JPH0386706A

JPH0386706A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0386706A
Application number: JP1223184A
Authority: JP
Inventors: Keisuke Funaki; 圭介舟木; Yuichi Oki; 祐一大木
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1989-08-31
Filing date: 1989-08-31
Publication date: 1991-04-11
Anticipated expiration: 2014-03-08
Also published as: JP2866673B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は磁気記録媒体に関し、詳しくはすべり性、平滑
性、温度及び湿度に対する寸法安定性等にすぐれ、磁気
テープ、磁気ディスク、磁気ドラム、磁気カードなどに
有用な磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題］従来か
ら、磁気記録媒体としてポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ）フィルム支持体に磁性層を塗布したものが広く
用いられている。しかし、ＰＥＴフィルムは耐水性が劣
り、高温、高湿下で加水分解するおそれがあり、使用に
耐えなくなる場合がある。また、ＰＥＴのガラス転移温
度は、６０〜７０°Ｃであり、それ以上の高温下での使
用には、伸び等が生じやすいため、必ずしも信頼性が充
分でない。

一方、近年に至って磁気記録媒体が高密度化する傾向に
あり、その信頼性への要求が高まっている。高密度化の
一つの手段として蒸着法があるが、ＰＥＴフィルムでは
耐熱性が不足し、またオリゴマー析出等の問題がある。

ところで、本発明者らのグループが先般開発した主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体は
、ＰＥＴに比べ、耐熱性、耐水性や寸法安定性にすぐれ
、しかもオリゴマーの少ない重合体であって、様々な用
途が期待されている。

そこで、本発明者らはこの主としてシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体を用いて、高温、高温等
の過酷な条件下でも信頼性の高い磁気記録媒体を開発す
べく鋭意研究を重ねた。

〔課題を解決するための手段〕

その結果、上記スチレン系重合体又はその組成物の延伸
フィルムあるいは該延伸フィルムを含む積層フィルムで
あって、線膨張係数及び静摩擦係数が一定範囲にある基
材フィルムに磁性層を有するものが、上記目的に適う磁
気記録媒体になることを見出した。本発明はかかる知見
に基いて完成したものである。

すなわち本発明は、主としてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体又はその組成物の延伸フィルム
あるいは該延伸フィルムを含む積層フィルムであって、
線膨張係数が５Ｘ１０−’／°Ｃ以下及び静摩擦係数が
０．３以上１．０以下である基材フィルムの少なくとも
片面に磁性層を有する磁気記録媒を提供するものである
。

本発明では磁気記録媒体の基材フィルムとして、上述し
た延伸フィルムからなる単層フィルムあるいは該延伸フ
ィルムを含む積層フィルムが用いられる。また、この基
材フィルムは、線膨張係数が５　Ｘ　１０−５／℃以下
、好ましくは４　Ｘ　１０−５／℃以下であり、また、
この基材フィルムの静摩擦係数μｓについては、０．３
〜１．０、好ましくは０．３〜０．９である。この静摩
擦係数μｓは、基材フィルムの表面状態を規定するもの
であるが、特に基材フィルムの磁性層形成側と反対側表
面の静摩擦係数μｓが、上記範囲にあることが望ましい
。

また、この基材フィルムの表面粗さＲａについては、特
に制限はないが、少なくともその片面の表面粗さＲａが
、０．００１〜０．０５　ｕｍであることが好ましく、
特に０．００１〜０．０４μｍが最適である。とりわけ
、磁性層形成側の基材フィルムの表面粗さＲａが上記範
囲にあることが望ましい。

なお、上記基材フィルムの湿度膨張係数については、特
に制限はないが、５Ｘ１０−’／％ＲＨ以下が好ましい
。

このような本発明の磁気記録媒体のベースフィルムを作
成するにあたっては、各種の方法があるが、具体的には
下記（１）〜（３）の三つの方法を例示することができ
る。

（１）主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体に、無機微粒子を配合してなる組成物、特に
、平均粒径０．０１〜３μｍの無機微粒子を０．００１
−１重量％配合してなる組成物を加熱溶融、押出、冷却
固化、加熱、延伸、熱処理して延伸フィルムを形成する
。これによって、この延伸フィルムのみからなる両面が
平滑かつ粗面化された易滑な単層フィルムが得られる。

（２）上記（１）で用いた組成物と、主としてシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体、特に残留ア
ルミニウム分が３０００ｐｐｍ以下、残留チタン分が１
０ｐｐｍ以下及び残留スチレン系単量体が７０００ｐｐ
ｎ＋以下の高純度のスチレン系重合体、あるいはこのス
チレン系重合体を主成分とする組成物（但し、無機微粒
子を含有しない。）とを加熱溶融、共押出、冷却固化、
加熱、延伸、熱処理して二種類あるいはそれ以上の延伸
フィルムを積層状態で形成する。これによって、片面が
超平滑で他面が粗面化された易滑な多層（積層）フィル
ムが得られる。

