JPH0375062A - 光反応性半導体担持シート及びその製造方法 - Google Patents

光反応性半導体担持シート及びその製造方法

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JPH0375062A
JPH0375062A JP1212453A JP21245389A JPH0375062A JP H0375062 A JPH0375062 A JP H0375062A JP 1212453 A JP1212453 A JP 1212453A JP 21245389 A JP21245389 A JP 21245389A JP H0375062 A JPH0375062 A JP H0375062A
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photoreactive semiconductor
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植田 恒久
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光反応性半導体をその性能を損なわずに担持さ
せた光反応性半導体シート及びその製造方法に関する。
更に詳しくは、ガス状の、あるいは雰囲気中に浮遊して
いる有害物質(悪臭成分、刺激性成分及び青果物や花卉
類等の保存に有害な成長促進成分)を光酸化反応を利用
して除去するのに有効な新規な光反応性半導体担持シー
ト及びその製造方法に関する。
〔従来の技術〕
近年、生活レベルの向上に伴い、工業的に発生する悪臭
や刺激性成分のみならず、家庭や飲食店における廃棄物
の臭いや調理時に発生する悪臭(硫化水素、アンモニ乙
 メルカプタン、アミン、アルデヒド等)や刺激性成分
(ホルムアルデヒド、アクロレイン等)が問題となって
きている。
一方、食物嗜好の高級化に伴い、常に新鮮な青果物や珍
しい果物あるいは通常の収穫期を外れた時期における青
果物や花卉に対する需要も高まっているが、これらの需
要に応えるためには成長促進成分であるエチレンを除去
することが重要である。
本発明者らは、これらの有害成分を光酸化反応を利用し
て除去する検討を進めてきた。それは、この光反応を利
用した方法が、■酸化処理効率、■エネルギーコスト及
び設備コスト、■安全性、等の点で優れているからであ
る。
しかしながら、従来の技術は、光反応性半導体をそのも
の単独で、あるいは担体に担持させて溶液中に分散させ
た状態で、これに紫外線あるいは可視光線を照射する方
法であり、ガス状の、あるいは雰囲気中に浮遊している
有害成分を除去するのには適していなかった。
従来、光反応性半導体を、高分子フィルム、金属、ガラ
ス、セラミックス等のシート状担体に担持させる方法と
しては、■光反応性半導体を水又はメタノール、アセト
ン、テトラヒドロフラン等の揮発性有機溶媒に懸濁させ
、シートに塗布したのち乾燥する、■担体が金属やセラ
ミックス等の場合に前記■の方法で光反応性半導体を担
持させたシートを更に高温(700’C以上)で焼成す
る、■担体が紙や膨潤しやすい高分子フィルム等の場合
にこれを光反応性半導体の水又は揮発性有機溶媒の懸濁
液中に浸し、これに該半導体を十分に浸透させたのち乾
燥する、■各担体の製造過程で光反応性半導体をフィラ
ーとして予め混入する、■デンプンやカゼイン等の水溶
性高分子又はエポキシ系やウレタン系等の接着剤を用い
て光反応性半導体を担持させる等の方法が行なわれてい
る。
しかしながら、■の方法には、光反応性半導体の担持量
が少なく、またシートとの接着力が小さいので、光反応
性半導体が容易に剥離する、■の方法には、焼成の過程
で光反応性半導体の凝集が起こるため比表面積が減少し
性能が落ちる、■の方法には、使用できる担体の種類が
限られ、また、光反応性半導体のほとんどがシート内部
に取り込まれてしまうために光反応を行なうシート表面
の光反応性半導体量が少なくなる、■の方法には、■の
方法と同様にシー6表面の光反応性半導体量が少なくな
り、また、シートの製造・加工の過程で他の原料との反
応や加S等により光反応性半導体が変質して性能が落ち
る、■の方法には、光反応性半導体が接着剤と反応した
り、光反応性半導体表面を覆ってしまうために活性点が
少なくなってしまう等の欠点があり、従って光反応性半
導体の性能を損なわずにシート状担体表面に均一に必要
量の光反応性半導体を担持させる方法が望まれていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、その性能を損なわずにシート状担体表
面に均一に必要量の光反応性半導体を担持させ、光酸化
反応を利用したガス状の、あるいは雰囲気中に浮遊した
有害物質を効率よく除去できる光反応性半導体担持シー
ト及びその製造方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らはこの目的を遠戚すべく鋭意研究を行なった
