JPH0389315A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、大面積になし得る液晶包蔵薄膜とその製造方
法に関するもので、本発明の液晶デバイスは、視野の遮
断、開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、透
過を電気的または熱的に操作し得るものであって、建物
の窓やショーウィンドウで視野遮断のスクリーンや、採
光コントロールのカーテンに利用されると共に、文字や
図形を表示し、高速応答性を以って電気的又は熱的にそ
の表示を切換えることによって、広告板、案内板、装飾
表示板等の表示用デバイスとして利用される。

（従来の技術） 電極層を有していても良い、少なくとも一方が透明な２
枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光層が
液晶材料及び透明性固体成分から成り、前記液晶材料が
連続相を形成し、前記透明性固体物質が前記液晶材料中
に粒子状又は３次元ネットワーク状に存在している液晶
デバイス（以下、液晶デバイスという、〉の製造方法に
おいて、調光層構成材料を介在し、２枚の基板を重ね合
せ圧着硬化させる場合の１方の基板に調光層構成材料を
塗布する方法として中央にドーム状に塗布する事や基板
の一方の縁部に一様に塗布する方法等がとられていた。

（発明が解決しようとする課題） 従来技術による塗布方法の場合、基板の大型化や基板間
隔が厚くなる等のため塗布液量が増大した場合、液体の
界面張力が不足するとドーム状の塗布では中央部が凹状
となり、又、周縁部分に塗布する場合も中央部分に凹部
が生じる為他方の基板を重ね合せる場合に間部分に気泡
が入ってしまい、大型の液晶デバイスを製造する方法で
は不適当であった。

本発明者等は、調光層構成材料の塗布方法に関し、重ね
合せ及び圧着時に気泡の巻き込みのない方法について研
究を進めた結果、本発明に到達した。

（課題を解決するための手段） 本発明は、上記課題を解決するために、電極層を有して
も良い、少くとも一方が透明な２枚の基板の一方の基板
に調光層構成材料である、液晶材料を混合した硬化性組
成物を塗布する第１工程と、この塗布された硬化性組成
物の上方から、もう−方の基板を重ね合せた後２枚の基
板の両側から圧力をかけ、次いで硬化性＆ｌｌ威物を硬
化処理する第２工程よりなる液晶デバイスの製造方法に
おいて硬化性＆Ｉｔｃ物を基板上で大略ンベ　形を成す
如く塗布し両基板間の圧力で該硬化性ｍ酸物を基板面全
面に展開することにより、気泡の巻き込みのない液晶デ
バイスの製造方法を提供する。

さらに、前記調光層が液晶材料及び硬化された透明性固
体物質からなり液晶材料が連続相を形成し、透明性固体
物質が液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワーク状に
存在している前記方法による液晶デバイスの製造方法を
提供する。

基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等であって
も良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフ
ィルムの如きものであっても良い。

そして基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その２枚の間に挟持される調光層を外視から視覚させ
るものでなければならない。

但し、完全な透明性を必須とするものではない。

もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側から他
方の側へ通過する光に対して作用させるために使用され
る場合は、２枚の基板は共に適宜な透明性が与えられる
。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電
極が、その全面または部分的に配置されても良い。

但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材料
の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定し
て、本発明の製造方法を用いることが出来る。

２枚の基板間には液晶材料及び透明性固体成分から成る
調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常、周
知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介
在させるのが望ましい。

スペーサーとしては、例えばマイラー、アルξす等積々
の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロンドタ
イプのガラスファイバーが好適である。

基板間隔の均一性を得るためにはスペーサーが基板面に
均一に分布させることが重要であり、その為に■スペー
サーを前記調光層構成材料に懸濁、分散させ、スペーサ
ーが分離又は沈降しない間に、その懸濁又は分散液を基
板の全面に押し広げる方法、又は■あらかじめスペーサ
ーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用突起
物を設けておく方法がある。あらかじめ散布しておく方
法としては、例えば、スペーサーを低沸点で比較的粘性
の高いエタノール等の低沸点溶媒に懸濁させ、その懸濁
液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥させる方法があり
、印刷等の方法で基板面にスペーサー用突起物を設ける
方法も効果的である。

