JPH0373428U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0373428U JPH0373428U JP13505389U JP13505389U JPH0373428U JP H0373428 U JPH0373428 U JP H0373428U JP 13505389 U JP13505389 U JP 13505389U JP 13505389 U JP13505389 U JP 13505389U JP H0373428 U JPH0373428 U JP H0373428U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- exposure apparatus
- calibrator
- exposure
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
Description
第１図ａとｂは本考案の露光装置に装備される
キヤリブレータの一実施例を示す側断面図と平面
図、第２図は本考案による露光装置の構造上の特
徴を示す要部側断面図、第３図は基板の基本構成
を示す模式的側断面図、第４図は露光装置の従来
構成を示す要部側断面図、第５図ａとｂとｃとｄ
は基板の露光工程を説明するための模式的側断面
図である。 図において、１は基板、２はフオトレジスト、
３は盛り上がり部、５と１０はキヤリブレータ、
６はマスクホルダ、７はフオトマスク、８は基板
保持部、８ａは凸部（球形の凸部）、９は昇降台
、９ａは凹部（凸部８ａ対応に形成された凹部）
、１５は突起部、２０は光線、Ｇは露光ギヤツプ
、Ｋは基準面、ｈは盛り上がり部の高さ、Ｈは突
起部１５の高さ、をそれぞれ示す。
キヤリブレータの一実施例を示す側断面図と平面
図、第２図は本考案による露光装置の構造上の特
徴を示す要部側断面図、第３図は基板の基本構成
を示す模式的側断面図、第４図は露光装置の従来
構成を示す要部側断面図、第５図ａとｂとｃとｄ
は基板の露光工程を説明するための模式的側断面
図である。 図において、１は基板、２はフオトレジスト、
３は盛り上がり部、５と１０はキヤリブレータ、
６はマスクホルダ、７はフオトマスク、８は基板
保持部、８ａは凸部（球形の凸部）、９は昇降台
、９ａは凹部（凸部８ａ対応に形成された凹部）
、１５は突起部、２０は光線、Ｇは露光ギヤツプ
、Ｋは基準面、ｈは盛り上がり部の高さ、Ｈは突
起部１５の高さ、をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 マスクホルダ６を装備してなるフオトマスク７
と、フオトレジスト２が塗布された基板１を保持
する基板保持部８と、該基板保持部８を保持して
上下方向に移動する昇降台９と、前記フオトマス
ク７と基板保持部８上に載置された前記基板１間
に所定の露光ギヤツプＧを形成せしめるキヤリブ
レータ１０とを装備してなる露光装置であつて、 前記キヤリブレータ１０の前記基板１と対向す
るがわの面に、前記露光ギヤツプＧを補正するた
めの突起部１５が形成されてなることを特徴とす
る露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13505389U JPH0373428U (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13505389U JPH0373428U (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0373428U true JPH0373428U (ja) | 1991-07-24 |
Family
ID=31682344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13505389U Pending JPH0373428U (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0373428U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007159594A (ja) * | 2003-12-04 | 2007-06-28 | Norihiko Arita | 液体供給機構 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153740A (en) * | 1981-04-09 | 1981-11-27 | Fujitsu Ltd | Calibrating method for mask |
| JPS56169330A (en) * | 1980-05-31 | 1981-12-26 | Toshiba Corp | Clearance providing device |
| JPS59161820A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-12 | Toshiba Corp | マスク合せ装置 |
-
1989
- 1989-11-20 JP JP13505389U patent/JPH0373428U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169330A (en) * | 1980-05-31 | 1981-12-26 | Toshiba Corp | Clearance providing device |
| JPS56153740A (en) * | 1981-04-09 | 1981-11-27 | Fujitsu Ltd | Calibrating method for mask |
| JPS59161820A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-12 | Toshiba Corp | マスク合せ装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007159594A (ja) * | 2003-12-04 | 2007-06-28 | Norihiko Arita | 液体供給機構 |
| JP4603004B2 (ja) * | 2003-12-04 | 2010-12-22 | 典彦 有田 | 液体供給機構 |