JPH04117606A - Magnetic head device - Google Patents
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的〕
（産業上の利用分野）
この発明は、磁気記録再生装置、例えばビデオテープレ
コーダ（ＶＴＲ）に使用される磁気ヘッド装置に関する
もので、特に高密度記録再生用として高周波特性、耐摩
耗特性、飽和特性、再生効率に優れた磁気ヘッド装置に
関する。Detailed Description of the Invention [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a magnetic head device used in a magnetic recording/reproducing device, such as a video tape recorder (VTR), and particularly relates to a magnetic head device used in a high-density recording device. The present invention relates to a magnetic head device for reproduction that has excellent high frequency characteristics, wear resistance characteristics, saturation characteristics, and reproduction efficiency.
（従来例）
ＶＴＲに使用される磁気ヘッドの材料として、高密度記
録にともなう磁気記録媒体の高抗磁力化に対応するため
、飽和磁束密度の高い磁性材料である金属磁性膜、例え
ばセンダストやアモルファス膜が近年用いられるように
なっている。金属磁性膜は、真空薄膜形成装置、例えば
スパッタ装置を用いて非磁性基板上に形成され、これを
もとに磁気へラドコアが構成される。(Conventional example) As materials for magnetic heads used in VTRs, metal magnetic films, which are magnetic materials with high saturation magnetic flux density, such as sendust and amorphous, are used to cope with the increase in coercive force of magnetic recording media that accompanies high-density recording. Membranes have come into use in recent years. The metal magnetic film is formed on a nonmagnetic substrate using a vacuum thin film forming apparatus, such as a sputtering apparatus, and a magnetic helad core is constructed based on the metal magnetic film.
第１１図は従来の金属磁性膜積層型磁気ヘッド１０１を
示している。FIG. 11 shows a conventional metal magnetic film laminated magnetic head 101. As shown in FIG.
１０１Ａ、ｌ０ＩＢはコア半体であり、少なくとも一方
のコア半体（図示の例では１０１ Ｂ）には、コア半体
１０１Ａとの対向部分に巻線溝１０７が切り込むように
形成されている。またコア半体１０１Ｂの後方であって
コア半体１０１Ａに対向する部分にはガラス充填溝１０
８が形成されている。101A and 10IB are core halves, and a winding groove 107 is formed in at least one core half (101B in the illustrated example) in a portion facing the core half 101A. Further, a glass filling groove 10 is provided at the rear of the core half body 101B and in a portion facing the core half body 101A.
8 is formed.
さらに巻線溝１０７を挟むコア半体１０１Ａ。Furthermore, the core half body 101A sandwiching the winding groove 107.
１０１Ｂの側部で、巻線溝１０７と対向する側部にはそ
れぞれ巻線規制溝１０９Ａ、１０９Ｂが半体を切り込む
ように形成されている。Winding regulating grooves 109A and 109B are formed on the sides of the winding groove 101B, facing the winding groove 107, respectively, so as to cut into the halves.
コア半体１０１Ｂはコア半体１０１Ａに対して、巻線溝
１０７を閉じるように突き合わせられる。The core half 101B is butted against the core half 101A so as to close the winding groove 107.
この場合、テープ摺接側であるフロント側の突き合わせ
面にはギャップ長ｇ１を形成するように酸化物（非磁性
体）、例えばＳ＋０□、Ｚ、０□、Ａ１□０．などを挟
持し、さらにガラス１０６により接合補強されている。In this case, an oxide (non-magnetic material) such as S+0□, Z, 0□, A1□0. etc., and is further bonded and reinforced by glass 106.
ガラス１０６は、巻線溝１０７及びガラス充填溝１０８
にも充填されている。また巻線溝１０７と巻線規制溝１
０９Ａ、１０９Ｂに渡って巻線１１０が施されている。The glass 106 has a winding groove 107 and a glass filling groove 108.
It is also filled. In addition, the winding groove 107 and the winding regulating groove 1
A winding 110 is applied across 09A and 109B.
ところで、上記コア半体１０１Ａ、ｌ０ＩＢの肉厚構造
は以下のようになっている。By the way, the thickness structure of the core halves 101A and 10IB is as follows.
肉厚方向の両側には非磁性体１０２Ａ。Non-magnetic material 102A is provided on both sides in the thickness direction.