結果、光反応性半導体をラテックスを用いて担持したシ
ートにガス状の、あるいは雰囲気中に浮遊した有害物質
を接触させると同時に光反応性半導体に紫外線を照射す
ることにより有害物質が効率よく除去できることを見出
し、この知見に基いて本発明を完成するに至った。
かくして、本発明によれば、0.5〜5eVの禁止帯幅
を有する光反応性半導体を表面に担持させたシートにお
いて、該半導体を最低造膜温度が60℃以下であるラテ
ックスを用いて担持させたことを特徴とする光反応性半
導体担持シート及び0.5〜5eVの禁止帯幅を有する
光反応性半導体100重量部と、固形分換算で工重量部
超、20重量部未満のラテックスとを含有する光反応性
組成物をシート表面に担持させることを特徴とする上記
の光反応性半導体担持シートの製造方法が提供される。
本発明において用いる光反応性半導体とは、光触媒反応
を生じる半導体であり、0.5〜5eV、好ましくは工
〜3eVの禁止帯幅を持つものである。
このような光反応性半導体の具体例としては、例えば二
酸化スズ、酸化亜鉛、二酸化タングステン、二酸化チタ
ン、チタン酸バリウム、酸化第二鉄等の金属酸化物:例
えば硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化鉛、セレン化亜鉛
、セレン化カドミウム等の金属カルコゲナイド;例えば
シリコン、ゲルマニウム等の第■族元素:例えばガリウ
ム−リン、ガリウムーヒ素、インジウム−リン等の■−
V族化合物;例えばポリアセチレン、ポリピロール、ポ
リチオフェン、ポリアニリン、ポリビニルカルバゾール
等の有機半導体を挙げることができる。これらのうち、
特に好ましいものは、酸化亜鉛、二酸化タングステン、
二酸化チタン、酸化セリウム等の金属酸化物及びその混
晶物である。
また、上記の光反応性半導体にヒ素、リン、アルミニウ
ム、ホウ素、ナトリウム、ハロゲン等の不純物をドープ
したものも同様に使用することができる。
また、これらの光反応性半導体表面に白金、パラジウム
、銀、銅等の貴金属を担持させることにより、その光触
媒反応効率の向上をはかることができる。
さらに、本発明の効果を損なわない限り、光反応性半導
体に活性炭や酸化白土、ゼオライト等の吸着剤を併用し
てもよい。
本発明において光反応性半導体を担持させるために用い
るシートの材質は特に制限されず、例えば、紙;植物繊
維(木綿、リネン、***等)、動物域′a、(羊毛、モ
ヘア、ビキュナ等の獣毛や絹等)、合成繊維(レーヨン
、アセテート、トリアセテート、アクリル、アラミド、
ナイロン、オレフィン、ポリエステル等)、あるいは無
機繊維(ガラス、金属、セラミックス、鉱物、アスベス
ト等)等を製織1編成、物理・化学的接着等により織物
、編地、不織布等に加工したちの;アクリロニロリルー
ブタジエンースチレン共重合体(ABS)、アクリロニ
トリル−アクリル歎メチル共重合体、セロハン、セルロ
ース類(エチルセルロース、酢酸セルロース等)、フッ
素系プラスチック(エチレン−テトラフルオロエチレン
共重合体(ETFE)やポリテトラモル牙ロエチレン(
PTFE)等)、アイオノマー、ポリアミド(ナイロン
−6、ナイロン−6,6等)、ポリブチレン、ポリカー
ボネート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ル、ポリエチレン、エチレン−#酸ビニル共重合体、ボ
リイ主ド、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリスルホンやポリエーテ
ルスルホン等のスルホン系ポリマー ポリウレタンエラ
ストマー ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン
、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−アセテート共重合体等
の各種重合体をカレンダー加工やインフレーション法、
Tダイキャスティング法、基材へのコーティング等の押
出し加工により成形したもの:鉄、銅。
ステンレス鋼等をシート状に成形したちの;粘土、シリ
カ、長石等の種々の鉱物からなるセラミックスを押出し
成形、乾式加圧成形、加熱成形等の塑性成形や鋳込成形
、溶融鋳造等の鋳造によりシート状に成形したもの等を
挙げることができる。
また、以上挙げた各種シートを互いに他にコーティング
したりラミネートしたり、他の材料とともに押出したり
したものでもよい。
シートの厚みは1機械的強度や取り扱い易さからは、0
.25+n+a以上が好ましいが、特に制限されない。
シートの表面形状は、平滑であっても多孔質であっても
よい。
更に、シートは光反応性半導体を担持させる前に金網状
、ハニカム状、アコーデオン状、あるいはもっと複雑な
形に2次加工してもよい。
本発明に用いるラテックスは、その最低造膜温度が60
℃以下であることが必要である。最低造膜温度が60℃