（３）主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体、特に残留アル旦ニウム分が３０００ｐｐｍ
以下、残留チタン分が１０ｐｐｍ以下及び残留スチレン
系単量体が７０００ｐｐｎ＋以下の高純度のスチレン系
重合体あるいはこのスチレン系重合体を主成分とする組
成物（但し、無機微粒子を含有しない。）を、加熱溶融
、押出、冷却固化、加熱。

延伸、熱処理する過程でその少なくとも片面に、表面粗
面化可能な樹脂或いは無機超微粒子を含有する樹脂Ｍ放
物からなる層を、貼り合わせ（ラミネート）、塗布ある
いは蒸着等により形成させることによって、片面が超平
滑でもう一方の面が粗面化された易滑な多層フィルムが
得られる。この際上記樹脂組成物からなる層は、必要に
応じて延伸したものを用いてもよい。

ここで、積層に用いる樹脂は、主としてシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や各種ブレンド樹脂
を用いることができるが、融点あるいは軟化点の高い樹
脂が好ましい。また、他樹脂中に含有させる無機微粒子
の種類、量１粒径は、後述の無機微粒子を用いることが
できる。

また、積層する方法は特に限定はないが、共押出法の他
にこれらの他樹脂、他樹脂組成物を溶解、塗布する方法
を延伸フィルム製造工程に組み込むと生産性が良い。

ここで、特にテープにおいては、上記粗面を有する層を
バックコート層とする場合があり、主として磁性層はこ
の反対の超平滑面側に設けられる。

このようにして得られた延伸フィルムは厚さ２〜５００
μｍで、線膨張係数５　Ｘ　１０−Ｓ／’Ｃ以下。

静摩擦係数μｓ０．３〜１．０で且つ（１）の方法によ
れば両面の表面粗さＲａが０．００５〜０．０５μｍ、
（２）、　（３）の方法によれば易滑な粗面と平滑面の
両方を合せ持ち、それぞれの表面粗さが０．００５〜０
．０５　μｍ、　０．００１〜０．０４　ｕｍのもので
ある。また湿度膨張係数が５Ｘ１０−’／％ＲＨ以下で
あればより好ましい。

フィルム厚さについては、２〜２０μｍのフィルムが磁
気テープ用に、２０〜１５０μｍのフィルムが磁気ディ
スク用に、１００〜５００μｍのフィルムが磁気カード
用として好適である。

これらのフィルムを用いて、磁気記録媒体を作成するが
、必要に応じて、コロナ処理等により表面接着性を改良
したフィルムも用いてもよく、さらに予め、磁性層を設
ける側に接着層を設けていてもよい。

ところで、上記フィルム素材として用いられる主として
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体とは
、立体化学構造が主としてシンジオタクチック構造、即
ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であ
るフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位置
する立体構造を有するものであり、そのタフティシティ
−は同位体炭素による核磁気共鳴法（”Ｃ−ＮＭＲ法）
により定量される。１３Ｃ−ＮＭＲ法により測定される
タフティシティ−は、連続する複数個の構成単位の存在
割合、例えば２個の場合はダイアツド。

３個の場合はトリアット、５個の場合はペンタッドによ
って示すことができるが、本発明に言う主としてシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体とは、通常
はうセミダイアツドで７５％以上、好ましくは８５％以
上、若しくはラセミペンタッドで３０％以上、好ましく
は５０％以上のシンジオタクテイシテイ−を有するポリ
スチレン。

ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ハロゲン化スチレン
）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（ビニル安息香
酸エステル）、これらの水素化重合体およびこれらの混
合物、あるいはこれらの構造単位を含む共重合体を指称
する。なお、ここでポリ（アルキルスチレン）としては
、ポリ（メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、
ポリ（プロピルスチレン）、ポリ（ブチルスチレン）、
ポリ（フェニルスチレン）、ポリ（ビニルナフタレン）
、ポリ（ビニルスチレン）、ポリ（アセナフチレン）な
どがあり、ポリ（ハロゲン化スチレン）としては、ポリ
（クロロスチレン）、ポリ（ブロモスチレン）、ポリ（
フルオロスチレン）などがある。また、ポリ（アルコキ
シスチレンｙとしては、ポリ（メトキシスチレン）、ポ
リ（エトキシスチレン）などがある。これらのうち特に
好ましいスチレン系重合体としては、ポリスチレン、ポ
リ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（ｍ−メチルスチレン
）、ポリ（ｐ−ターシャリ−ブチルスチレン）ポリ（ｐ
−クロロスチレン）、ポリ（ｍ−クロロスチレン）、ポ
リ（ｐ−フルオロスチレン）、またスチレンとｐ−メチ
ルスチレンとの共重合体をあげることができる（特開昭
６２−１８７７０８号公報）。