１０２Ｂが配置され、この非磁性体１０２Ａ。102B is arranged, and this non-magnetic material 102A.
１０２Ｂは例えばガラス材、セラミック材、昇磁、性フ
ェライト材等であり、その間に金属磁性膜１０４を複数
層挟み込んでいる。つまり、ヘッドの肉厚方向へ、金属
磁性膜１０４を挟み込んでいる。102B is, for example, a glass material, a ceramic material, a magnetized material, a magnetic ferrite material, etc., and a plurality of metal magnetic films 104 are sandwiched therebetween. In other words, the metal magnetic film 104 is sandwiched in the thickness direction of the head.
金属磁性膜１０４は、金属磁性膜自身の比抵抗に起因す
る表皮効果（スキンデプス）による磁束の減衰を防止す
るため、次式で与えられるスキンデプスδの２倍以下に
膜厚を制御されており、また各膜の間には絶縁膜１０５
（例えばＳ＋０２）などを同様にスパッタ装置等で形成
し、トラ・ツク幅ＴＷＩ （−金属磁性膜厚×ｎ倍）
を得ている。The thickness of the metal magnetic film 104 is controlled to be less than twice the skin depth δ given by the following equation in order to prevent magnetic flux from attenuating due to the skin effect (skin depth) caused by the resistivity of the metal magnetic film itself. There is also an insulating film 105 between each film.
(For example, S+02) etc. are similarly formed using a sputtering device etc., and track width TWI (-metal magnetic film thickness x n times)
I am getting .
スキンデプスδ−９／ （ｙｒ〒７丁
但し ρ：磁性膜の比抵抗
ｆ：使用周波数
μ：磁性膜の透磁率
上記の磁気ヘッド１０１は、コア部が金属磁性膜１０４
の厚みにより構成されている。このため、再生効率を含
めた高周波特性は充分ではない。Skin depth δ-9/ (yr〒7〒 ρ: Specific resistance of the magnetic film f: Operating frequency μ: Magnetic permeability of the magnetic film The magnetic head 101 described above has a core made of a metal magnetic film 104
It is made up of the thickness of For this reason, high frequency characteristics including reproduction efficiency are not sufficient.
特に、最近の高品位映像信号用のＶＴＲに使用したり、
メタルテープなどに対応させるには１０ＭＨｚ以上の信
号出力が不十分であった。さらに磁気ヘッド製造プロセ
スにおいては、コア半体１０１Ａ、ｌ０ＩＢの金属磁性
膜１０４を、全体にわたってずれることなく突き合わせ
ギャップ部を構成する機械精度も非常に難しい。In particular, it is used in VTRs for recent high-definition video signals,
The signal output of 10 MHz or higher was insufficient to support metal tapes and the like. Furthermore, in the magnetic head manufacturing process, it is extremely difficult to achieve mechanical precision in aligning the metal magnetic films 104 of the core halves 101A and 10IB without shifting over the entirety to form a gap portion.
（発明が解決しようとする課題）
以上説明したように、従来の磁気ヘッドは、金属磁性膜
の厚み分だけで、ヘッドコアループを構成しているため
に、コア半体同志の突き合わせ精度に非常に厳格な精度
が要求される。またコアループの導電部の厚みも制限を
受けるために再生効率、飽和特性、高周波特性などの充
分な特性が得られていない。(Problems to be Solved by the Invention) As explained above, in conventional magnetic heads, since the head core loop is formed only by the thickness of the metal magnetic film, the accuracy of alignment between the core halves is extremely low. requires strict precision. Further, since the thickness of the conductive portion of the core loop is also limited, sufficient characteristics such as reproduction efficiency, saturation characteristics, and high frequency characteristics cannot be obtained.
そこでこの発明は、高周波特性が良好であり、製造プロ
セスにおいてもコア半体の突き合わせ精度を緩和できる
磁気へ・ラド装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic rad device that has good high frequency characteristics and can reduce the accuracy of butting the core halves during the manufacturing process.