を超えるラテックスを使用するときは、光反応性半導体
とシートとの接着が不十分となり、光反応性半導体担持
シートから光反応性半導体が次第に剥離してしまう。
本発明に用いるラテックスは上記要件を満足するもので
あれば、天然ゴムラテックスあるいは合成ラテックスの
いずれでもよく、その合成法やそれを!l或する単量体
組成に制限はない。本発明において使用するラテックス
の合成に用い得る単量体の具体例としては、エチレン、
プロピレン、2−メチルプロペン等のオレフィン類;ブ
タジェン、イソプレン、1. 3−ブタジェン等の共役
ジオレフィン類;スチレン、α−メチルスチレン、モノ
クロルスチレン、ビニルトルエン、ビニルピリジン等の
芳香族ビニル化合物;(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル等の
(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリロニトリ
ル等のα、β−不飽和不飽和用トリル化合物:塩化ビニ
ルビニリデン等のハロゲン化ビニリデン類;酢酸ビニル
等のカルボン酸ビニルエステル類:ビニルイソシアナー
ト、ビニルウレタン等のウレタン系化合物;等を示すこ
とができる。また、官能性単量体として、(メタ)アク
リル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、フマル酸
、マレイン酸、ブテントリカルボン酸、イタコン酸モノ
エチル、フマル酸モノブチル、マレイン酸モノブチル、
アクリル酸スルホエチルナトリウム、メタクリル酸スル
ホプロピルナトリウム、アクリルアミドプロパンスルホ
ン酸、アクリルアミドプロパンスルホン酸ナトリウム等
の酸基含有単量体又はその塩ニアクリル酸β−ヒドロキ
シエチル等の水酸基含有単量体:(メタ)アクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクソ
ルアミド等のアミド基含有単量体;(メタ)アクリル酸
グリシジル、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基
含有単量体;アクロレイン等のホルミル基含有単量体;
アリルアルコール、フタル酸ジアリル、 トリアリルシ
アヌレート、アクリル酸アリル等のアリル基含有単量体
;ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレ
ート等の架橋性単量体等を共重合することもできる。
本発明においては、ラテックスとしてバインダー・ピグ
メント・ラテックス又は両性ラテックスが好適に用いら
れる。
バインダー・ピグメント・ラテックスとは、有機顔料と
しての機能(光学特性向上)とバインダーとしての機能
を併有するポリマー粒子より成るラテックスである。バ
インダー・ピグメント・ラテックスの構造としては漱す
スチレンを核とし、スチレン・ブタジェン共重合体を殻
とする2層構造のものが知られており(紙パルプ技術協
会紙第43巻第2号159−166.1989)、また
、バインダー・ピグメント・ラテックスの製造方法は、
特公昭57−26692、特公昭62−31工15、特
開昭54−131013、特開昭55−45724、特
開昭63−303195等に開示されているが、本発明
でいうバインダー・ピグメント・ラテックスは製造方法
、粒子構造の如何を問わない。
また、両性ラテックスとはラテックスのポリマー粒子が
アニオン性官能基による負電荷とカチオン性官能基によ
る正電荷とを併存しているラテックスをいう。両電荷を
付与する方法としては、ラテックスの乳化剤としてアニ
オン界面活性剤及びカチオン界面活性剤を併用する方法
、これらに更に両性界面活性剤を併用する方法、あるい
は共重合体中に負電荷を与える不飽和カルボン酸等と正
電荷を付与する不飽和ア主ン類とを共重合する方法等が
あるが、これらに限定されない。両性ラテックスの製造
方法の例としては、特公昭6王−39334に開示され
ている方法を示すことができる。
両性ラテックスの合成に使用できるアニオン性官能基含
有単量体の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸
、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、マレイン酸等の
不飽和カルボン酸:イタコン酸モノエチル、フマル酸モ
ノブチル、マレイン酸モノブチル等の不飽和ジカルボン
酸のモノアルキルエステル;アクリル酸スルホエチルナ
トリウム塩、メタクリル酸スルホプロピルナトリウム塩
等の不飽和スルホン酸又はそのアルカリ塩等を示すこと
ができる。他方、カチオン性官能基含有単量体としては
、ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ターシャ
リ−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート等のエチレン系不
