JPH04115521A - レジスト膜乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体基板（以下ウェハと呼ぶ）表面に塗布さ
れたフォトレジスト膜を加熱し、乾燥させるレジスト膜
乾燥装置に関する。

〔従来の技術〕

第３図（ａ）及び（ｂ）は従来のレジスト膜乾燥装置の
一例を示す平面図及びＡＡ断面図である。従来、この種
のレジスト膜乾燥装置は第３図（ａ）及び（ｂ）に示す
ように、基台４にはめ込まれたヒータブロック２と、こ
のヒータブロック２に埋設された指示ビン５と、図面に
は示していないが、排気穴をもつカバーとを有していた
。また、ウェーハ１０を加熱し、ウェーハ１０に塗布さ
れたフォトレジスト膜８の溶剤を蒸発させ、乾燥してい
た。また、スループット向上のなめにヒータを２〜３個
直列に並べた構造となっていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のレジスト膜乾燥装置は、ウェーハ表面に
塗布されたフォトレジスト膜を乾燥させるのに必要とさ
れる時間が６〜８分という長い時間を必要とした。また
熱伝導によってウェーハを介して加熱されるため、フォ
トレジスト膜の表面と内側が均一に加熱されないので、
フォトレジスト膜表面の溶剤のみ蒸発し、内部に溶剤が
残ってしまうという欠点があった。

本発明の目的は、かかる欠点を解消するレジスト膜乾燥
装置を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のレジスト膜乾燥装置は、半導体基板を収納する
オーブンケースと、このオーブンケース内にマイクロ波
を導入する導波管と、マイクロ波を発生する手段と、前
記オーブンケース内に取付けられるとともにマイクロ波
を攪拌する攪拌器とを備え構成されている。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例を示すレジスト膜乾燥装置の
断面図である。このレジスト膜乾燥装置は、同図に示す
ように、ウェーハ１０を収納するオーブンケース１と、
このオーブンケース１の底部に埋設されるとともにウェ
ーハ１０を載置する支持ビン５と、オーブンケース１の
上部に導波管６を介して取付けられるとともにマイクロ
波を発生する磁電管３と、オーブンケース１の上部に取
付けられるとともにマイクロ波を攪拌する攪拌器７とを
有している。

このフォトレジスト膜乾燥装置の動作は、まず、オーブ
ンケース１内にウェーハ１０を収納し、支持ビン５の上
に乗せる。次に、磁電管３よリマイクロ波を発生する。

これと同時に攪拌器７が回転する。このことにより、マ
イクロ波は導波管６を伝わり、オーブンケース１に入射
され、攪拌器７で産卵され、ウェーハ１０のフォトレジ
スト膜８へ入射される。この入射したマイクロ波のエネ
ルギーによりフォトレジスト膜８が加熱され、内部から
溶剤が蒸発する。

ちなみに、マイクロ波の周波数を数ＧＨｚで、フォトレ
ジスト膜の乾燥を行ったところ、１０秒程度で所要の乾
燥度が得られた。また、このフォトレジスト膜の内部表
面とも均一な乾燥度であった。

第２図に本発明の他の実施例を示す。レジスト膜乾燥装
置の断面図である。このレジスト膜乾燥装置は、同図に
示すように、ウェーハ１０を吸着する真空チャック１１
と、この真空チャックを回転させるスピンモータ９を設
けたことである。その他は、前述の実施例と同じである
。また、この真空チャック１１の回転方向は、攪拌器７
と反対方向に回転する。

この実施例では、ウェーハが回転しているためウェーハ
面内の加熱むらをより少なくできるという利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、ウェーハ表面に塗布され
たフォトレジスト膜に照射するマイクロ波を発生する手
段を設けることにより加熱を行うため、レジスト膜内部
より加熱されるので、より短時間で均一な乾燥度に出来
るレジスト膜乾燥装置が得られるという効果がある。

示す平面図及びＡＡ断面図である。

１・・・オーブンケース、２・・・ヒータブロック、３
・・・磁電管、４・・・基台、５・・・支持ビン、６・
・・導波管、７・・・攪拌器、８・・・フォトレジスト
膜、９・・・スピンモータ、１０・・・ウェーハ、１１
・・・真空チャック。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体基板を収納するオーブンケースと、このオーブン
   ケース内にマイクロ波を導入する導波管と、マイクロ波
   を発生する手段と、前記オーブンケース内に取付けられ
   るとともにマイクロ波を攪拌する攪拌器とを備えること
   を特徴とするレジスト膜乾燥装置。