更に、スチレン系共重合体におけるコモノマーとしては
、上述の如きスチレン系重合体のモノマーのほか、エチ
レン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン等のオ
レフィンモノマー、ブタジェン、イソプレン等のジエン
モノマー、環状ジエンモノマーやメタクリル酸メチル、
無水マレイン酸、アクリロニトリル等の極性ビニルモノ
マー等をあげることができる。

またこのスチレン系重合体は、分子量について特に制限
はないが、重量平均分子量が１０．０００以上３，００
０，０００以下のものが好ましく、とりわけ５０．００
０以上１，５００．０００以下のものが最適である。こ
こで重量平均分子量が１０．０００未満であると、延伸
が充分にできない。さらに、分子量分布についてもその
広狭は制約がなく、様々なものを充当することが可能で
あるが、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ
）が１．５以上８以下が好ましい。なお、この主として
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体は、
従来のアククチツク構造のスチレン系重合体に比べて耐
熱性が格段に優れている。

また、前述の延伸フィルム（特に超平滑面を有するフィ
ルム）を構成する主としてシンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体は、上述した如きものであればよ
いが、特に残留アルミニウム分が３０００ｐｐｍｇ以下
、残留チタン分が１０ｐｐｍ以下及び残留スチレン系単
量体が７０００ｐｐｍ以下のものが好ましい。とりわけ
、残留アル稟ニウム分が１１０００ｐｐ以下、残留チタ
ン分が７　ｐｐｍ以下及び残留スチレン系単量体が５０
００ｐｐｍ以下のものが最適である。

このような高純度のスチレン系重合体を製造するには、
様々な手法があるが、例えば次の如くである。まず、残
留アルミニウム分及び残留チタン分を上記の範囲内に抑
えるためには、■高活性触媒を用いてスチレン系重合体
を製造する方法（特願昭６３−７４６６号明細書参照）
あるいは■脱灰、洗浄による方法、即ち、特開昭６２−
１８７７０８号公報等に記載の通常のＩＶＡ族の有機金
属化合物とメチルアルミツキサン等のアルキルアルミノ
キサンを触媒成分として、スチレン系単量体を重合させ
た後、得られたシンジオタクチック構造のスチレン系重
合体を、酸、アルカリを適当な溶媒に溶解させた溶液に
より脱灰し、適当な溶媒で洗浄する方法である。

このようにして■あるいは■の方法により、残留アルミ
ニウム分及び残留チタン分の少ないシンジオタクチック
構造のスチレン系重合体が得られるが、さらに、これを
下記■あるいは■の方法で処理すれば、残留スチレン系
単量体が７０００ｐｐｍ以下のものとなる。

■上記スチレン系重合体を減圧乾燥する方法ここで減圧
乾燥するにあたっては、乾燥温度を該重合体のガラス転
移温度以上とすると効率がよい。

■上記スチレン系重合体を押出機にまり脱気する方法上記スチレン系重合体あるいは■の方法で減圧乾燥した
スチレン系重合体を、押出機により脱気し、同時に成形
用材料（ベレット）とする。ここで押出機はベント付き
が好ましく、−軸、二軸いずれの押出機を用いてもよい
。

このような処理を経て残留アルミニウム分、残留チタン
分及び残留スチレン系単量体の少ない高純度のシンジオ
タクチック構造のスチレン系重合体が得られる。

一方、易滑な粗面を有する延伸フィルムの構成素材は、
主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系重
合体に無機微粒子を含有させた組成物、特に上記スチレ
ン系重合体に平均粒径０．０〜３μｍの無機微粒子を０
．００１〜１重量％含有させた組成物である。この組成
物は、スチレン系重合体で但し、必ずしも上記の如き高
純度であることを要せず、特開昭６２−１８７７０８号
公報等に記載の方法等によればよい。）に、無機微粒子
を配合するあるいは重合中に析出させることによって調
製される。ここで、無機微粒子とは、ＩＡ族、　　ＩＩ
Ａ族、ＩＶＡ族、ＶＩＡ族、■Ａ族、■族。

ＩＢ族、ＩＩＢ族、ＩＩｒＢ族、ＩＶＢ族元素の酸化物
。

水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物８炭酸塩、
酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩１有機カルボン酸塩、珪酸塩
、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、それら
を中心とする複合化合物、天然鉱物粒子を示す。