飽和カルボン酸のアよノアルキルエステル;メチルアミ
ノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチ
ル(メタ)アクリルアミド等のエチレン系不飽和カルボ
ン酸のアミノアルキルアミド:アミノエチルビニルエー
テル、メチルアミノエチルビニルエーテル等のアミノア
ルキルビニルエーテル:2−ビニルピリジン、2−メチ
ル−5−ビニルピリジン、2,4−ジエチル−5−ビニ
ルピリジン等のビニルピリジン類等のエチレン系不飽和
アミン単量体を例示することができる。
更に、本発明の効果を損なわない限り、ラテックスに澱
粉、カゼイン、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子
類を併用してもよい。
本発明においては、0.5〜5eVの禁止帯幅を有する
光反応性半導体の100重量部に対して、固形分換算で
20重量部未満、工重量部超のラテックスを使用する。
固形分換算したラテックスの重量が20重量部以上では
、バインダーが光酸化反応の活性部位である光反応性半
導体粒子表面を覆ってしまう。他方、1重量部以下では
、該半導体がシートから剥離しやすくなる。
また、光反応性組成物を調製するに当たって、必要なら
ば、分散剤、保水剤、消泡剤等を添加してもよい。更に
、白金、パラジウム、銀、銅等の貴金属をこの段階で混
合することもできる。
本発明の光反応性半導体担持シートは、ラテックスに光
反応性半導体を添加混合して得られる光反応性組成物を
シートに担持させ、必要ならば加熱F:燥することによ
り得ることができる。担持の方法は、特に限定されない
が、エアーナイフコーター、ブレードコーター ロール
コータ−ゴムドクトルコーター カーテンコーター等の
各種コーターを使用してシートに光反応性組成物を塗布
する方法、スプレーする方法、光反応性組成物にシート
を浸漬する方法を例示することができる。′加熱乾燥の
条件は、光反応性組成物から実質的に揮発性成分を除去
させることができれば特に制限されない。
本発明の光反応性半導体担持シートを加工してフィルタ
ー構造体とすることができ、このものは光反応の効率が
よいので本発明の目的に適している。フィルター構造体
の構造としては、平膜状、ハニカム状、金網状、アコー
デオン状、゛ウレタンフオーム状を例示することができ
る。
〔発明の効果〕
本発明の光反応性半導体を担持させたシートを用いれば
、硫黄酸化物、窒素酸化物、炭化水素化金物、ハロゲン
化合物等種々の有害物質を同時に迅速に効率よく除去す
ることができ、しかも長期間、光反応性半導体の反応活
性が落ちない。
本発明の方法は、安全性が高く、適用できる有害物質の
範囲が広く、システム化が簡単なため、産業的に極めて
有用である。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。な
お、実施例中の部及び%は特に断りのない限り、重量基
準である。また、表中の「半導体/ラテックス」は、光
反応性半導体重量/固形分換算ラテックス重量比率を示
す。
製造例1 実施例1〜6に用いる試料片作成用の光反応性組成物を
以下の処方により作製した。
処方 光反応性半導体       100   部デモール
EP (20%水溶液、花王社製)   0.25zzNaO
H(工O%)        o、15ttラテツクス
(固形分換算)     10水          
       335    //なお、使用したラテ
ックスを第1表に示した。
使用した光反応性半導体は市販の、二酸化チタン、三酸
化タングステン、酸化亜鉛、酸化セリウムである。
[以下余白コ [以下余白] 第 1 表 製造例2 実施例4における対照測用の光反応性組成物を以下の処
方により作製した。
処方に 酸化チタン          100部ウレタン系粘
着剤(M電化社製)  10〃n−ヘキサン     
     100 II処方2 二酸化チタン          100部ポリビニル
アルコール(pvA) (日本合成化学社製)   10〃 n−ヘキサン          100II実施例1 ラテックスNo、3〜5を使用して製造例工に従って作
製した光反応性組成物を塗被g紙上に塗被量がl067
m2になるようにアプリケーターバーを用いて塗工し、
塗工直後110℃の熱風で30秒間乾燥した。得られた
塗工紙を1 、5 an X5cmに切断して作成した
試料片(重量0.25g)2枚を80+nlのパイレッ
クス製三角フラスコ内に投入し、第2表に示す初濃度の
エチレンを含む空気で置換した後、シリコンゴム製ゴム
栓で密閉した。次に三角フラスコから20cmの距離に
設置された超冨圧水銀灯(照度10mW/cr’、主波
長385nm)を点灯し、容器内のエチレンの濃度の経
時変化をガスクロマトグラフィーで追跡した(実験番号
IA〜1D、2A〜2D)。
また、比較のために試料片を投入しない系についても同
様の試験を行なった(実験番号IE、2E)、結果を第
2表に示した。
