JPH0382134A - 半導体素子の実装構造 - Google Patents

半導体素子の実装構造

Info

Publication number
JPH0382134A
JPH0382134A JP1219123A JP21912389A JPH0382134A JP H0382134 A JPH0382134 A JP H0382134A JP 1219123 A JP1219123 A JP 1219123A JP 21912389 A JP21912389 A JP 21912389A JP H0382134 A JPH0382134 A JP H0382134A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
semiconductor element
signal
signal wiring
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1219123A
Other languages
English (en)
Inventor
Teruyoshi Kutoku
久徳 照義
Kenichiro Tsubone
坪根 健一郎
Hiroyuki Takabayashi
高林 博幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1219123A priority Critical patent/JPH0382134A/ja
Publication of JPH0382134A publication Critical patent/JPH0382134A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45014Ribbon connectors, e.g. rectangular cross-section
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73257Bump and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/156Material
    • H01L2924/15786Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2924/15787Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 回路基板への半導体素子の実装構造に関し、信号線の接
続経路を短かくし、信号線間の漏話を軽減することを目
的とし、 一面に半導体素子を接続し該半導体素子外形の外側に延
びる信号用配線電極と該信号用配線電極の周り全面に接
地電位のアイソレーションパターンを備え、かつ他面全
面に該アイソレーションパターンにスルーホールで接続
する接地電位の全面導体パターンを備える素子搭載基板
と、該素子搭載基板に搭載した半導体素子を挿入する貫
通孔を穿設し一面に前記信号用配線電極に対向する信号
用配線パターンを備える回路基板とからなり、該回路基
板を金属基板上に一固着し、該回路基板の貫通孔に半導
体素子を挿入して金属基板上に固着するとともに、該半
導体素子の信号電極と前記回路基板の信号用配線パター
ン間を前記素子搭載基板の信号用配線電極でバンプ接続
するとともに、全面導体パターンを導線で接地接続する
ように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は回路基板への半導体素子の実装構造に関する。
通信装置の小形化、高速化に伴って半導体集積回路を素
子(チップ)レベルで絶縁基板に接続する場合が多くな
っている。その際に接続経路の最短化と信号線間の漏話
を軽減することが要望されている。
〔従来の技術〕
従来は第4図の要部側断面図に示すように、半導体素子
15を挿入する貫通孔12aと該貫通孔12aの周縁に
信号用配線パターン12bを備える回路基板12を金属
基板14、例えば金属ケースの底板の上に載せて接着剤
(図示時)固着し、回路基板12の貫通孔12aに半導
体素子15を電極面側を上にして挿入し金属基板14上
に固着し、半導体素子15の信号電極15aと回路基板
12の信号用配線パターン12bとをワイヤ17でボン
ディングしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような上記実装構造によれば、半導
体素子の信号電極を、弯曲させた状態のワイヤで接続す
るため接続経路が長くなり、高速信号回路では接続ワイ
ヤがアンテナの役目を果たして信号線間に漏話が生じる
といった問題があった。
上記問題点に鑑み、本発明は信号線の接続経路を短かく
し、信号線間の漏話を軽減することのできる半導体素子
の実装構造を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明の半導体素子の実装
構造においては、−面に半導体素子を接続し該半導体素
子外形の外側に延びる信号用配線電極と該信号用配線電
極の周り全面に接地電位のアイソレーションパターンを
備え、かつ他面全面に3亥アイソレーションパターンに
スルーホール接続する接地電位の全面導体パターンを備
える素子搭載基板と、該素子搭載基板に搭載した半導体
素子を挿入する貫通孔を穿設し一面に前記信号用配線電
極に対向する信号用配線パターンを備える回路基板とか
らなり、該回路基板を金属基板上に固着し、該回路基板
の貫通孔に半導体素子を挿入して金属基板上に固着する
とともに、該半導体素子の信号電極と前記回路基板の信
号用配線パターン間を前記素子搭載基板の信号用配線電
極でバンプ接続するとともに、全面導体パターンを導線
で接地接続するように構成する。
〔作用〕
一面に半導体素子の信号電極に対応する信号用配線電極
と該信号用配線電極の周り全面に接地電位のアイソレー