具体的には、弗化リチウム、硼砂（硼酸ナトリウム含水
塩）等のＩＡ族元素化合物、炭酸マグネシウム、燐酸マ
グネシウム、酸化マグネシウム（マグネシア）、塩化マ
グネシウム、酢酸マグネシウム、弗化マグネシウム、チ
タン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マグネシ
ウム含水塩（タルク）、炭酸カルシウム、燐酸カルシウ
ム。

亜燐酸カルシウム、硫酸カルシウム（石膏）、酢酸カル
シウム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、
珪酸カルシウム、弗化カルシウム。

チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム。

炭酸バリウム、＃！Ｊ酸バリウム、硫酸バリウム、亜燐
酸バリウム等のＩＩＡ族元素化合物、二酸化チタン（チ
タニア）、−酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニ
ウム（ジルコニア）、−酸化ジルコニウム等のＩＶＡ族
元素化合物、二酸化モリブデン。

三酸化モリブデン、硫化モリブデン等のＶＩＡ族元素化
合物、塩化マンガン、酢酸マンガン等の■Ａ族元素化合
物、塩化コバルト、酢酸コバルト等の■族元素化合物、
沃化第一銅等のＩＢ族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛
等のｎＢ族元素化合物、酸化アルごニウム（アルミナ）
、水酸化アルミニウム、弗化アルミニウム、アルミノシ
リケート（珪酸アルミナ、カオリン、カオリナイト）等
の１１ｒＢ族元素化合物、酸化珪素（シリカ、シリカゲ
ル）９石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等のＩＶ
Ｂ族元素化合物、カーナル石、カイナイト。

雲母（マイカ、キンウンモ）、バイロース鉱等の天然を
物の粒子が挙げられる。

本発明で用いる無機微粒子の平均粒径は、特に制限はな
いが、好ましくは０．０１〜３μｍ、より好ましくは０
．０１〜１μｍで、組成物中の含量は０．００１〜１重
量％、好ましくは０．００１〜０．６重量％である。こ
こで平均粒径が０．０１μｍより小さいと粒子同士の二
次凝集のため分散が困難となる場合があり、また平均粒
径が３μｍより大きいと平滑性が低下する。また、組成
物中の無機微粒子の含量が０．００１重量％より少ない
とすべり性の改良の効果が不充分となり、含量が１重量
％より多いと薄物での延伸が困難となる場合がある。

また、前述の無機微粒子は本発明の目的を達成する上で
、効果的な成分であるが、本発明の目的を阻害しない限
り、他の種類あるいは他の粒径の微粒子、無機充填材等
を含むものであってもよい。

本発明で用いる無機微粒子は、最終的な成形品（フィル
ム）に含有されるが、含有させる方法に限定はない。例
えば、スチレン系単量体の重合中の任意の過程で添加あ
るいは析出させる方法、溶融押出する任意の過程で添加
する方法が挙げられる。

この中で特に本発明においては、重合過程の任意の段階
で上記無機微粒子をスラリー状として添加する方法が、
粒子の二次凝集を防げるうえで好ましい。

またこれらの微粒子を効果的に分散させるため、分散剤
、界面活性剤等を用いてもよい。

本発明の基材フィルムを構成する延伸フィルムに使用さ
れる素材には、さらに成形性、力学物性。

表面性等を考慮して、本発明の目的を阻害しない範囲で
、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、無機充填材、さら
に他の樹脂などを適宜配合することもできる。

ここで他の樹脂としては、各種のものがあるが、例えば
、アククチツク構造のスチレン系重合体。

アイソタクチック構造のスチレン系重合体、ポリフェニ
レンエーテル等は、前述のシンジオタクチック構造のス
チレン系重合体と相溶になりやすく、延伸用予備成形体
を作成するときの結晶化の制御に有効で、その後の延伸
性が向上し、延伸条件の制御が容易で、且つ力学物性に
優れたフィルムを得ることができる。このうち、アクク
チツク構造および／またはアイソタクチック構造のスチ
レン系重合体を含有させる場合、シンジオタクチック構
造のスチレン系重合体と同様のモノマーからなるものが
好ましい。また、これら相溶性樹脂成分の含有割合は７
０〜１重量％、特に好ましくは５０〜２重量％とすれば
よい。ここで相溶性樹脂成分の含有割合が７０重量％を
超えると、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体
の長所である耐熱性等が損なわれるため好ましくない。

また、非相溶性樹脂としては、例えば、ポリエチレン。

ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等のポリオ
レフィン、ポリエチレンテレフタレート。

ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル、ナイロン−６やナイロン６．６等
のボリア旦ド、ポリフェニレンスルフィド等のポリチオ
エーテル、ポリカーボネート。

ボリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、テフロン
等のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上
記相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶
性の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は
、本発明のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体
と非相溶であるため、少量含有する場合、シンジオタク
チック構造のスチレン系重合体中に島のように分散させ
ることができ、延伸後に程良い光沢を与えたり、表面の
すべり性を改良するのに有効である。これら非相溶性樹
脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合は５０〜２
重量％、表面性の制御を目的とする場合、０．００１〜
５重量％が好ましい。また、製品として使用する温度が
高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂を用いる
ことが好ましい。

本発明の磁気記録媒体の基材フィルムを成形するには、
前述した如き方法によればよいが、この際に行う加熱溶
融から熱固定までの操作を具体的に説明すれば、次の通
りである。

まず、上述の如き成形素材を通常は押出成形（あるいは
共押出成形）して、延伸用予備成形体（フィルム、シー
トまたはチューブ）とする。この成形にあっては、上記
成形素材の加熱溶融したものを押出成形機にて所定形状
に成形するのが一般的であるが、成形素材を加熱溶融さ
せずに、軟化した状態で成形してもよい。ここで用いる
押出成形機は、−軸押出成形機、二軸押出成形機のいず
れでもよく、またベント付き、ベント無しのいずれでも
よいが、−軸の直列タンデム型が好ましい。なお、押出
機には適当なメツシュを使用すれば、夾雑物や異物を除
去することができる。特に平滑面を有する延伸フィルム
を作成する場合にはメツシュは、１００メツシュ以上が
好ましく、とりわけ４００メツシュ以上が最適である。

ここでこれらのメツシュを用いる際には、メツシュその
ものの耐圧９強度を考慮して、上記以下の番手を前後に
入れても良い。またメツシュの形状は、平板状１円筒状
等適当に選定して使用することができる。

またここで押出条件は、特に制限はなく、様々な状況に
応じて適宜選定すればよいが、好ましくは温度を成形素
材の融点〜分解温度より５０℃高い温度の範囲で選定し
、剪断応力を５Ｘ１０６ｄｙｎｅ／ｃｎ以下とする。用
いるダイはＴ−ダイ、円環ダイ等をあげることができる
。

上記押出成形後、得られた延伸用予備成形体を冷却固化
する。この際の冷媒は、気体、液体、金属ロール等各種
のものを使用することが！きる。

金属ロール等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバ
ー　タッチロール、静電印荷等の方法によると厚みムラ
や波うち防止に効果的である。

冷却固化の温度は、通常はＯ″Ｃ〜延伸用予備成形体の
ガラス転移温度より３０’Ｃ高い温度の範囲、好ましく
は２０″Ｃ〜ガラス転移温度の範囲である。

また冷却速度は２００〜３°Ｃ／秒の範囲で適宜選択す
る。

次に、この冷却、固化した予備成形体を一軸あるいは二
輪に延伸する。二軸延伸の場合は縦方向及び横方向に同
時に延伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸してもよ
い。また延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよ
い。

ここで延伸方法としては、テンターによる方法。

ロール間で延伸する方法、気体圧力を利用してバブリン
グによる方法、圧延による方法など様々であり、これら
を適当に選定あるいは組み合わせて適用すればよい。延
伸温度は、一般には予備成形体のガラス転移温度と融点
の間で設定すればよい。

また延伸速度は、通常は１×１０〜ｌＸｌ０’％／分、
好ましくはＩ　Ｘ　１０３〜１×ｌＯＳ％／分である。

上述の如き条件で延伸して得られた延伸フィルムに、さ
らに高温時の寸法安定性、耐熱性。

フィルム面内の強度バランスが要求される場合などには
、さらに熱固定を行うことが好ましい。熱固定は、通常
行われている方法で行うことができるが、この延伸フィ
ルムを緊張状態、弛緩状態あるいは制限収縮状態の下で
、該フィルムのガラス転移温度〜融点、好ましくは融点
より１００°Ｃ低い温度〜融点直前の温度範囲にて、０
．５〜１２０秒間保持することによって行えばよい。な
お、この熱固定は、上記範囲内で条件を変えて二回以上
行うことも可能である。また、この熱固定はアルゴンガ
ス、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行っても良い
。

このようにして得られる本発明の基材フィルムは、線膨
張係数１表面粗さＲａ及び静摩擦係数μｓが前述した範
囲のものとなる。なお、この基材フィルムは、テープ状
、ディスク状、カード状等様々な形態とすることができ
る。

本発明の磁気記録媒体は、上記基材フィルムに少なくと
も一層の磁性層を形成してなるが、アンダーコート層、
バックコート層あるいはトップコート層を形成すること
もできる。これらの各層は、基材フィルムを中心に両面
あるいは片面の全部あるいは一部に形成される。

また、磁性層の素材となる磁性体は、各種のものがあり
、例えばＧｏ、Ｃｏ−０、Ｃｏ−Ｃｒ。

Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ　　Ｐ、Ｃｏ−ｒＦｅｚＯ
ｘ。

Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｎ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｗ。

Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ　、ＣｏＮ１（Ｃｒ）／Ｃｒ　、Ｆｅ
。

Ｆｅ−０，Ｆｅ−Ａｇ＋　　ｒＦｅｚｏ８．Ｆｅ−Ｃｏ
。

Ｎｉ、Ｃｒａｇなどを列挙することができる。

この磁性体を用いて磁性層をベースフィルムに形成する
には、塗布、蒸着、スパッタリング、メツキ等の各種の
方法によればよく、その操作条件等は常法にしたがって
、適宜選定すればよい。

なお、磁性層の厚みは特に制限はないが、一般には０．
０１〜１０μｍであり、特に塗布の場合は０．５〜１０
μｍ、蒸着やスパッタリングの場合は０．０１〜１μｍ
１メツキの場合は０．１〜５μｍである。

なお、塗布にあたって使用するバインダー用の樹脂とし
ては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル部分ケン化共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル
、ビニルブチラール。

ビニルホルマール等のビニル共重合系、ニトロセルロー
ス、セルロースアセトブチレート等の繊維素系、飽和ポ
リエステル、ポリウレタンボリアξド、エポキシ等の縮
重合系、ブタジェン・アクリロニトリル共重合体等の合
成ゴム系、ポリホスファゼン等の無機高分子系があげら
れ、イソシアネート化合物等の架橋剤を用いてもよい。

このようにして得られた本発明の磁気記録媒体は、磁気
ヘッド摩耗防止等のため表面を研磨しても良い。

〔実施例〕

次に本発明を実施例に基いてさらに詳しく説明する。

参考例１（１）無機微粒子を含むスチレン系重合体成形用材料（
重合棒組放物）の作成アルゴン置換した内容積５００−のガラス製容器に、硫
酸銅５水塩（ＣｕＳＯｎ’　５Ｈ２０）１７．８ｇ（７
１旦リモル）、トルエン２００ｒｄ及びトリメチルアル
ミニウム２４ｄ（２５０１リモル）を入れ、４０°Ｃで
８時間反応させた。その後、固体部分を除去して得られ
た溶液から、更に、トルエンを室温下で減圧留去して接
触生成物６．７ｇを得た。このものの凝固点降下法によ
って測定した分子量は６１０であった。また、’Ｈ−Ｎ
ＭＲ測定による前述の高磁場成分（即ち、−〇、１〜−
０．５ｐｐｍ）は４３％であった。

一方、精製スチレンモノマー１００部に乾式法シリカ（
デグツサ■製アニロジルＴＴ−６００（１次粒子の直径
４０ｍμのもの））を０．４部添加し、Ｔ、　Ｋホモミ
キサーＬ型（特殊機化工業製）を用いて、円筒容器の中
で混合攪拌してスチレン混合物を得た。なおこの際、ス
テアリン酸カルシウムを０．０５重量部加えた。

内容積２ｊ２の反応容器に、上述の如く調製したスチレ
ン混合物１１、上述の如く得られた接触生成物をアルミ
ニウム原子として５ミリモル、トリイソブチルアルミニ
ウムを５ミリモル、ペンタメチルシクロペンタジェニル
チタントリメトキシド０．０２５ミリモルを用いて９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、生成物を水
酸化ナトリウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、
メタノールで繰返し洗浄後、乾燥して重合体３０８ｇを
得た。

この重合体の重量平均分子量を、１，２．４−トリクロ
ロベンゼンを溶媒として、１３５°Ｃでゲルパーミニ−
ジョンクロマトグラフィーにて測定したところ３８９，
０００であり、また重量平均。

分子量／数平均分子量は２．６４であった。また、融点
及びＩ３Ｃ−ＮＭＲ測定により、この重合体はシンジオ
タクチック構造のポリスチレンであることを確認した。

この重合体を１３０　’Ｃで１．２．４−）リクロロベ
ンゼンに溶解し、濾別し、重合体中のシリカ含量を調べ
たところ０．４ｗｔ％であった。また、この溶液をスラ
イドガラス上に滴下し、顕微鏡で観察し、シリカの平均
粒径を調べたところ０．０８μｍであった。

さらに、このスチレン系重合体を１５０°Ｃで２時間、
減圧乾燥した。得られたパウダーを、ベント付き二軸押
出機の先端にキャピラリーを持つ装置で３００℃にて押
出し、冷却後、カットしペレットとした。このペレット
を熱風により攪拌しながら結晶化させた。このペレット
は、結晶化度３５％でスチレンモノマーを７００ｐｐｍ
含んでいた。