なお、ラテックスN005については、光反応性組成物
の剥離が激しいのでエチレン除去率の測定を行なわなか
った。
第2表の結果から、本発明の光反応性半導体を担持させ
たシートを使用したときは、紫外線照射下でエチレンを
迅速に除去できることが分かる。
[以下余白] 実施例2 ラテックスN083を使用して、第3表に示す各種有害
物質の除去性能評価を実施例2と同様に行なった。
その結果を第3表に示した。
第3表の結果から、本発明の光反応性半導体を担持させ
たシートを使用することにより、紫外線照射下で各種有
害物質を迅速番と除去できることが分かる。
[以下余白コ 実施例3 ラテックスN003を使用して製造例1に従って作製し
た光反応性組成物を不織布及び多孔質ウレタンシート上
に担持量が工OOg/m2になるようにアプリケーター
バーを用いて塗工し、塗工直後上10℃の熱風で30秒
間乾燥した。
このシートを 工、5cmX5cmに切断して得た試料
片(重量1’g)を使用して実施例1と同様のエチレン
除去実験を行なって得られた結果を第4表に示した。
第4表の結果から、光反応性半導体を担持させるシート
として不織布又は多孔質ウレタンシートを用いてもエチ
レンを迅速に除去できることが分かる。
c以下余白コ 実施例4 ラテックスNo、3と二酸化チタンとを使用して実施例
3と同様にして作成した不織布、製造例2に示した処方
1及び2に従って作製した光反応性組成物中にウェブを
浸漬して作成した不織布(なお、PVA使用のシートの
乾燥は110℃の熱風で2時間とし、ウレタン系粘着剤
使用のシートは60℃で24時間の真空乾燥を行なった
。)について実施例3と同様のエチレン除去実験を行な
った。なお、不織布試料片の重量はいずれも1gである
結果を第5表に示した。
第5表の結果から、バインダーとして本発明に規定する
ラテックスを使用した場合に比べて、ウレタン系粘着剤
あるいはPVAを使用した場合は。
エチレン除去効率が大幅に劣ることが分かる。
[以下余白コ 第5表 *1ニラテックスN013 木2:ウレタン着剤着剤(M電化社製)実施例5 光反応性半導体として二酸化チタンを、ラテックスとし
てN013を用いて光反応性半導体/ラテックス(固形
分換算)重量比を10.5.1と変化させて実施例3と
同様にして得た光反応性半導体担持不織布(重ffi1
g)について、エチレン及びメチルメルカプタンの除去
性能を実施例3と同様の方法で測定し、その結果を第6
表に示した。
第6表の結果から、光反応性半導体/ラテックス(固形
分換算)重量比率が1以下のときは、有害物質の除去性
能に劣ることが分かる。
実施例6 最低造膜温度の違うラテックスNo、1〜3及び5で光
反応性半導体を担持させた(光反応性半導体/固形分換
算ラテックス重量比=10)紙を1.5cmX5cmに
切断し、それぞれの試料片(重量0.2g)について、
セロハンテープを接着させ、ついでこれを剥がした際に
セロハンテープに付着する光反応性半導体の多寡を比較
したところ、第7表に示したように最低造膜温度が60
℃以上のNo、5を使用したシートについて光反応性半
導体の剥がれが著しかった。
[以下余白] 第 7 表 ングで固定してフィルターを作成した0次に、フィルタ
一部を20cmの耗離から超高圧水銀灯(実施例1で使
用したものに同じ。)で照射した。
この状態で一方のフィルターの脚部から、第8表に示す
初濃度の有害成分を含む空気を注射器により注入し、他
方のフィルターの脚部から出てくる空気中の有害成分の
濃度をガスクロマトグラフィーで測定した結果を第8表
に示した。
(注)テストは3回繰り返した。
○:半導体が剥がれない。
Δ:半導体が少し剥がれる。
X:半導体が大部分剥がれる。
実施例7 実施例3と同様にして作成した二酸化チタン担持不織布
を不織布重量0.5g、二酸化チタン重量0.1gにな
るように、はぼ直径5cmの円形に切断した試料片をパ
イレックスガラス製ロート2個の上端部同士で挟んでこ
の2個のロートをスプリ第8表

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)0.5〜5eVの禁止帯幅を有する光反応性半導
    体を表面に担持させたシートにおいて、該半導体を最低
    造膜温度が60℃以下であるラテックスを用いて担持さ
    せたことを特徴とする光反応性半導体担持シート。
  2. (2)0.5〜5eVの禁止帯幅を有する光反応性半導
    体100重量部と、固形分換算で1重量部超、20重量
    部未満のラテックスとを含有する光反応性組成物をシー
    ト表面に担持させることを特徴とする請求項(1)の光
    反応性半導体担持シートの製造方法。
JP1212453A 1989-08-18 1989-08-18 光反応性半導体担持シート及びその製造方法 Expired - Fee Related JP2821695B2 (ja)

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