液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しない
のは勿論で、２種以上の液晶化合物や液晶化合物以外の
物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分野
で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのう
ちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。用いら
れる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチンク液晶
、コレステリンク液晶が好ましい。

液晶材料としては、たとえば、４−置換安息香酸４′−
置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボ
ン酸４′−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４′−置換ビフェニルエステル、４−　
（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸
４′−置換フェニルエステル、４−　（４−置換シクロ
ヘキシル）安息香９４　’−２１フェニルエステル、４
−　（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４′−置換シ
クロヘキシルエステル、４−置換４′−置換ビフェニル
、４−置換フェニルー４′−直換シクロヘキサン、４−
置換４＃−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル４′
−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル〉−５
−置換ピリミジンなどを挙げることができる。

液晶材料は、２枚の基板間で連続相を形成することを要
する。液晶材料成分の比率が低いと連続相を形成しにく
い、調光層成分に占める液晶材料の比率は、好ましくは
６０重量％以上であり、より一層好ましくは７０〜９０
重量％である％は重量％を意味する。）。

硬化性組成物としては、高分子形成性モノマー若しくは
オリゴマー及び必要に応じて重合開始剤が挙げられ、硬
化によって、液晶材料の連続相中に３次元ネットワーク
を形成するものであれば良い。

そのような高分子形成性モノマーとしては、例えば、ス
チレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シク
ロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチ
ル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジ
ル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、
３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノ
エチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有するア
クリレート、メタクリレート又はフマレート；エチレン
グリコール、ポリエチ（以下、 レンゲリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ｌ、３−ブチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン及びペンタエリスリトール等のモノ　（メタ）アクリ
レート又はポリ　（メタ〉アクリレート；酢酸ビニル、
酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セ
チルビニルエーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジア
リルフタレート、ジアリルイソフタレート、２−３−又
は４−ビニルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチ
ルアクリルアもド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリル
アミド及びそれらのアルキルエーテル化合物、ネオペン
チルグリコール１モルに２モル以上のエチレンオキサイ
ド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオー
ルのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロ
ピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はト
リ　（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに
２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオ
キサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート１モ
ルとフェニルイソシアネート若しくはｎ−ブチルイソシ
アネート１モルとの反応生成物、ジペンタエリスリトー
ルのポリ　（メタ）アクリレート等を挙げることができ
るが、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリス（アク
リルオキシエチル）イソシアヌレートが特に好ましい。

同様に、高分子形成性オリゴマーとしては、例えば、 （１）　　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に（メタ）
アクリル酸、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪
酸をエステル化させて得たエポキシ（メタ）アクリレー
トあるいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポ
キシ（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸
ジ無水物、無水トリメリット酸を付加して得たカルボキ
シル基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの如きエ
ポキシ（メタ）アクリレート及びその変性物。

（２）英国特許第１．１４７．７３２号明細書（特開昭
５１−３７１９３号公報及び特開昭５１−１３８７９７
号公報）に記載されているようなジイソシアナート化合
物とポリオールとを予め反応させて得られる末端イソシ
アナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレ
ート及び／又はメタクリレートを反応せしめることによ
って得られる分子内に２個以上のアクリロイロキシ基及
び／又はメタクリロイロキシ基をもった付加重合性化合
物。

（３）特公昭４７−３２６２号公報に記載されているよ
うな無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘット酸のような二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートとを
開環重合して得られるアクリロイロキシ基及び／又はメ
タクリロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポ
リエステル化合物。

（４）特公昭４７−２３６６１号公報に記載されている
ような隣接炭素原子に少くとも３個のエステル化可能な
ヒドロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル酸
及び／又はメタクリル酸と、ジカルボン酸およびその無
水物からなる群から選択されたジカルボン酸類との共エ
ステル化によって製造された重合可能なエステル類。