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
この発明は、金属磁性膜と絶縁層とを交互に積層し、そ
の積層厚みがトラック幅となり、その厚み方向両側面か
ら側面部材がガラス等により接合されたコア半体が巻線
溝を囲むようになるル−プ形のコアに、ガラス充填溝、
巻線規制溝が形成され、前記コア半体の突き合わせによ
りギヤ・ツブ部が形成され、かつ前記コア半体の少なく
とも一方に形成した前記巻線溝に巻線を巻回して構成さ
れる磁気ヘッド装置において、
前記側面部材がフロントギヤ・ツブ部で非磁性材料、バ
ックギャップ部で酸化物磁性材料となり、その接合は銀
ロウ箔、活性金属箔、銀ロウ箔の三層ロウ付けとしたも
のである。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In this invention, metal magnetic films and insulating layers are alternately laminated, the thickness of the laminated layers becomes the track width, and the side members are formed of glass or the like from both sides in the thickness direction. The core halves joined by the loop-shaped core surround the winding groove, and the glass-filled groove is
A magnetic head in which a winding regulating groove is formed, a gear lub portion is formed by butting the core halves, and a winding is wound in the winding groove formed in at least one of the core halves. In the device, the side member is made of a non-magnetic material at the front gear knob part and an oxide magnetic material at the back gap part, and the joining is done by three-layer brazing of silver solder foil, active metal foil, and silver solder foil. be.
（作用）
上記の手段により、酸化物磁性体の厚みが増大し、コア
ループ導電性が充分となり、再生効率、飽和特性、高周
波特性が充分となり、また、コア半体も突き合わせ精度
が緩和され製造が容易であるとともに、歩留まりも向上
する。(Function) By the above means, the thickness of the oxide magnetic material is increased, the core loop conductivity is sufficient, the regeneration efficiency, saturation characteristics, and high frequency characteristics are sufficient, and the butting accuracy of the core halves is relaxed, making manufacturing easier. Not only is it easy, but it also improves yield.
（実施例） 以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図はこの発明の一実施例である。ＩＡ。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. I.A.
ＩＢは薄い板状のコア半体であり、コア半体ＩＢの一方
の肉厚側面が、他方のコア半体ＩＡの肉厚側面に対向さ
せられて、突き合わせられている。IB is a thin plate-shaped core half, and one thick side surface of the core half IB is opposed to and butted against the thick side surface of the other core half IA.
この場合コア半体ＩＢのフロントギャップ部（テープ摺
接側）の近辺で、コア半体ＩＡに対向する肉厚側面には
、切り込むように巻線溝７が形成されている。またコア
半体ＩＢの後方部でコア半体ＩＡに対向する部分には、
ガラス充填溝８が切り欠くように形成されている。これ
により、コア半体１ＡとＩＢは、巻線溝７を囲むループ
のコアを形成している。In this case, a winding groove 7 is formed in the vicinity of the front gap portion (tape sliding contact side) of the core half IB on the thick side surface facing the core half IA. In addition, in the rear part of the core half IB facing the core half IA,
A glass filling groove 8 is formed in a cutout manner. Thereby, the core halves 1A and IB form a loop core surrounding the winding groove 7.
さらに巻線溝７を挾むコア半体ＩＡ、ＩＢの肉厚側面で
、巻線溝７と対向する側部にはそれぞれ巻線規制溝９Ａ
、９Ｂが半体を外側から切り込むように形成されている
。Furthermore, on the thick side surfaces of the core halves IA and IB that sandwich the winding groove 7, winding regulating grooves 9A are provided on the sides facing the winding groove 7, respectively.
, 9B are formed to cut into the half body from the outside.
コア半体ＩＢはコア半体ＩＡに対して、巻線溝７を閉じ
るように突き合わせられるが、この場合、フロント側の
突き合わせ面にはギャップ長ｇを形成するように酸化物
（非磁性体） 例えばＳｈｏ□、Ｚ、０２ 、Ａｌ ２
０．などを挟持し、さらにガラス６により接合補強され
ている。ガラス６は、巻線溝７及びガラス充填溝８にも
充填されている。また巻線溝７と巻線規制溝９Ａ、９Ｂ
に渡って巻線が施されている。The core half IB is butted against the core half IA so as to close the winding groove 7, but in this case, an oxide (non-magnetic material) is applied to the front abutting surface to form a gap length g. For example, Sho□, Z, 02, Al 2
0. etc., and is further bonded and reinforced with glass 6. The winding groove 7 and the glass filling groove 8 are also filled with glass 6 . In addition, the winding groove 7 and the winding regulation grooves 9A and 9B
Windings are applied over the entire length.