（２）無機微粒子を含まないスチレン系重合体成形用材
料の作成乾式シリカを含まないスチレンモノマーを用いて、上記
（１）と同様にしてスチレン系重合体を製造した。得ら
れた重合体は、重量平均分子量が４１７．０００．重量
平均分子量／数平均分子量が２．５４．１！含量が７５
ｐｐｍ＋、Ｔｉ含量が２　ｐｐｍ＋であった。

このスチレン系重合体を上記（１）と同様にペレットと
した。このペレットの結晶化度は３０％であり、スチレ
ンモノマー含量は８００ｐｐｍ＋であった。

参考例２（スチレン系重合体延伸フィルムの製造）（１
）参考例１（１）のようにして得られた成形材料を用い
、直列型タンデム押出機の先端にＴ−ダイを取りつけた
装置で３３０″Ｃで溶融押出した。

この時の剪断応力は、１．５　Ｘ　１０　’ｄｙｎｅ／
ａｉであった。この溶融押出したシートを静電印荷によ
り６３℃の冷却ロールに密着させ、冷却固化させた。

この時の冷却速度は平均５５℃／秒で１３０μｍの延伸
用シートを得た。このシートをロール間で、それぞれの
ロールの周速度を変化させ縦方向に、１１０°Ｃ２延伸
速度６０００％／分で３倍に延伸した。続いて、横方向
にテンターを用いて１２０℃、延伸速度６０００％／分
で３倍に延伸した。

更に横方向にテンターで固定したまま、縦方向に、１３
０℃、２０００％／分で１．５倍に再延伸した。このフ
ィルムを、テンターに固定し若干弛緩させ、２５５℃で
１０秒熱処理した。

得られたフィルムは厚さ１２μｍであった。このフィル
ムの線膨張係数を０°Ｃ〜９０℃にて測定した。さらに
表面粗さをＪＩＳ　　Ｂ−０６０１に準拠し、カットオ
フ値０．０８ｍｍで、また、静摩擦係数をＡＳＴＭ　Ｄ
−１９８４Ｂに準拠して測定した。得られたフィルムの
性質を表に示す。

（２）Ｔ−ダイのリップ開度を４倍とし、再延伸倍率を
１．３倍としたことの他は、参考例２（１）と同様にし
た。得られたフィルムの性質を表に示す。

（３）参考例１（１）及び参考例１（２）の結晶化させ
たスチレン系重合体ペレットを用いて、押出機の先端に
Ｔ−ダイを取りつけた装置で３３０°Ｃで熔融共押出し
たことの他は、参考例２（１）と同様にした。得られた
フィルムの性質を表に示す。なお、この時、参考例１（
２）のスチレン系重合体ペレットを５０／１５０／４０
０／１５０１５０メツシユを入れた主押出機の直列型タ
ンデム単軸押出機で、また参考例１　（１）のスチレン
系重合体ペレットを複押出機で溶融押出した。

（４）６考例１（２）のスチレン系重合体ペレットを用
いて、押出機中に５０／１５０／４００／１５０１５０
メツシユを入れたことの他は、参考例２（１）と同様に
延伸フィルムを作成した。このフィルムをコロナ処理し
た。次に、特開平１−９５１１３号公報の実施例１で得
られたシンジオタクチック構造のスチレン−ジビニルベ
ンゼン共重合体（ジビニルベンゼン単位９．４モル％、
エチルベンゼン単位５．０モル％１重量平均分子量３６
０．０００　＞の０．５ｗｔ％クロロホルム溶液を作り
、この溶液にスチレン−ジビニルベンゼン共重合体に対
して０．５　ｗｔ％の乾式法シリカ（テグツサ■製アエ
ロジル７Ｔ−６００ニー次粒子の粒径４０ｍμのもの）
を添加し、ホモ主キサーＬ型（特殊機化工梁部）を用い
て円筒容器で均一に混合し、スラリー溶液とした。この
スラリー溶液を上記フィルムにバーコーターにて塗布し
、２５０　”Ｃで１０秒乾燥した。得られたフィルムの
性質を表に示す。

（５）熱処理を施さなかったことの他は、参考例２（１
）と同様にした。

（６）用いた無機微粒子を、平均粒径４μｍのシリカ（
水理化学工業■製ジルトンＡＭＴ−４０）としたことの
他は、参考例１　（１）と同様にしてスチレン系重合体
を作成した後、参考例２（１）と同様にした。

（７）参考例１（２）のスチレン系重合体材料より参考
例２（１）と同様にしてフィルムを作成した。

実施例１参考例２（１）と同様にして得られたベースフィルムの
片面にコロナ放電処理を施し、続いてＣ。

８０重量％、Ｎｉ２Ｏ重量％からなるターゲットを作成
し、このターゲットによってＲＦスパッタ法で、約３０
００大の厚さのＣｏ−Ｎｉ系の磁性薄膜を形成した。

この時、ターゲ・ントとフィルムの間の距離は６０μｍ
、プレート電圧！、　９　ｋ　Ｖ、プレート電流１６０
ｍＡ、アルゴン圧１．　Ｉ　Ｘ　Ｉ　Ｏ−”ｔｍＨｇで
あった。