（５）英国特許第６２８．１５０号明細書、米国特許第
３．０２０．２５５号明細書および月刊誌「マクロモレ
キュールズ」第４巻、第５号、第６３０〜６３２頁（１
９７１年）に記載されているごときメラミンまたはベン
ゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコールお
よびβ−ヒドロキシアルキルアクリレート（またはメタ
クリレート）等を反応せしめて得られるポリアクリル（
またはポリメタクリル）変性トリアジン系樹脂。

（６）米国特許筒３．３７７．４０６号明細書に記載さ
れているようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエー
テル化物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて
得られる不飽和ポリエステル樹脂。

（７）米国特許筒３．４５５，８０１号明細書及び米国
特許筒３，４５５．８０２号明細書に記載されている一
般式（ここにおいてＲは炭素原子数２〜１０個の２価の
飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′は炭素原
子数２〜１０個の２個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、
Ｒ″は水素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜１４の整
数である。） で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有するポリエステル化合物。

（８）米国特許筒３．４８３．１０４号明細書及び米国
特許筒３．４７０．０７９号明細書に記載されている一
般式（ここにおいてＡは一〇−又は−ＮＨ−を示し、１
分子中で少なくとも２個は−Ｎトであるものとし、Ｒは
二価の飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を示し
、Ｒ′は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭
化水素を示し、Ｒ″は水素原子又はアルキル基を示し、
ｎは１〜１４の整数であるもとする。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性〉
ポリアミド化合物。

（９）　　特公昭４８−３７２４６号明細書に記載され
ている一般式 （ここにおいてＸは水素原子又はアシル基を示し、Ｒは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、Ｒ′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ２は
水素原子又はアルキル基を示すものとし、Ａは一〇−又
は、−ＮＨ−を示し、１分子中で少なくとも２個は−Ｎ
Ｈ−であるものとし、ｎは１〜１４の整数である。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

αω　米国特許筒３，４８５，７３２号明細書に記載さ
れているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無水
物、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを反応さ
せて得られる両末端にカルボキシル基を有する化合物に
更にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリ
レートを反応せしめることにより得られるジアクリル変
性（又はジメタクリル変性）ポリエステル化合物。

αＤ　特公昭４８−１２０７５号明細書に記載されてい
るごとき分子中に一般式、 −ＣＨｔ−Ｃ−Ｒ Ｃ００ＣＨｚ−ＣＩ−ＣＬＯＯＣ−Ｃ武■８Ｘ （ここにおいてＸはアシル基又はウレタン基を示し、Ｒ
は、Ｈ，ＣＨ，、（Ｊ又はＣＮであるものとする。） で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づく化合
物。

等を挙げることができるが、カプロラクトン変性ヒドロ
キシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアク
リレートが特に好ましい。

重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−■−フェニルプロパンー１−オン（メルク社製「
ダロキュア１１７３Ｊ　）　、１−ヒドロキシシクロへ
キシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イルガキ
ュア１８４　Ｊ）　、１−　（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１１６Ｊ　）　、ベンジル
ジメチルケターノ？（チバ・ガイギー社製「イルガキュ
ア６５１　Ｊ　”）　、２−メチル−１−（４−（メチ
ルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロバノン−１（
チバ・ガイギー社製「イルガキュア９０７　Ｊ　）　、
２．４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤ
キュアＤＥＴＸＪ　）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ　Ｊ　）との混
合物、イソプロピルチオキサントン（ワードプレキンソ
ップ社製「カンタキエアーＩＴＸ　Ｊ　）とｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、
液状である２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンが液晶材料、高分子形成性モノマー
若しくはオリゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光増
感剤、染料、架橋剤等を、前記モノマーオリゴマー等の
種類や、所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜併用
することができる。

特に連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマーの種
類によっては極めて効果的で、樹脂の架橋度が高くなり
過ぎるのを防止し、それによって、液晶材料が電界に応
じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される。連鎖
移動剤の好例は、ブタンジオールジチオプロビオネート
、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオ
ネート）、トリエチレングリコールジメルカプタン等々
である。連鎖移動剤の添加量は、使用するモノマー又は
オリゴマーの種類によっても異なるが、あまりに少ない
と効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度が低下し
て表示のコントラストが悪くなる傾向にあるので好まし
くない。その有効量は、モノマー又はオリゴマーに対し
て０．０５〜３０重量％と考えられるが、０．１〜２０
重置％が好適である。