この磁気ヘッド１において、コア半体ＩＡとＩＢの構造
は、以下のように構成されている。In this magnetic head 1, the structure of the core halves IA and IB is configured as follows.
肉厚方向の両側面には酸化物磁性体板２Ａ。Oxide magnetic plates 2A are provided on both sides in the thickness direction.
２Ｂが配置されるが、この酸化物磁性体板２Ａ。2B is arranged, and this oxide magnetic material plate 2A.
２Ｂのフロントギャップ側は、非磁性体板３Ａ。The front gap side of 2B is a non-magnetic plate 3A.
３Ｂ例えばガラス材、セラミック材、非磁性フェライト
材等であり、その間に金属磁性膜４を複数層挾み込んで
いる。この非磁性体板３Ａ、３Ｂと酸化物磁性体板２Ａ
、２Ｂとの境界は、その接合は銀ロウ箔、活性金属箔、
銀ロウ箔の三層ロウ付けであり、丁度巻線溝７の位置を
横切るような位置に設定されている。3B is, for example, a glass material, a ceramic material, a non-magnetic ferrite material, etc., and a plurality of metal magnetic films 4 are sandwiched therebetween. These non-magnetic plates 3A and 3B and the oxide magnetic plate 2A
, 2B, the bond is made of silver solder foil, active metal foil,
It is a three-layer brazing process using silver solder foil, and is set at a position that exactly crosses the position of the winding groove 7.
なお金属磁性膜４は、スキンデプスを考慮して絶縁膜５
例えばＳ、Ｏ２などで各層を分離積層しており、金属磁
性膜４の層の正数倍により所定のトラック幅ＴＷを得て
いる。Note that the metal magnetic film 4 is made of an insulating film 5 in consideration of the skin depth.
For example, each layer is separated and laminated using S, O2, etc., and a predetermined track width TW is obtained by multiplying the number of layers of the metal magnetic film 4 by a positive number.
上記の構造の磁気ヘッド１によると、酸化物磁性体板２
Ａ、２Ｂによりヘッドの導電部の厚みが増大し、コアル
ープ導電性が充分となり、再生効率、飽和特性、高周波
特性が充分となり、また、コア半体も突き合わせ精度が
緩和され製造が容易であるとともに、歩留まりも向上す
る。According to the magnetic head 1 having the above structure, the oxide magnetic plate 2
With A and 2B, the thickness of the conductive part of the head is increased, the core loop conductivity is sufficient, the reproduction efficiency, saturation characteristics, and high frequency characteristics are sufficient, and the core halves have eased butting accuracy and are easy to manufacture. , yield is also improved.
次に、上記の磁気ヘッド１の特徴部の製造工程を第２図
以下を参照して説明する。Next, the manufacturing process of the characteristic parts of the above-mentioned magnetic head 1 will be explained with reference to FIG. 2 and subsequent figures.
第２図は、酸化物磁性材料２０．例えばＭ０Ｚ９フェラ
イト（単結晶、多結晶を含む）が所定の寸法ＩＸｈｌＸ
ｗで結晶方位を整えて（単結晶の場合）仕上げられる。FIG. 2 shows an oxide magnetic material 20. For example, M0Z9 ferrite (including single crystal and polycrystal) has a predetermined size IXhlX
It can be finished by adjusting the crystal orientation (in the case of a single crystal) with w.
特に上面側１１は、鏡面仕上げされる。In particular, the upper surface side 11 is mirror-finished.