ションパターンを備え、他面に該アイソレーションパタ
ーンにスルーホールで接続する接地電位の全面導体パタ
ーンを備える素子搭載基板を用いて半導体素子の信号電
極と回路基板の信号用配線パターン間を素子搭載基板の
信号用配線電極でバンプ接続することにより、各信号の
接続経路はバンプだけの短い経路に最短化することがで
き、アイソレーションパターンにより各信号用配線電極
間を電気的に独立させて信号の漏洩を軽減することがで
きる。
また、素子搭載基板の全面導体パターンは、スルーホー
ルを介しアイソレーションパターンを接地電位に接続す
ることができ、さらに信号用配線電極をストリップライ
ンとして機能させインピーダンスに対する整合性を良く
することができる。
〔実施例〕
以下図面に示した実施例に基づいて本発明の要旨を詳細
に説明する。
第1図の半導体素子の実装構造を示す要部側断面図に示
すように、素子搭載基板1と、該素子搭載基板1を接続
し金属基板4に載せて固着する回路基板2と、該回路基
板2に重ねて固着する絶縁基板3とから構成される。
素子搭載基板1はセラミック基板からなり、第2図の下
面側から見た平面図及び第3図のそのA−A’矢視断面
図に示すように、−面(下面)に2点鎖線で示す半導体
素子5を接続し該半導体素子外形の外側に延びる信号用
配線電極1aと該信号用配線電極1aの周り全面に接地
電位のアイソレーションパターン1bを、他面(上面〉
に該アイソレーションパターン1bに複数のスルーホー
ル1bcで接続する接地電位の全面導体パターン1cを
備える。
なお、第2図の信号用配線電極1aの両端斜線部は半導
体素子を接続する時のバンプ形成位置を示し、信号用配
線電極1aは接続経路を最短化するため、半導体素子5
外形の外側にできるだけ短く延ばす。また、これらの信
号用配線電極1aとアイソレーションパターンlbは、
アルミナなどのグリーンシートに厚膜法により導体ペー
ストのパターン印刷、乾燥を繰り返し、グリーンシート
と一緒に焼成しセラミック基板とする。
回路基板2はセラミック基板からなり、半導体素子5を
挿入する貫通孔2aを穿設し、−面(上面)に素子搭載
基板1の信号用配線電極1aの先端バンプ位置に対向す
る信号用配線パターン2bを備える。
絶縁基板3はセラミック基板からなり、素子搭載基板1
を挿入する貫通孔3aを穿設し、−面(上面)に回路基
板2の信号用配線パターン2bを覆う大きさで接地電位
の全面導体パターン3bを備える。
なお、回路基板2と絶縁基板3は、アルミナなどのグリ
ーンシートに厚膜法により導体ペーストをパターン印刷
、乾燥し積層・圧接した後、焼成し2Nに一体化する。
実装組立は、第1図に示したようにまず金属基板4、例
えば本実施例では金属ケースの、底板上に絶縁基Fi、
3を積層した回路基板2を載せ、接着剤(図示略)で固
着する。
つぎに、半導体素子5を回路基板2の貫通孔2aに挿入
して回路基板2の上面に載せ、素子搭載基板lの信号用
配線電極1aと回路基板2の信号用配線パターン2bと
を位置合わせして半田バンプ6、即ち6−2により接続
する。
つぎに、素子搭載基板1をその全面導体パター710面
を上にして絶縁基板3の貫通孔3aに挿入し信号用配線
電極1aで半導体素子5の信号電極5aと回路基板2の
信号用配線パターン2b間を半田バンプ6、即ち6−1
により接続する。
そうして、素子搭載基板1の全面導体パターン1cと絶
縁基板3の全面導体パターン3bとを複数の金製のリボ
ン状導線7 (あるいはワイヤ〉で接続する。
このように、−面に接地電位のアイソレーションパター
ンにより電気的に独立させた信号用配線電極を備え、他
面に該アイソレーションパターンにスルーホールで接続
した接地電位の全面導体パターンを備える素子搭載基板
を用い、半導体素子の信号電極と回路基板の信号用配線
パターン間を素子搭載基板の信号用配線電極でバンプ接
続することにより、各信号の接続経路を従来のワイヤ接
続に比べて極端に短く最短化することができ、アイソレ
ーションパターンにより各信号線(信号用配線電極)間
の電気的独立性が良くなり、各信号間の漏話を軽減する
ことができる。また、素子搭載基板の全面導体パターン
は、スルーホールを介しアイソレーションパターンを接
地電位に接続することができ、さらに信号用配線電極を
ストリップラインとして機能させインピーダンスに対す
る整合性を良くすることができる。
なお、上記説明の素子搭載基板、回路基板、絶縁基板は
セラミック基板とし厚膜法(または薄膜法)によりパタ
ーンあるいは電極を形成するが、例えば銅貼りガラスエ
ポキシ系樹脂積層基板でもよく、その場合はエツチング
によりパターンあるいは電極を形威し接着剤を用いて積
層する。
また、素子搭載基板の全面導体パターンは回路基板に積
層した絶縁基板の全面導体パターンに接続したが、絶縁
基板を中止し回路基板上に接地パターンを形成し、これ
に接地接続してもよい。
〔発明の効果〕
以上、詳述したように本発明によれば、素子搭載基板を
用いてバンプ接続することにより、各信号の接続経路を
最短化することができ、各信号線間の電気的独立性を良
くして漏話を軽減することができ、高速信号を扱う通信
装置に適用し通信の質的向上を図ることができるといっ
た産業上極めて有用な効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による一実施例の要部側断面図、第2図
は第1図の素子搭載基板の下面側から見た平面図、 第3図は第2図のA−A’矢視断面図、第4図は従来技
術による要部側断面図である。 図において、 lは素子搭載基板、 1aは信号用配線電極、 1bはアイソレーションパターン、 Ibcはスルーホール、 1cは全面導体パターン、 2は回路基板、 2aは貫通孔、 2bは信号用配線パターン、 4は金属基板、 5は半導体素子、 5aは信号電極、 6はバンプ、 7は導線を示す。 素子搭載基板1 第 凶