液晶材料を混合した硬化性組成物、即ち調光層構成材料
を塗布する場合は、デイスペンサーを用い、さらにＸ、
Ｙ、Ｚ方向の駆動がコントロールできるロボット機構を
有する溶液塗布装置を用いる事が好適であり、むらのな
い線引きが可能である。ｌｌ光層構成材料の基板への塗
布の仕方としてはトベ字型の各線の太さを中央部は太く
角の方にむかって細くする事が好ましい、中央の線の長
さ又は角にむかう線との長さの比は基板の形によって適
宜決められるが、各線の交点における各線間の角度が１
２０度となるように決めるのが良い。

この塗布方法は特に角形の基板に有効であり調光層構成
材料の広がり方を均一にすることができる。

基板にかける圧力は、基板間に介在する調光層構成材料
の性状によって決められる。特に前記調光層構成材料の
粘度により、圧力の大きさが左右される。高粘度なもの
ほど必要とする圧力は大きい。

操作上、圧力が低い方が有利であるが、そのような目的
のために種々の減粘化方法をとることが出来る０例えば
、温度を上げること、又、液晶デバイスの性能を阻わな
い範囲で調光層構成材料に極性の小さい低分子量のモノ
マクリレート等を添加することが有効である。

圧力のかけ方は、基板面全体に均等にかかるようにする
ことが重要であり、そのように工夫された種々の機械を
使うことが出来る。

また、本発明の液晶デバイスの製造方法において、調光
層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わせる基板
が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面に該基板
の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板を該塗布
面に接近させることにより、調光層中に気泡が混入する
ことを有効に防止することができる。更に調光層構成材
料から成る塗布面に重ね合わせる基板を、１〜１０秒毎
に１〜５０μｍ／秒で１〜５秒間、該塗布面に接近させ
る方法が、特に有効である。

これらの時間間隔及び速度の設定にあたっては、作業効
率を考慮し、可能な限り短かく又は速いことが望ましい
。

硬化性組成物を重合硬化させる方法は通常知られている
硬化方法であればよく、例えば熱重合放射線重合電子線
重合等があげられるが、紫外線照射による重合硬化方法
が好適である。

紫外線重合硬化方法において、■硬化温度を前記調光層
構成材料の液晶相−等方性液体相の相転移温度より高温
に設定し、■前記混合溶液のＵＶ吸収波長や硬化性組成
物に応じて、又、基板間隔の厚みにより、重合性に差が
生じない程度の強い紫外線をパルス状に照射することに
より、基板間に介在し液晶材料の連続相中に生成する透
明性固体成分の３次元ネットワークの網目の大きさを均
−化及び大きさのコントロールをし、もって明瞭なしき
い値電圧と急峻性をもった液晶表示素子即ち、時分割駆
動表示できる液晶デバイスを製造することが出来る。

（作　用） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、調光層構成
材料の基板への塗布方法をＨ字型にすることにより重ね
合せ及び圧着工程で気泡の巻き込みを防止出来る。その
為欠陥のない均一な大型液晶デバイスを提供することが
出来る。

（実施例〉 以下図面を用いて本発明の実施例について具体的に説明
する。

実施例１ 第１図において、あらかじめグラスファイバー製スペー
サー（平均太さ１２．１±０．１５μｍ）３を散布され
ているガラス基板（３０，５Ｘ２１．５ｃｍ四方、１．
６　ｖｍ厚、ＩＴＯ電極付）１上に液晶材料としてＲＯ
−５７１（ロッシェ社製ネマチフク液晶組成物）８０重
量部と重合性モノマーとしてポリプロピレングリコール
ジアクリレート（新中村化学社製ＡＰＧ−４００）　　
１９．６重量部及び重合開始剤として２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン０．４
重量部からなる調光層構成材料２を４０℃と等方性液体
状態で、自動溶液塗布装置を用い、第１図の如く塗布し
た。この場合中央の部分４は２度塗布し、部分５より２
倍の液量を塗布した。全体で２．４ｗＪ塗布した０次い
で上方より別のガラス基板（３０Ｘ２１ｃｍ四方１．６
■厚ＩＴＯ電極付）をゆっくりと重ね合せ、調光層構成
材料２と接触してからは間欠的に２５０５クロン／分の
速度で重ね合せた。第２図はその途中の状態を示したも
のであり液の広がり方が均等方向へ向っている。その為
重ね合せにおける気泡の混入は見られなかった。第３図
は全面に液が広がった状態で基板間隔がスペーサーの厚
みに合うよう０．３ｋｇ／−の全面に均等となる圧力を
基板にかけ圧着した。