次に第３図に示すように、非磁性体で耐摩耗性のある材
料３０例えば、セラミック（予め所定の寸法ＩＸｈ２Ｘ
ｗに仕上げられ、特に下面側１４は鏡面仕上げされてい
る）が、以下のように酸化物磁性材料２０に接合される
。即ち、非磁性材料３０と酸化物磁性材料２０の間に、
活性金属（周期率表■族、■族）１２例えば、Ｔ、箔（
厚み１〜１０μｍ）と銀ロウ箔１３例えば、ＢＡ、−８
（厚み１０〜５０μｍ）が図のように重ねられ、全体が
真空若しくはＡ、雰囲気で加圧・加熱される。このとき
の接合温度は例えば、８ｏｏ〜９００” Ｃである。Next, as shown in FIG. 3, a non-magnetic and wear-resistant material 30, such as ceramic
w, and in particular the lower surface side 14 is mirror finished) is joined to the oxide magnetic material 20 as follows. That is, between the nonmagnetic material 30 and the oxide magnetic material 20,
Active metals (groups ■ and ■ of the periodic table) 12 For example, T, foil (
thickness 1 to 10 μm) and silver solder foil 13, e.g. BA, -8
(thickness: 10 to 50 μm) are stacked as shown in the figure, and the whole is pressurized and heated in vacuum or atmosphere A. The bonding temperature at this time is, for example, 8oo to 900''C.
第４図は上記のように酸化物磁性体２ｏに非磁性体材料
３０が接合されたブロック１６を示している。このとき
銀ロウとＴ１により生じる反応式は以下の通りである。FIG. 4 shows the block 16 in which the non-magnetic material 30 is bonded to the oxide magnetic material 2o as described above. The reaction formula occurring between the silver solder and T1 at this time is as follows.
酸化物磁性材料側 １’ｅｒｒ１ｔｅ ０ｘｉｄｅ ＋
ＴＩ非磁性体材料側 Ｃｅｒａｌｃ ０ｘｉｄｅ ＋Ｔ
ｌこの反応により、ＴｌＯ２、Ｔ１□Ｏ，、ＴＩ Ｏな
る生成物が生じる。これは付着力のある生成物である。Oxide magnetic material side 1'err1te Oxide +
TI non-magnetic material side Ceralc Oxide +T
This reaction produces the products TlO2, T1□O,, TIO. This is a sticky product.
次に、このブロックは、その側面１５が鏡面仕上げされ
る。This block is then mirror-finished on its sides 15.
次に、第５図に示すように側面１５には、金属磁性膜４
０例えば、センダスト、アモルファスが真空薄膜形成装
置、例えばスパッタ装置により、トラック幅ＴＷ−膜厚
ｔＭの関係で形成されたブロック６０が得られる。Next, as shown in FIG. 5, a metal magnetic film 4 is formed on the side surface 15.
For example, a block 60 is obtained in which sendust or amorphous is formed using a vacuum thin film forming apparatus, such as a sputtering apparatus, in a relationship of track width TW - film thickness tM.
金属磁性膜４０は、第６図にＡ部を拡大して示すように
、金属磁性膜４０が絶縁膜５０（例えば５ｉ０２などを
５００〜５０００オングストロームの厚さとしている）
と交互に積層されて構成されている。この理由は、先に
も述べたように、金属磁性膜のスキンデプスの影響を考
慮したからである。As shown in the enlarged view of part A in FIG. 6, the metal magnetic film 40 is an insulating film 50 (for example, 5i02 with a thickness of 500 to 5000 angstroms).
It is composed of alternating layers. The reason for this is that, as mentioned earlier, the influence of the skin depth of the metal magnetic film was taken into account.
次に、第７図に示すように、複数のブロック６０が金属
磁性膜４０を挟むように重ねられ、最後に第４図に示し
たブロック】６が重ねられる。Next, as shown in FIG. 7, a plurality of blocks 60 are stacked so as to sandwich the metal magnetic film 40, and finally the block 6 shown in FIG. 4 is stacked.
この場合、予め各ブロックの突き合わせ面には接合ガラ
ス膜が１〜１０μｍ１スパッタリング若しくはスクリー
ン印刷で形成されており、所定の条件のもとて加圧・加
熱することによりブロックが一体化される。In this case, a bonding glass film of 1 to 10 μm is previously formed on the abutting surfaces of each block by sputtering or screen printing, and the blocks are integrated by pressurizing and heating under predetermined conditions.
次に、この合体ブロックは、第７図に一点鎖線で示す位
置で、所定のピッチＰｃで切断加工される。このときギ
ャップにアジマスが必要な場合は、金属磁性膜４０のエ
ツジ（ギャップ）に垂直なラインに対して、アジマス角
０分が確保されて斜めに切断される。Next, this combined block is cut at a predetermined pitch Pc at the positions indicated by the dashed lines in FIG. At this time, if the gap requires an azimuth, the cut is made diagonally with respect to a line perpendicular to the edge (gap) of the metal magnetic film 40 with an azimuth angle of 0 minutes ensured.