このテープをＶＨ３−ビデオテープと同幅に注意深くス
リットし、市販テープを分解し、テープのみ入れかえ、
ビデオカセットを作成した。

このテープの静摩擦係数より、すべり性を評価した。こ
のテープの静摩擦係数はベースフィルムと同等で良好で
あった。

また作成したＶＨ３−ビデオカセットテープを家庭用ビ
デオ録画装置で録画再生した。なお、この時信頼性の指
標として室温条件と８５℃、７５％ＲＨの高温多湿条件
での録画再往状態を観察したが、両方の条件下でほとん
ど変化なく、画像の乱れはなく良好であった。

実施例２参考例２（１）と同様にして得られたベースフィルムの
片面にコロナ放電処理を施し、磁性塗料を塗布した。な
お、この磁性塗料の組成は、γ−Ｆ　ｅ　Ｏ３磁性粉末
４５重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（Ｕ、Ｃ
，Ｃ，社製　ＶＡＧＨ）１７重量部、アクリロニトリル
−ブタジェン共重合体（日本ゼオン社製　Ｎ　　１４３
２Ｊ）３．５重量部、ポリイソシアネート（日本ポリウ
レタン製　コロネートＬ）１．５重量部、メチルイソブ
チルケトン５０重量部、トルエン５０重量部、カーボン
ブラック４重量部である。乾燥後の磁性層の厚みは３μ
ｍであった。

このテープを用いて実施例１と同様にした。結果を表に
示す。

実施例３参考例２（２）と同様にして得られたベースフィルムの
両面にコロナ放電処理した後、実施例１と同様にして両
面に磁性層を設けた。このフィルムの両面を適度に研磨
した後、市販の５インチフロッピーと同じサイズに切り
抜いた。さらにこの円盤を市販のフロッピーのシャケシ
トに入れ、フロッピーディクを作成した。磁性層をもつ
フィルムの静摩擦係数を実施例１と同様に調べた。また
作成したフロッピーを用いて、５ＡＶＥとＬＯＡＤの状
態をＮＥＣＰＣ−９８０１Ｆを用いて、室温条件と高温
高温条件下で調べたところいずれも良好であった。

実施例４参考例２（３）と同様にして得たフィルムの平滑面側に
磁性層を設けることの他は、実施例１と同様にした。結
果を表に示す。

実施例５参考例２（４）と同様にして得たフィルムの平滑面側に
磁性層を設けることの他は、実施例１と同様にした。結
果を表に示す。

比較例１参考例２（５）と同様にして得たフィルムの片面に磁性
層を設けることの他は、実施例１と同様にした。結果を
表に示す。

比較例２参考例２（６）と同様にして得たーフィルムの片面に磁
性層を設けることの他は、実施例１と同様にした。結果
を表に示す。

比較例３参考例２（７）と同様にして得たフィルムの片面に磁性
層を設けることの他は、実施例１と同様にした。結果を
表に示す。

比較例４ポリエチレンレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ティジ
ン製テトロンＮ５１２μｍ）を用いたことの他は、実施
例１と同様にした。結果を表に示す。

（以下余白）〔発明の効果〕畝上の如く得られる本発明の磁気記録媒体は、すべり性
及び平滑性にすぐれ、また温度、湿度に対する寸法安定
性にもすぐれたものである。

したがって、本発明の磁気記録媒体は、各種の磁気テー
プ、磁気ディスク、Ｍ！気トドラム磁気カード等に好適
に利用することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体又はその組成物の延伸フィルムあるいは該延
伸フィルムを含む積層フィルムであって、線膨張係数が
５×１０＾−＾５／℃以下及び静摩擦係数が０．３以上
１．０以下である基材フィルムの少なくとも片面に磁性
層を有する磁気記録媒体。
（２）延伸フィルムが無機微粒子を含有する主としてシ
ンジオタクチック構造のスチレン系重合体組成物からな
る請求項１記載の磁気記録媒体。
（３）基材フィルムの少なくとも片面の表面粗さＲａが
、０．００１μｍ以上０．０５μｍ以下である請求項１
又は２記載の磁気記録媒体。
（４）基材フィルムが、無機微粒子を含有する主として
シンジオタクチック構造のスチレン系重合体組成物から
なる層と無機微粒子を含有しない主としてシンジオタク
チック構造のスチレン系重合体又はその組成物からなる
層を有する積層体である請求項１〜３のいずれかに記載
の磁気記録媒体。