次いで透明な基板を通して光強度４０ｍｗ／ｃｄ（於３
６５ｎｍ付近）の紫外線を１５秒間照射し重合性モノマ
ーを硬化させた。

このようにして得られた液晶デバイスは気泡によるピン
ホールやむらのない均一に白濁したものであった。

（発明の効果） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、調光層の厚
さが均一で、調光層に気泡の混入がない優れた液晶デバ
イスを提供することができる。

従って、本発明の液晶デバイスの製造方法を用いること
によって、視野遮断のスクリーン、採光調節のカーテン
、文字や図形の大型表示板等に用いる液晶デバイスを効
率的に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は、本発明に係わる液晶デバイスの製
造方法の過程を示す液晶デバイスの平面図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、電極層を有しても良い、少くとも一方が透明な２枚
   の基板の一方の基板面に調光層構成材料である、液晶材
   料を混合した硬化性組成物を塗布する第１工程と、この
   塗布された硬化性組成物の上方からもう一方の基板を重
   ね合せた後、圧着し次いで硬化性組成物を硬化処理する
   第２工程より成る液晶デバイスの製法において硬化性組
   成物を基板上で大略■形を成す如く塗布し、両基板間の
   圧力で該硬化性組成物を基板全面に展開することを特徴
   とする液晶デバイスの製造方法。 ２、調光層が液晶材料及び硬化された透明性固体物質か
   ら成り、液晶材料が連続相を形成し、透明性固体物質が
   液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワーク状に存在し
   ている請求項１記載の液晶デバイスの製造方法。 ３、大略■形の塗布形状を、基板の形状、 例えば正方形、長方形、円形、楕円形等に応じて中央横
   線の長さ及び太さを調節し、左右拡開線部分の線の長さ
   、太さ及び拡開角度を調節することにより調整する請求
   項１又は２記載の液晶デバイスの製造方法。 ４、調光層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わ
   せる基板が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面
   に該基板の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板
   を該塗布面に接近させることを特徴とする請求項１、２
   又は３記載の液晶デバイスの製造方法。 ５、調光層構成材料から成る塗布面に重ね合わせる基板
   を、１〜１０秒毎に１〜５０μｍ／秒で１〜５秒間、該
   塗布面に接近させることを特徴とする請求項４記載の液
   晶デバイスの製造方法。 ６、正の誘電率異方性を示す液晶材料を用いる請求項１
   、２、３、４又は５記載の液晶デバイスの製造方法。 ７、液晶材料が調光層構成材料の６０重量％以上を占め
   る請求項１、２、３、４、５又は６記載の液晶デバイス
   の製造方法。 ８、硬化性組成物が紫外線硬化型樹脂組成物である請求
   項１、２、３、４、５、６又は７記載の液晶デバイスの
   製造方法。 ９、硬化性組成物の硬化温度条件が、調光層構成材料の
   液晶相から等方性液体相への相転移温度よりも高い温度
   である１、２、３、４、５、６、７又は８記載の液晶デ
   バイスの製造方法。 １０、調光層構成材料がスペーサーを含有する請求項１
   、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の液晶デバイ
   スの製造方法。 １１、スペーサーを均一に分散させた基板を用いる請求
   項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の
   液晶デバイスの製造方法。 １２、印刷によってスペーサー用突起物を設けた基板を
   用いる請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１
   ０又は１１記載の液晶デバイスの製造方法。