この切断加工により得られた、第８図（Ａ）、（Ｂ）に
示すブロック７０．７１の少なくとも一方には、巻線溝
７とガラス充填溝８が砥石加工により形成される。図の
例では、第８図（Ｂ）のブロック７１に形成されている
。In at least one of the blocks 70 and 71 shown in FIGS. 8(A) and 8(B) obtained by this cutting process, a winding groove 7 and a glass filling groove 8 are formed by grinding. In the illustrated example, it is formed in block 71 in FIG. 8(B).
さらにブロック７０，７］のギャップ対向面は、鏡面仕
上げされ、どちらか一方には、ギャップ長ｇに相当する
厚みに酸化物、例えば５１０２膜がスパッタリングによ
り形成される。Further, the gap-opposing surfaces of the blocks 70, 7] are mirror-finished, and an oxide, for example, a 5102 film, is formed on either one by sputtering to a thickness corresponding to the gap length g.
次に、第９図に示すように、ブロック７０と７１とはギ
ャップ面を対向させて突き合わせられ、磁性膜４０同志
がトラッキング（位置合わせ）され、ガラス材６により
加圧・加熱接合される。その後、巻線規制溝９が砥石加
工により形成される。Next, as shown in FIG. 9, the blocks 70 and 71 are butted against each other with their gap surfaces facing each other, the magnetic films 40 are tracked (aligned), and the glass material 6 is pressed and heated to bond them. Thereafter, the winding regulating groove 9 is formed by grinding.
次に、２点鎖線で示す位置で、つまり金属磁性膜４０を
挟む位置で、ピッチＰｓでスライス加工、例えば内周、
外周スライサー、マルチワイヤソー等により接合ブロッ
クのスライスによる切り出しが行われる。Next, at the positions shown by the two-dot chain lines, that is, at the positions sandwiching the metal magnetic film 40, slicing is performed at a pitch Ps, for example, on the inner circumference.
The joint block is cut out by slicing using a peripheral slicer, a multi-wire saw, or the like.
これにより、第１０図に示すようなヘッドチップを多数
得ることができる。次に、このヘッドチップ１００は、
点線で示した形状に研磨され、磁気記録媒体摺接面、デ
プス制御が行われ、第１図に示した磁気ヘッド１に仕上
げられる。このとき、酸化物磁性材料と非磁性体材料と
の接合境界２３は、予めブロック寸法ｈ１とｈ２（第２
図、第３図参照）を調整しておくことにより、巻線溝７
のデプスエンド部２４と°巻線溝７の後縁２５までの間
で任意に設定することができる。As a result, a large number of head chips as shown in FIG. 10 can be obtained. Next, this head chip 100 is
It is polished into the shape shown by the dotted line, and the magnetic recording medium sliding contact surface and depth control are performed to complete the magnetic head 1 shown in FIG. At this time, the bonding boundary 23 between the oxide magnetic material and the non-magnetic material is determined in advance by block dimensions h1 and h2 (second
(see Fig. 3), the winding groove 7
The depth can be arbitrarily set between the depth end portion 24 and the rear edge 25 of the winding groove 7.
［発明の効果］
以上説明したようにこの発明によれば、高周波特性が良
好であり、製造プロセスにおいてもコア半体の突き合わ
せ精度を緩和できる。また、テープ摺接面では、非磁性
体材料（例えばセラミック）の選定により耐摩耗性を制
御できる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the high frequency characteristics are good, and the accuracy of matching the core halves can be relaxed in the manufacturing process. Furthermore, the wear resistance of the tape sliding surface can be controlled by selecting a non-magnetic material (eg, ceramic).