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一面に半導体素子(5)を接続し該半導体素子外形の外
    側に延びる信号用配線電極(1a)と該信号用配線電極
    (1a)の周り全面に接地電位のアイソレーションパタ
    ーン(1b)を備え、かつ他面全面に該アイソレーショ
    ンパターン(1b)にスルーホール(1bc)で接続す
    る接地電位の全面導体パターン(1c)を備える素子搭
    載基板(1)と、 該素子搭載基板(1)に搭載した半導体素子(5)を挿
    入する貫通孔(2a)を穿設し一面に前記信号用配線電
    極(1a)に対向する信号用配線パターン(2b)を備
    える回路基板(2)とからなり、 該回路基板(2)を金属基板(4)上に固着し、該回路
    基板(2)の貫通孔(2a)に半導体素子(5)を挿入
    して金属基板(4)上に固着するとともに、該半導体素
    子(5)の信号電極(5a)と前記回路基板(2)の信
    号用配線パターン(2b)間を前記素子搭載基板(1)
    の信号用配線電極(1a)でバンプ(6)接続するとと
    もに、全面導体パターン(1c)を導線(7)で接地接
    続することを特徴とする半導体素子の実装構造。
JP1219123A 1989-08-25 1989-08-25 半導体素子の実装構造 Pending JPH0382134A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1219123A JPH0382134A (ja) 1989-08-25 1989-08-25 半導体素子の実装構造

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1219123A JPH0382134A (ja) 1989-08-25 1989-08-25 半導体素子の実装構造

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0382134A true JPH0382134A (ja) 1991-04-08

Family

ID=16730604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1219123A Pending JPH0382134A (ja) 1989-08-25 1989-08-25 半導体素子の実装構造

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0382134A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0996154A4 (en) SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, CIRCUIT SUBSTRATE AND ELECTRONIC DEVICE
EP1313143B1 (en) Perimeter anchored thick film pad
JPH0529537A (ja) 半導体モジユール構造
EP1041618A4 (en) SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PRINTED CIRCUIT BOARD AND ELECTRONIC EQUIPMENT
EP1324646A3 (en) Jumper chip component and mounting structure therefor
JP2552582Y2 (ja) ハイブリッドic用集合基板
JPH06181289A (ja) 半導体装置
JPH0382134A (ja) 半導体素子の実装構造
JPH03110768A (ja) 配線パターン接続用チップ
JP2541494B2 (ja) 半導体装置
JPS6022348A (ja) 半導体装置
JPS62269349A (ja) 半導体装置
JP2743524B2 (ja) 混成集積回路装置
JP3822129B2 (ja) 配線基板
JPH0126108Y2 (ja)
JP4349891B2 (ja) 配線基板および電子装置
JPS6025910Y2 (ja) 半導体装置
JP2791301B2 (ja) マイクロ波集積回路及びマイクロ波回路装置
JPH0427131A (ja) 電子部品搭載用基板
JPH0225276B2 (ja)
JPH02102594A (ja) 混成集積回路基板
JPH08236928A (ja) 混成集積回路装置
JPH0822853A (ja) ピンアサイメント変更用プリント基板
JPH01287952A (ja) 高周波素子用パッケージとその製造方法
JPS61287253A (ja) 半導体装置