitoring protective glass of laser beam machine |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04118193A true JPH04118193A (en) | 1992-04-20 |
Family
ID=16967485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2234214A Pending JPH04118193A (en) | 1990-09-04 | 1990-09-04 | Device for monitoring protective glass of laser beam machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04118193A (en) |
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