第１図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第２図乃至
第１０図はこの発明の磁気ヘッド装置の製造工程を説明
するために示した工程説明図、第１１図は従来の磁気ヘ
ッド装置を示す斜視図である。
１、Ａ、ＩＢ・・・コア半体、２Ａ、２Ｂ・・・酸化物
磁性体板、３Ａ、３Ｂ・・・非磁性体板、４・・・金属
磁性膜、５・・・絶縁膜、６・・・ガラス、７・・・巻
線溝、８・・・ガラス充填溝、９・・・巻線規制溝。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
？
第１区
１Ａ、旧−一−コア１本
２Ａ、２Ｂ−−一社占えろと、１′ｔｌＩ石ｔＷ＋を体
ａ３Ａ、３Ｂ−ｑ）ｉＢｉｉ４拳猥
４−一一一金り亀性膿
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６−−−−カ゛ラス
第１１区
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ＩＯＺＡ、１０２Ｂ−−−？ＦＴａｔＬＪｔ社１０４−
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１０５−−一恍緯毀
１＋ｏ−−一老壺東FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of the present invention, FIGS. 2 to 10 are process explanatory diagrams for explaining the manufacturing process of the magnetic head device of the present invention, and FIG. 11 is a conventional magnetic head device. It is a perspective view showing a head device. 1, A, IB... Core half, 2A, 2B... Oxide magnetic plate, 3A, 3B... Non-magnetic plate, 4... Metal magnetic film, 5... Insulating film, 6... Glass, 7... Winding groove, 8... Glass filling groove, 9... Winding regulating groove. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suzue? 1st ward 1A, old-1-core 1 2A, 2B--Ichisha divination, 1'tlI stone tW+ body a3A, 3B-q) iBii4 fist obscene 4-111 gold turtle pus 5 ``-Untimely 6----Karasu 11th Ward'jFP --- & AI XO3+ a month jJIA'';
11% to 1, F+c1cJA, t09B-4joyjLe
Shihe (11---"<"ya,)・f(IOZA, 102B---?FTatLJt company 104-
--Metal f dew ↑su loss 105--Ikkou latitude deterioration 1+o--Ichiro pot east
Claims (2)
厚みがトラック幅となり、その厚み方向両側面から側面
部材がガラス等により接合されたコア半体が巻線溝を囲
むような形となるループ形のコアに、ガラス充填溝、巻
線規制溝が形成され、前記コア半体の突き合わせにより
ギャップ部が形成され、かつ前記コア半体の少なくとも
一方に形成した前記巻線溝に巻線を巻回して構成される
磁気ヘッド装置において、 前記側面部材がテープ摺接側となるフロントギャップ部
で非磁性材料、バックギャップ部で酸化物磁性材料とな
り、その接合は銀ロウ箔、活性金属箔、銀ロウ箔の三層
ロウ付けであることを特徴とする磁気ヘッド装置。(1) A metal magnetic film and an insulating layer are alternately laminated, the thickness of the laminated layers becomes the track width, and the core halves, in which the side members are joined by glass or the like from both sides in the thickness direction, surround the winding groove. A glass-filled groove and a winding regulation groove are formed in the loop-shaped core, a gap is formed by butting the core halves, and the winding groove formed in at least one of the core halves is formed. In a magnetic head device configured by winding a winding wire, the side member is made of a non-magnetic material at the front gap portion where the tape slides, and an oxide magnetic material at the back gap portion, and the bonding is made of silver solder foil, active material, etc. A magnetic head device characterized by three-layer brazing of metal foil and silver solder foil.
、前記巻線溝のデプスエンド部と後縁部との間に選定さ
れていることを特徴とする請求項第１項記載の磁気ヘッ
ド装置。(2) The bonding position of the non-magnetic material and the oxide magnetic material is selected between a depth end portion and a rear edge portion of the winding groove. magnetic head device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23592890A JPH04117606A (en) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | Magnetic head device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23592890A JPH04117606A (en) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | Magnetic head device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04117606A true JPH04117606A (en) | 1992-04-17 |
Family
ID=16993316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23592890A Pending JPH04117606A (en) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | Magnetic head device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04117606A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6856832B1 (en) | 1997-12-25 | 2005-02-15 | Nihon Kohden Corporation | Biological signal detection apparatus Holter electrocardiograph and communication system of biological signals |
-
1990
- 1990-09-07 JP JP23592890A patent/JPH04117606A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6856832B1 (en) | 1997-12-25 | 2005-02-15 | Nihon Kohden Corporation | Biological signal detection apparatus Holter electrocardiograph and communication system of biological signals |
| US7433731B2 (en) | 1997-12-25 | 2008-10-07 | Nihon Kohden Corporation | Biological signal detection system |
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